型号: | TriboLab CMP |
产地: | 美国 |
品牌: | 布鲁克 |
评分: |
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产品简介:
TriboLab CMP 利用其前身产品 (Bruker CP-4) 超过 20 年的 CMP 领域专业知识,为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具,可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。
产品参数:
TriboLab CMP | |
测量能力 | 桌面型化学机械抛光测试平台 |
系统属性 | 集成高速/大扭矩旋转马达 |
同服控制精准加载载台;电动定位水平载台 | |
负载/摩擦力传感器,用于抛光和抛光垫修正负载控制,测量和记录原位声发射和温度测量与记录 | |
机械零件的腐蚀防护;可编程双泵和冲洗泵系统 | |
软件 | 布鲁克 CMP 操作和数据分析软件 |
电脑系统 | Windows7,32位操作系统,2GB内存,>250GB硬盘 |
垂直定位系统 | 最大行程:100mm |
分辨率:0.5um | |
速度:0.001-10mm/s | |
水平定位和移动系统 | 最大行程:75mm |
分辨率:0.25um | |
速度:0.001-10mm/s | |
晶圆头 | 转速:1-500rpm |
2英寸晶圆头压强范围:0.29-29psi | |
4英寸晶圆头压强范围:0.07-7.2psi | |
其它尺寸品圆头压强范围:0.9-90psi(4-400N) | |
分辨率:20mN | |
底盘 | 转速:1-500rpm |
底盘尺寸:直到9in(228mm) | |
修正器 | 加载范围:2-200N |
分辨率:10mN | |
修正头尺寸:直到4.25 in | |
扭矩能力 | 5Nm,100RPM;2.5Nm,500RPM |
温度测量 | -25-1000℃ |
声发射响应范围 | 0.2-5.0MHz |
可编程泵(选项) | 流速:2.2-480mL/min |
电源要求 | 220VAC.2.5kW |
系统尺寸 | 394mm(宽)x610mm(深) x775(高) |
产品特点:
专业的研发用小型CMP系统
全面再现晶圆抛光工艺条件
提供无与伦比的测量重复性和细节
使用小晶片而不是整个晶圆作测试,节省大量成本
在线实时诊断,可以更好地了解抛光过程
更好地观测瞬时抛光特性
收集整个测试过程的数据,从晶圆基底接触抛光垫开始到测试结束
提供更完整、更详细的数据,帮助工艺开发早期做决定
灵活的样品类型、尺寸、和安装配置提供最广泛的适用性
可抛光任何平面材料,使用任何修正盘,抛光液和抛光垫
可容纳小晶片到100mm 晶圆,接受多样品夹具
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