PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪
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PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪

参考价:面议
型号: 5000 Versaprobe II
产地: 日本
品牌: PHI
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核心参数
上海禹重实业有限公司
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产品详情

X 射线光电子能谱(XPS)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束(一般会使铝阳极或镁阳极)作为入射源,照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能,再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能,从而也就可知道样品表面是何物质。

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析,样品例子如催化剂,金属和电子设备,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和组织等等。

VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力,包括扫描和聚焦 X 射线,专利的离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪;另有可选项配置C60离子枪,提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力;另外,一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”的能力,可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。最后,全新的操作界面SMARTSOFT-XPS,提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中,对VP-II 的性能有着明显的提高。

PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪信息由上海禹重实业有限公司为您提供,如您想了解更多关于PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪外,上海禹重实业有限公司还可为您提供赛默飞TRACE 1300 模块化气相色谱仪、赛默飞TSQ 8000 Evo三重四极杆气质质联用仪等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。
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