制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备
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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

参考价:¥5万 - 10万
型号: SiNx-PECVD
产地: 美国
品牌: MVSystems
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核心参数
上海瞬渺光电技术有限公司
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产品详情

用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS

Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells

Throughput: >475 wafers/hr

SiNx uniformity: < ?5%

产率:>475硅片/小时。

氮化硅膜不均匀性:< 5%。




制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备信息由上海瞬渺光电技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备外,上海瞬渺光电技术有限公司还可为您提供热丝CVD设备HWCVD MVS、PECVD MVS等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。
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