QSense用户会议精彩回放 | 使用QCM-D 进行清洁研究 ——为什么耗散因子很重要

2024-01-04 10:05  下载量:0

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报告亮点阐述: 清洁配方涉及多种具有不同用途的成分。为了改进这种配方,首先需要深入了解并量化每种成分的作用。耗散型石英晶体微天平(QCM-D)能揭示实现良好清洁结果所需的不同过程和机制,并实时量化其效果,是解决这一问题的理想工具。 本次报告将介绍针对不同配方成分进行的三项研究,描述QCM-D如何提供有洞察力的数据,帮助我们了解其中的基本机制。 案例一:研究描述高分子刷的防污作用,如何有效防止污垢在表面上发生沉积或重新沉积。 案例二:研究涉及不同基材对洗涤剂配方清洁性能的影响,以及如何将耗散因子纳入数据分析程序中。 案例三:将耗散因子作为主要指标,评估自动洗碗应用中不同配方的防结垢性能。 报告人:Matthias Kellermeier 博士,表面与界面专业领域负责人,德国巴斯夫集团; Matthias Kellermeier 博士在康斯坦茨大学完成博士后项目,专注于自组装原理、矿物成核和生长的基本机制研究。他以研究科学家的身份加入德国巴斯夫集团材料物理部门,目前负责领导一个专家团队,致力于表面和界面表征工作,他同时也是大型 QCM-D 实验室的负责人。

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