NCD多功能原子层刻蚀系统Lucida M200PL_价格_南京伯奢咏怀电子科技有限公司

产品详情

ALE(Atomic layer etch)和ASD(area selective deposition)设备.

-设备由2个Process module 和传送用 Transfer module 构成的 Cluster type。并使用工艺整合一体化程序.
-拥有500℃以上高温及臭氧和等离子工艺能力,专为开发半导体元件的次世代的设备.
ALE(原子层刻蚀)设备区别ALD(原子层沉积)设备是一款可利用原子层单位刻蚀沉积膜的设备,ASD(区域选择沉积)区别ALD(原子层沉积)则是选择性指定区域原子层沉积的设备.

目前很多学校,研究所以及企业采用ALE和ASD工艺积极研发未来最尖端集成元件.

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型号：	Lucida M200PL
产地：	韩国
品牌：	NCD
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