| 型号： | PL600 |
| 产地： | 丹麦 |
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EZI UV Nanoimprint System PL600
EZI 紫外曝光纳米压印系统
EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.
EZImprinting是一种超高产率（> 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。
特点：
? 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理
? 低于10纳米分辨率，产率高达99％
? 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量最大化
? 支持各种类型的硬模和软模
? 可变模具和基材尺寸，灵活方便
? 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面
? 对准功能选项
? 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等
? 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容
PL600
基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区： 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
压印压力: 1 psi标准
模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟
对准功能: x，y，z和theta（精度2um）
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