纳米研磨仪

p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 8月17日，广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目单一来源采购公示》，拟采购单一来源的CMP设备。 /p p 一、项目信息 /p p & nbsp & nbsp 采购人：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院 /p p & nbsp & nbsp 项目名称：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目 /p p 拟采购的货物或者服务的说明： /p table style=" border-collapse:collapse " tbody tr class=" firstRow" td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 49" valign=" top" & nbsp 包号 /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 161" valign=" top" & nbsp & nbsp & nbsp 货物名称 /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 67" valign=" top" & nbsp & nbsp 数量 br/ /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 163" valign=" top" & nbsp & nbsp 采购预算（人民币） /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 123" valign=" top" 最高限价（人民币） /td /tr tr td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 49" valign=" top" & nbsp & nbsp & nbsp 1 /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 161" valign=" top" & nbsp 化学机械研磨机（CMP） /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 67" valign=" top" & nbsp & nbsp & nbsp 1 /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 163" valign=" top" & nbsp & nbsp & nbsp 1700万元 /td td style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width=" 123" valign=" top" & nbsp & nbsp 1200万元 /td /tr /tbody /table p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp CMP过程是一个动态的微细加工过程，通过化学腐蚀和机械力共同作用实现对待抛光面材料表面的平滑处理。在该过程中，抛光液中的化学组分与待抛光面材料发生反应，在待抛光材料表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物 而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对待抛光材料表面进行微量去除。此外，抛光过程抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。在高端TC-SAW器件的制备过程中，叉指电极的表面粗糙度、以及叉指电极的图案化，在后续的材料生长过程中，由于保型性，最终的覆盖层上表面不是一个平整的表面，会导致波的覆盖层表面的传播特性受到影响，所以，必须要对覆盖层的上表面进行平坦化处理。另外，电极层、以及表面覆盖层的厚度也要精确的控制，从而实现对于器件频率一致性的精确控制。CMP加工的过程中，主要关注的参数包含设备参数、研磨液参数、抛光垫参数、CMP对象薄膜参数等。CMP是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进技术于一体的设备，是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。为了完成本项目，急需采购符合相关技术指标的化学机械研磨机。 /p p 拟采购的货物或服务的预算金额：1700.0 万元（人民币） br/ /p p 采用单一来源采购方式的原因及说明: /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp （1）、采用单一来源采购方式的原因及相关说明： /p p 化学机械抛光（CMP）是芯片制造的五大关键技术之一，其装备与工艺技术在国内长期处于空白。国内近年来也取得了较大的进步，如华海清科等公司只有8寸机， 6寸机需要定制，加价幅度较大（没有明确），没有6寸铌酸锂/钽酸锂工艺经验。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 尽管中国大陆地区的CMP设备市场规模较大，但高端CMP设备均依旧依赖于进口，前三大厂家应材公司、荏原公司、东京精密。应用材料的CMP设备是8寸制程开始，6寸制程现阶段只有研磨头，不配备清洗功能，且没有SAW滤波器的经验。荏原（Ebara）公司的CMP设备，有6寸支撑，至今为止，还未在大陆的SAW滤波器厂家有过购买使用经验，国能销售以及技术支持团队不能保证碎片率。东京精密的CMP设备在SAW滤波器行业具有广泛的应用，国外如村田、太阳诱电、RF360等高端滤波器厂家，都在使用其相关设备。 /p p TC-SAW器件对于CMP工艺的要求较高，一直也是国内滤波器产业需要突破的技术难题，必须要求厂家具有相关的经验，且对设备具有相关的改造经验。经详细调研，东京精密的CMP设备在SAW滤波器厂家具有广泛的应用，且能够满足研发需求，所以，申请单一来源。 /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp （2）各专家对相关供应商因专利、专有技术等原因具有唯一性的具体论证意见，专家的姓名、工作单位和职称： /p p 专家1：姓名 蒋侬辉 工作单位 广东农科院 职称 副研 意见： 同意 /p p 专家2：姓名 丘麒 工作单位 华南农业大学 职称 高工 意见： 同意 /p p 专家3：姓名 袁敏 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见： 同意 /p p 专家4：姓名 严丽 工作单位 广东轻工职业技术学院 职称 高工 意见： 同意 /p p 专家5：姓名 姚宇江 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见： 同意 /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp （3）专家小组综合意见： /p p 该项目采购设备之化学机械研磨机（CMP），经市场调研，满足采购人技术需求的供应商只有一家，为满足采购人的科研需求，建议使用单一来源采购方式进行。 /p p 二、拟定供应商信息 br/ /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 名称：苏州阿尔泰克电子科技有限公司 /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 地址：苏州高新区科发路101号520室 /p p 三、公示期限 /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 2020年08月17日 至 2020年08月24日 （公示期限不得少于5个工作日） /p p 公告链接： a href=" http://www.ccgp.gov.cn/cggg/dfgg/dylygg/202008/t20200817_14846803.htm" target=" _blank" 中国政府采购网 /a /p p br/ /p

“纳米”是最近的热门话题，因为纳米颗粒的产品渐渐成为我们日常生活的一部分。例如，遮光剂、纺织品、药物或油漆类都含有超细颗粒，纳米技术能够明显改善这些产品的性质。 RETSCH（莱驰）一直关注纳米技术！新上市的高能球磨仪革命性的设计使它能在极短的时间将样品研磨至纳米级。 Emax 作为一台高能量的新型球磨仪，转速高达2000min-1，结合特殊设计的研磨罐使用，产生巨大的研磨能量，撞击力、摩擦力和循环的研磨罐运动为短时间的高效研磨提供条件，创新的水冷系统，避免长时间高速运行产生的热量影响样品。所以Emax 适合于持续研磨，有别于其他球磨仪，无需停止运转冷却。 高能量的输入，独特的冷却系统，为机械合金制备和胶体的纳米研磨提供最佳条件！ 德国品质的Emax 设计特别注重操作安全，研磨罐的位置自动受到监控，如果放置不规范，实验是无法进行的。Emax 操作无需配重，系统即时监控失衡状况。如果失衡超过可控范围，设备会自动停止运行。剩余操作时间会显示，一旦平衡恢复可以随时重启程序。 欲知更多Emax详情，请登录官方网站www.retsch.cn/emax 2014年9月24日，Emax将现身Analytica China上海慕尼黑生化展（龙阳路新国际博览中心），展位号N2 2310，欢迎参观！

SPEX MIXER/MILL® 8000系列高能球磨仪可将坚硬或易碎样品粉碎至可分析细度，部分样品研磨精度可达纳米级别。采用独家专利的∞式三维立体运动模式研磨，360°立体无死角，非正反转方式，可以在最短的时间内向样品输送最高的机械能量，为目前世界上所有球磨仪中能量最高、速度最快的球磨机。SPEX以其在球磨机研发和生产超过60年的经验以及在球磨机创新领域所做出的突出贡献，成为美国球磨机行业标准的制定者。SPEX高能球磨仪可用于岩石、矿物、金属合金、陶瓷、催化剂、玻璃、沙子、水泥、炉渣、医药、植物和动物组织、谷物、种子、油漆和油墨、电子、RoHS样品等分析用样品研磨。 下文将介绍SPEX高能球磨仪用于分析纳米晶体材料中的颗粒尺寸效应。该应用源自: S. Indris, D. Bork, P. Heitjans, J. Mater. Synth. Process 8, 245 (2000),经汉诺威大学物理化学和电化学研究所P.Heitjans教授同意。原文献阅读请联系科尔帕默公司。✦ ++高能球磨法制备纳米晶氧化陶瓷SPEX 高能球磨仪分析纳米晶体材料中的颗粒尺寸效应需要一种可以调节颗粒尺寸的技术。在本研究中，使用球磨机(8000M Mixer/Mill® , SPEX SamplePrep；配备有氧化铝和氧化锆小瓶)。球磨特别适合这项任务，因为它易于使用，并允许研磨相对大量的材料以及各种不同的材料。分析介质为：Li2O、LiNbO3、LiBO2、B2O3、TiO2和Li2O：B2O3混合物。通过研磨时间测定平均粒径，随后通过X射线衍射（XRD）和透射电子显微镜（TEM）进行分析。选择含锂材料是因为它们作为固体电解质的潜在用途。TiO2在用作光催化剂方面是令人感兴趣的。对于吸湿性材料，在氩气气氛中填充氧化铝研磨瓶并将其放入密封的不锈钢容器中。► 颗粒大小不同的氧化物表现出不同的研磨特性，但最小粒径约为在研磨8至10小时后获得20nm.通过XRD分析和TEM数据确定颗粒尺寸。差示扫描量热法（DSC）表明，纳米晶样品是亚稳态的，加热导致颗粒生长。在烧结过程中，当要生产固体致密陶瓷时，要考虑到这一点。其他研究小组先前的研究表明，两步烧结特别适合在第二步中使用较低的温度。通过两种方法分析，TiO2在研磨过程中发生了部分相变。当进行球磨时，包含另外杂质的金红石以较小粒径的纯金红石（不含杂质）形式获得。► 化学反应陶瓷组分的混合和随后的压制产生具有多个不同边界层的材料。这种不同界面的晶格可以通过改变颗粒尺寸来改变。在分析Li2O∶B2O3的50∶50混合物的过程中，检测到由于该化学-机械过程引起的化学变化。在短时间后，用XRD分析仅检测到原始化合物的谱线，而在4小时后出现新的谱线。新形成的产物是Li2B4O7。这表明反应的最终产物并不取决于混合物的组成，而是取决于边界层的条件。► 结论高能球磨特别适用于颗粒尺寸的减小以及后续化学和物理变化的研究。颗粒尺寸减小和随后生长的特征与所有分析的氧化物相似。开始时微晶材料没有发生化学反应，经过研磨后：一些材料表现出相变；另一些材料则表现出化学反应。更多推荐：SPEX8200高能行星式球磨机Spex 8200行星球磨机通过机械运动研磨样品，沿一个方向旋转震击器，而平台（太阳轮）沿相反方向旋转。机械磨具以2:1的比例进行，使容器相对于太阳轮的每一次旋转旋转两次。当容器移动时，相对离心力被传递到磨球上，使磨球以圆周运动的方式相互移动，并抵靠容器壁，从而研磨样品。