薄膜扭粘定仪

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薄膜扭粘定仪相关的厂商

  • 杭州牛墨科技有限公司作为省市及国家重点支持的高新科技企业,通过对“德国柏林大学国家石墨烯研究院和中科院石墨烯新材料研究所”的核心技术理论进行深度研发。经过多年研发,牛墨科技以“诺贝尔获奖新材料——少层石墨烯”作为发热导热材料,成功将其应用于家庭采暖、工业化冰、农业恒暖等领域,并获得多项国际国内发明专利。 牛墨科技不但是中国石墨烯应用的标准制定者和领导者,还是欧标国际采暖联盟中国唯一副理事单位,是国际上第三代石墨烯油性浆料的发明者及首推者。
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  • 公司实验室一批二手仪器,保养得当。
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薄膜扭粘定仪相关的仪器

  • 产品特点:最适合易产生气泡、且易热变的物质的浓缩。产品参数回转速度范围: 140~1200rpm(无级变速) 蒸发能力: 1140mL/h(水&bull 温水70℃循环) 到达真空度: 真空泵能力+133.3Pa(1Torr) 温度设定范围: 室温+5~180℃(MF-10C) 旋转设定· 显示: 薄膜式按键输入设定· 数字显示 旋转轴防滑垫: 真空防滑垫 蒸发管: 水套加热式,蒸发面积0.04立方米(MF-10A&bull B) 冷凝器: 直立式二重蛇形管,冷却面积0.3平方米 加热部分: A、B型需另购外部恒温槽,C型800W石英加热器 回收瓶: 1L× 2(带排液旋塞) 外部尺寸· 重量: 625W× 400D× 1416H· 约40kg 产品特点:1、薄膜浓缩装置主要用于高粘度物质、易发泡物质及热敏感物质的浓缩、精制,浓缩效率高;2、MF-10系列薄膜蒸发装置的旋转叶片与大扭矩固定直流无刷马达直接相连,可以浓缩高粘度试料;3、蒸发管材质为透明硬质玻璃,可观察浓缩状态;4、MF-10C型使用覆套式电阻加热器及不锈钢制蒸发管,使用于高温实验。最高设定温度可至180℃;5、MF-10B型带有液面传感器,可以控制试料注入量。
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  • 柔性材料与器件测试系统--薄膜扭转一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向,触发了新形态电子设备的产生。然而,电子材料与器件由刚向柔转变过程中,传统的刚性测试方法变得无法完全适应,而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中,尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段,发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统,对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 高可靠性(百万次)样品自适应性 (过程中受拉力相同,无弯折)可扩展性(光学、电学性能测试辅助系统) 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、平面可穿戴产品、柔性印刷电路、扁平电缆等柔性材料与器件的扭转测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度(mm)0-1样品大小(mm2)Max(210* 300)弯曲角度(° )0-90°弯曲力(N)5.0弯曲速度( ° /s)0-1080重复次数(次)10000000重量(Kg)16 六、产品尺寸
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  • No.604 薄膜扭转试验机 400-860-5168转2639
    No.604 薄膜扭转试验机No.604 FILM TORSION TESTER 产品介绍:该试验机用于测定塑料薄膜和配线板的扭动强度。固定试验片的两端,任意施加张力以任意的角度让可动的手柄扭转。
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薄膜扭粘定仪相关的资讯

  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的HenrySnaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制
  • 分子束外延占主流——共享化合物半导体薄膜沉积与外延设备盘点
    随着半导体市场,,特别是化合物半导体市场的逐步开放和增长,作为化合物半导体研发中相关材料制备的关键仪器,MBE、MOCVD等薄膜沉积与外延设备的市场也在逐年增长和扩大中,不论是海外品牌还是国产品牌,近几年的市场规模都在逐年扩大。由于高校的管理模式及制度,这些仪器设备大多养在“深闺”,大量科研资源潜能没有得到充分发挥。为解决这个问题并加速释放科技创新的动能,中央及各级政府在近几年来制订颁布了关于科学仪器、科研数据等科技资源的共享与平台建设文件。2021年1月22日,科技部和财政部联合发布《科技部 财政部关于开展2021年度国家科技基础条件资源调查工作的通知(国科发基〔2020〕342号)》,全国众多高校和科研院所将各种科学仪器上传共享。其中,对化合物半导体薄膜沉积与外延设备的统计分析或可一定程度反映科研领域相关仪器的市场信息(注:本文搜集信息来源于重大科研基础设施和大型科研仪器国家网络管理平台,部分仪器品牌信息不全则根据型号等信息补全,不完全统计分析仅供读者参考)。共享化合物半导体薄膜沉积与外延设备分布北京市共享化合物半导体薄膜沉积与外延设备分布本次统计,共涉及化合物半导体薄膜沉积与外延设备的总数量为184台,涉及23省(直辖市/自治区),73家单位。其中,北京市共享设备数量最多达64台,占比35%,涉及14所高校院所,北京如此高的占比主要是由于其科研院所较多,产品也主要用于科研领域。共享仪器平台主要来自科研用户上传并服务于科研用户,也因此该类仪器设备主要分布于科研院所众多的北京市。从北京市的分布情况来看,其主要分布于高校集中的海淀区,该地区共有60台共享设备。化合物半导体材料制备设备主要有MBE和MOCVD。从统计中可以看出,MBE在科研领域中的占比较大,高达73%,MOCVD占比为21%。MBE由于其外延生长时间长,大批量生产性差,对真空条件要求高,目前还无法大规模用于工业化生产中,又由于其可原位观察单晶薄膜的生长过程等优势,主要用于进行生长机制的研究,图中比例仅代表科研领域中的分布情况。虽然MBE成膜质量好,但生产效率低,因此在工业领域中,MOCVD占据主流。不过近年来,众多厂商和科研人员一直在致力于MBE技术的产业化,信息显示,北京意莎普科技发展中心有限公司近年来在推进MBE分子束外延片研发及产业化建设项目。还有知情人士称,深圳地区有人做相关产业化,一次性买入几十台MBE,做2寸的晶圆,做出来多少,就有人收多少。相关仪器设备所属学科领域分布从仪器所属学科领域分布可以看出,这些仪器设备主要用于物理学和材料科学研究,占比分别为36%和32%。需要注意的是,以上统计存在交叉分布的情况,即该仪器同时属于多类学科领域,实际上材料科学和物理学研究具有很大的重合度。化合物半导体薄膜沉积与外延设备TOP5品牌MOCVD设备中Aixtron占比那么这些仪器主要有哪些品牌呢?整体来看,化合物半导体薄膜沉积与外延设备中,沈阳科仪、Aixtron和Omicron占比最高,其中沈阳科仪MBE和MOCVD产品均有涉及,Aixtron则聚焦MOCVD设备,Omicron聚焦MBE产品。MBE产品的品牌占比可参考【这类仪器本土品牌在崛起——全国共享MBE盘点】。进一步统计分析了MOCVD的品牌构成,发现MOCVD主要以德国Aixtron的产品为主,占比高达49%。需要注意的是德国Aixtron集团在英国有子品牌Thomas Swan,本次统计未归入Aixtron中。Aixtron是一家总部位于德国的欧洲技术公司,专门为半导体行业的客户制造金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备。2016年10月,中国福建大芯片投资基金LP希望收购Aixtron,但德国经济部撤回了对该收购的批准。Axitron与SemiLEDs在2009年5月就合作开发出6寸蓝光LED芯片,在6x6寸AIX 2800G4 HT MOCVD反应炉的结构上,产量增加约30%(相较于传统42x2-inch的架构),不但均匀性较好,也减少了边缘效应。不过就现阶段而言,大多数的困难仍然在于6寸的基板价格偏高与外延片切割技术的挑战。AIXTRON公司最先进的独特的行星转盘技术应用在大型G4 2800HT 42*2”以及Thomas Swan(1999年被AIXTRON收购) CCS Crius 30*2” MOCVD系统,使得Aixtron的MOCVD设备被公认为世界上技术和商业价值最完美的结合。设备品牌所属国家分布那么这些仪器主要来自于哪些国家呢?统计结果表明,此类产品以德国品牌居多,占比达32%,其次为国产品牌,可以看出中国产品正在崛起。本次统计主要涉及牛津、Aixtron、Thomas Swan、沈阳科仪、Emcore、中科宏微、Veeco、Omicron、TSST、SPECS、MBE-Komponenten GmbH、DCA、VG、Unisoku、SVTA、国成仪器、RIBER、Neocera、大连齐维科、上海实路、KurJ.Lesker、青岛精诚华旗、湖南顶立、EPGRESS等品牌。
  • 扫描NV探针技术!国仪量子助力中国科大&南京大学反铁磁薄膜磁成像研究
    本文转载自中科院微观磁共振重点实验室官网,有部分删减。 近日,中国科学技术大学中科院微观磁共振重点实验室杜江峰、石发展等人与南京大学聂越峰、杨玉荣小组在反铁磁薄膜扫描磁成像的实验研究中取得进展,利用金刚石氮-空位色心(简称NV色心)扫描显微镜对反铁磁BiFeO3的自支撑薄膜进行原位应力调控下的扫描成像。该研究成果以“Observation of uniaxial strain tuned spin cycloid in a freestanding BiFeO3 film”为题发表在Advanced Functional Materials上[Adv. Funct. Mater. 2023, 2213725]。BiFeO3(BFO) 是一种由于Dzyalonshinskii-Moriya相互作用具备摆线序的反铁磁材料。BFO内摆线序与应力的相互作用机制是该领域的一个研究重点。当前的相关研究均利用外延方法调控BFO材料中的应力,这种方法难以原位和连续地对应力进行调控。这使得磁-应力相互作用中的一些重要问题,如任意取向应力下磁序的变化、磁序相变附近的演化过程等在实验上难以开展研究。本工作中,研究者用分子束外延和可溶牺牲层的工艺制备了一种自支撑的BFO薄膜,并用扫描NV显微镜对应力调控下的薄膜进行了扫描磁成像。成像结果表明,在应变达到1.5%时摆线序扭转约12.6°。第一性原理计算表明,实验观测倒的磁序扭转在相应应力下能量最低。 图1. (a)、(b) 自由状态和1.5%应变状态下BFO的实空间扫描磁成像结果。(c)、(d) 扫描成像数据的傅里叶变换结果。(e) 自由状态和1.5%应变状态下傅里叶变换结果角分布统计结果显示12.6°的扭转。这一工作首次对BFO自支撑薄膜的磁序进行研究,原位调控和高空间分辨率的扫描成像技术提供了一种新的对磁-应力相互作用进行研究的思路。这一成果对反铁磁薄膜的理论研究以及新型磁存储器件的应用均有重要价值。图2.第一性原理计算得出的能量-摆线序周期关系曲线。摆线序方向平行于晶向的计算结果用蓝色曲线表示,与晶向夹角为7°、14°、18°、27°的能量曲线分别用不同颜色表示,见图例。计算结果表明,摆线序偏离14~18°的摆线序较为稳定。中科院微观磁共振重点实验室博士后丁哲、博士生孙豫蒙以及合作组博士生郑宁冲、马兴越为此工作共同第一作者,杜江峰院士、聂越峰教授和杨玉荣教授为此工作的共同通讯作者。该研究得到了科技部、国家自然科学基金委、中国科学院和安徽省等资助。论文链接:https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adfm.202213725CIQTEK量子钻石原子力显微镜在论文致谢中,作者提到:NV扫描探针由国仪量子提供(The NV scanning probe was provided by CIQTEK )。国仪量子目前已推出了商用的量子钻石原子力显微镜(扫描NV显微镜),这是一台基于NV色心自旋磁共振和AFM扫描探针技术的量子精密测量仪器,可实现样品磁学性质的定量无损成像,具有纳米级的高空间分辨以及单个自旋的超高探测灵敏度,是研究材料磁学性质的新利器,在磁畴成像、二维材料、拓扑磁结构、超导磁学、细胞成像等领域有着广泛应用。点此登记关注量子精密测量仪器

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  • TEM薄膜对粘样品制备

    从开始学电镜,一直做得是薄膜对粘样品,偶尔做粉末,陶瓷块体的,但是对粘样品到现在也没做出来几个满意的样品,先说下我的过程,对粘后两面磨到30um以下,以前钉薄过,但是总是不小心钉碎,就直接磨薄上PIPS了,PIPS先是4kev 6°打一段时间,后来改成4°,出洞后低能清损伤。我的经验是:(1)薄膜对粘时,涂的G2胶尽量少且均匀,最后电镜下看到中间胶的厚度为500nm左右,否则胶太多,PIPS时胶都把薄膜粘掉了。(2)样品对粘后磨第二面一定要小心,不能出现大的划痕,否则PIPS很容易碎掉。(3)用内孔径小一点的铜环或钼环支撑时不容易磨碎。(4)PIPS时有的样品加液氮会好一些目前想起来也就这些,大家能不能分享下各自的经验啥的,PIPS时用的能量大小,角度大小啥的,这个对粘样品太纠结了,总是出现各种状况,我做的样品,磨得时候还好,PIPS后,要么碎掉一块,就没有薄区,要么洞周围薄区很少,完美的样品没有几块。

  • 薄膜包衣技术难点及解决方案

    20世纪50年代初,第一个真正意义的薄膜包衣片在美国诞生了。从那时算起,薄膜包衣技术已经经历了半个世纪的发展。而我国起步较晚,20世纪70年代末,才陆续出现少数医药研究单位和药厂研制的各种包衣液和薄膜包衣工艺,并逐渐推广应用。到了20世纪90年代中期,我国才逐渐出现了薄膜包衣技术“热”。但是从整体上看,这项技术在我国的发展仍然比较缓慢。许多制药企业由于技术上的原因,在应用上仍旧存在着不少问题。在片心表面通过喷雾的方法均匀地喷上一层比较稳定的高分子聚合物衣料,形成数微米厚的塑性薄膜层,使之达到一定的预期效果,这一工艺过程称为薄膜包衣。应用薄膜包衣技术是制药行业的需求和发展趋势。有些人认为薄膜包衣片没有糖衣片好,没有糖衣片那么光亮,事实上薄膜包衣与传统的包糖衣技术相比,有许多优点,如包衣耗时短,更能防潮、避光,药物稳定性更强等。包薄膜衣必须改变过去包糖衣的观念,这一点非常重要。一直以来,一些制药企业把薄膜包衣技术简单地看做是片剂生产中的独立环节,包薄膜衣就像包糖衣一样只是单纯包衣。其实,并不是那么简单。作为一项新技术,包薄膜衣对片心的要求相对于包糖衣而言要严格得多,片的硬度要求较高,而且它对各个工序之间的相互配合、生产过程中的一系列技术指标及要求的调整和相互配套都有所要求。所以,必须本着科学、求实的态度来对待薄膜包衣技术的引进及应用,只有这样,包出的片才能达到理想的效果。良好的片心质量对薄膜包衣起到决定性的影响。有时片心的机械质量太差,就根本无法进行薄膜包衣,即使勉强进行,衣膜质量也很难保证。在所有影响片心机械性能的因素当中,片的硬度和脆碎度最为重要,而脆碎度又比硬度显得更为突出。一般而言,适合包薄膜衣的中药片硬度应该在5kg/cm3,西药片硬度应该在4kg/cm3左右。如何检查呢?最简单的方法是硬度计检测;或将一素片垂直向上抛2米,使之自由落地,两次以上不断裂者为硬度合格。检查脆碎度的简单方法是用手指用力刮片的边缘或片的表面,没有片粉脱落者为宜;另一个方法是将30片左右的素片置于250ml的玻璃杯中,用力摇两分钟左右,以片的表面、片的边缘不磨损者为宜。对于吸湿性大的素片,硬度要求则更高。应用薄膜包衣技术进行包衣时,不管是采用高效包衣机、流化床包衣机,还是发行的糖衣锅进行包衣,都应遵照如下原则:一是片心硬度要够硬,否则开始包衣时,片心与锅壁反复摩擦,将会出现松片、麻面等现象;二是片床温度要保持恒定;三是设备中溶剂蒸发量与喷液过程中带入的溶剂量要保持平衡,即溶剂蒸发与喷液速率处于动态平衡。片面平整、细腻的关键在于整个过程中要掌握锅温、喷量、转速三者之间的关系,这是薄膜包衣操作过程中的重中之重。操作时,包衣液的雾化程度直接影响包衣所成衣膜的外观质量,而喷液的雾化效果直接由雾化压力以及雾化系统决定。喷雾开始时,掌握喷速和吹热风温度的原则是:使片面略带湿润,又要防止片面粘连,温度不宜过度过低。若温度过高,则干燥太快,成膜容易粗糙,片色不均;若温度过低,或喷速过快,则会使锅内湿度过度高,很快就会出现片的粘连等现象。锅的转速与包衣操作之间的关系是:转速低,衣膜附着力强;转速高,衣膜附着力差,易剥落。包衣过程中,温度过低,喷量过大,片子流动滞留,则有可能会出现粘片现象。这时可加大转速使其改善,必要时还可适当调节温度和喷量、喷程等加以克服。在使用包衣粉质量不变的情况下,包衣操作中常出现的问题及解决的方法如下:1、粘片:主要是由于喷量太快,违反了溶剂蒸发平衡原则而使片相互粘连。出现这种情况,应适当降低包衣液喷量,提高热风温度,加快锅的转速等。2、出现“桔皮”膜:主要是由于干燥不当,包衣液喷雾压力低而使喷出的液滴受热浓缩程度不均造成衣膜出现波纹。出现这种情况,应立即控制蒸发速率,提高喷雾压力。3、“架桥”:是指刻字片上的衣膜造成标志模糊。解决的办法是:放慢包衣喷速,降低干燥温度,同时应注意控制好热风温度。4、出现色斑:这种情况是由于配包衣液时搅拌不匀或固体状特质细度不够所引起的。解决的方法是:配包衣液时应充分搅拌均匀。5、药片表面或边缘衣膜出现裂纹、破裂、剥落或者药片边缘磨损:若是包衣液固含量选择不当、包衣机转速过快、喷量太小引起的,则应选择适当的包衣液固含量,适当调节转速及喷量的大小;若是片心硬度太差所引起,则应改进片心的配方及工艺。6、衣膜表现出现“喷霜”:这种情况是由于热风湿度过高、喷程过长、雾化效果差引起的。此时应适当降低温度,缩短喷程,提高雾化效果。7、药片间有色差:这种情况是由于喷液时喷射的扇面不均或包衣液固含量过度或者包衣机转速慢所引起的。此时应调节好喷枪喷射的角度,降低包衣液的固含量,适当提高包衣机的转速。8、衣膜表面有针孔:这种情况是由于配制包衣液时卷入过多空气而引起的。因而在配液时应避免卷入过多的空气。薄膜包衣技术在中药制药中的应用薄膜包衣是一种新型的包衣工艺,指在片芯之外包上比较稳定的薄层聚合物衣膜。自30年代以来就陆续出现了有关薄膜包衣的研究指导,但由于当时薄膜材料、包衣工艺和设备等条件尚不能适应生产要求,实际应用受到一定的限制。到了50年代,美国雅培药厂(AbbottLab)首先生产出新型的薄膜片剂,并用“Filmtab”商标取得专利。经过近40年的研究发展,生产设备和工艺的不断改进和完善,高分子薄膜材料的相继问世,使薄膜包衣技术得到了迅速发展,尤以日本的薄膜包衣技术发展得最快,已有80%片剂改为薄膜包衣。薄膜包衣工艺可广泛用于片剂、丸剂、颗粒剂,特别对吸温性强、易开裂、易退色的中药片剂更显示其优越性。进入90年代,薄膜包衣技术在中药行业有了一定发展,主要用于片剂的薄膜包衣。薄膜包衣与包糖衣比较,主要有以下优点:(1)时间较短(包一锅片剂只需2小时左右,而包一锅糖衣片需要约16小时),操作简便,干燥速度快,药物受热影响小,有利于提高药品的质量。(2)薄膜包衣工艺节约劳动力(1~2名操作工人)、厂房及设备(只需一间标准厂房及一台包衣锅),节约材料,所以成本较低,而前期投入也十分有限。(3)应用薄膜包衣工艺的片剂仅使片芯重增加2%~4%,而糖衣片剂(其中主要辅料成分是国外已淘汰的滑石粉)往往可使片芯重量增大50%~100%。(4)薄膜包衣工艺能减少工作场所的粉尘飞扬,有利于环保和劳动保护,亦可节约包装材料等。(5)应用薄膜包衣工艺的片剂压在片上的标志在包薄膜衣后仍清晰可见,便于患者辨别和使用。(6)薄膜包衣的片剂坚固耐磨,不易开裂;薄膜包衣材料有优异的物理性能,大多数材料均能抗湿抗热,可提高产品质量,延长产品的有效期。(7)薄膜包衣有众多的材料可供选择。除了能达到一般的包衣目的外,还可通过选择薄膜材料和设计包衣处方,使形成的包衣膜在一定的pH范围内溶解或崩解;也可控制膜的渗透性,使所包的药物在体内通过扩散作用陆续释放出来,达到定时、定位释放药物的目的。这是薄膜包衣具有广泛发展前途的一个重要原因。(8)生产工艺过程和材料用量可以标准化基于以上因素,国际上已基本淘汰了糖衣片,取而代之以薄膜包衣片,国内也在加速这个进程。目前,我国的中药薄膜包衣工艺的应用尚处在起步阶段,国内中药片剂主要还是以糖衣片为主,薄膜包衣的市场前景十分广阔,所以薄膜包衣技术的进一步的研究开发和提高,应引起我们的重视.

  • TEM薄膜样品对粘之后总是开

    最近做的块体薄膜样品,用G2胶对粘之后,要么用切割机切成小块时开了,要么是磨样品磨着磨着开了,觉得很奇怪,胶水是好的,别人用都是正常的,样品清洗也比较干净,以前从未遇到过这种情况,样品薄膜很薄,大概十几纳米把,求助一下有谁遇见过类似情况吗?

薄膜扭粘定仪相关的耗材

  • Chemplex迈拉膜x射线定硫仪消耗品样品薄膜
    x射线定硫仪消耗品样品薄膜,迈拉膜,样品杯 Chemplex样品薄膜 型号:090,250 品牌:Chemplex 产地:美国 一、产品介绍: 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测,WEEE检测和一般材料成分分析时,由于样品的不规则(特别是液体、粉末等),需要借助样品杯和薄膜辅助检测;但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中,只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料? 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础: 使用方便快捷; 避免造成待测样品污染; 优越的分析物透射比与强度; 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司,是X射线光谱仪(XRF)配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体,粉末,液体,适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳,与样品杯组合使用,适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注,使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用,并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商,提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪(XRF)的检测实验消耗产品! 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器: 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技(热电)Thermo,瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma,Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 (适用X 射线荧光光谱仪品牌型号:所有X射线荧光光谱仪包括:尼通(NITON):Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ;伊诺斯(Innov-X):AlPHA6000;牛津(Oxford):Met-5000;帕纳科(Panalytical):Minipal4、 Minipal2;精工(Seiko):SEA1000A;斯派克(Spectro):XEPOS、MIDEX M;热电(Thermo):ARL Quant’X;日本电子(JEOL)JSX-3400R;Horriba等。) 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世,在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外,薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成,托框能够在组装过程中自动分离,留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时,薄膜物质并不会被直接处理,这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时,薄膜将自动从托架上分离,留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜,迈拉膜,样品杯 106麦拉膜、CAT.NO:150麦拉膜、CAT.NO:250麦拉膜、CAT.NO:256麦拉膜、CAT.NO:257麦拉膜、CAT.NO:416、CAT.NO:426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来,一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域,拥有多系列独有的特色产品线以及产权,以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则,几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品:XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物(块/粉)、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室,是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家!
  • ChemplexXRF测试薄膜
    XRF样品膜、XRF测试薄膜、、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜美同达提供chemplex各种样品薄膜和样品杯,如有需要,请。 Chemplex样品杯是使用方便简捷,无污染的测试用样品杯,广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品详情: 1、1000系列:样本杯与SPECTROSULFUR分析仪杯,TRIMLESS套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix,Panalytical Venus 与Rigaku(日本理学株式会社)仪器。 产品编号:10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。 2、1300系列:可重复密封的可通风式XRF样本杯,集成外部溢流储液槽,并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。 3、1400系列:单开端可通风XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。 4、1500系列:双开口端XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。 产品编号:1530双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540双开口端。 5、1600系列:狭缝通风样本杯盖,适用于1500系列XRF样本杯。 样品编号:1630样本杯盖、1640样本杯盖。 6、1700系列:集成的咬合式通风XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1730咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。 7、1800系列:单开口端XRF样本杯,集成的外部溢流储液槽,通风装置;与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1830ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。 8、1850系列:单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯,Thermoplastic Seal?通风 ,集成外部溢流储液槽和排泄装置,适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。 9、1900系列:双开口端XRF样本杯,顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器;适应于Oxford Lab-X仪器。 产品编号:19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2双开口端。 10、1935-OX系列:双开口端XRF样本杯与通风盖,适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子,适用于牛津CK-100,耗材元件,零件编号54-CK-100。 11、2100系列:双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽,通风的直接固定盖,TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。 产品编号:2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。 12、3100系列:SPECTROMICRO?样本杯,采用“FUNNELSHAPE?”(漏斗形) 样本杯技术。 产品编号:3106、3110、3115、3120。
  • 手持荧光光谱仪薄膜、样品杯膜TF-260
    土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#(SKY-260) permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品,欢迎采购, 卷:( 直径:3.0" (76mm);91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名:XRF样品膜Sample Film 型号: CAT. NO TF-260# 品牌:美国Premier Lab (原装进口) 货期:现货 起订量:1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜:美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域,以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film)以其极低的(几乎不含)杂质和厚度均匀而严格生产,极好的柔韧性和抗化学腐蚀性,保证检测结果的可靠性和重现性,被广泛应用于XRF样品制备、检测过程,适用于各类X-ray光谱仪(XRF:WD-XRF、ED-XRF)。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测,适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点: 有卷状和片状,多种规格、尺寸、数量可供选择; 柔韧性强、方便、耐用; 的X-ray射线穿透性,适合各类XRF光谱仪; 的抗化学腐蚀性能,不溶于有机溶剂,不污染待测样品; (几乎不含)痕量杂质,特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF:日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录:美国Premier X-ray样品膜种类:(1)、Hostaphan膜;(2)、Kapton膜:聚酰亚胺膜,卡普顿膜;(3)、Mylar膜:聚酯薄膜,迈拉膜,麦拉膜;(4)、Polypropylene膜:聚丙烯膜。目录编号:CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴
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