磁控离子溅射仪

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磁控离子溅射仪相关的厂商

  • 南京舜仪实验设备有限公司 银牌18年
    400-860-5168转1013
    南京舜仪实验设备有限公司是由南京和同创业科技有限责任公司变更而来，拥有“舜仪”和“SAINTINS”等注册商标。公司致力于等离子体相关产品的开发，目前主要生产小型离子溅射和小型磁控溅射，获得客户广泛认可。随着对行业的不断深入，期待能够推出更多质优价廉的设备，为我们的仪器行业添砖加瓦。 我们追求的目标是为用户提供满意的产品及服务，以重诺守信，严谨求实，目光远大的行为为准则。对于新老客户，我们将一如既往,恪守“客户第一，服务至上”承诺，与用户保持长期的合作，为用户提供放心的，满意的的产品。我们将凭借高效、高质的服务，高信任度的企业形象与广大用户共同发展！ 由于（北京和同创业科技有限责任公司）的业务调整，原有的产品将逐渐由（南京舜仪实验设备有限公司）承接，所有服务和承诺不变。
    主营产品： 冷水机   离子溅射仪  
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  • 鹏城半导体技术（深圳）有限公司
    鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积（CVD）系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备（科研型、生产型）、超高真空磁控溅射外延设备（10-8Pa）|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备：PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备：热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台：以内置真空机械手的样品传递室为中心（配4～8个进出口），配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
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  • SCP SCIENCE 铜牌7年
    400-860-5168转4141
    成立于1980年，加拿大SCP SCIENCE是全球首屈一指的无机样品前处理设备（包括电热消解和微波消解）、COD、BOD、自动化学工作站、自动pH、总碱，电导率分析仪；种类齐全的原子光谱耗材、标准溶液、石墨电极以及声名显赫的Conostan油标制造供应商，努力为全球各个行业的无机分析客户提供全面、专业和迅捷的服务。 无论您身处科研、环监、农业、食品、疾控、商检和质检等诸多行业、不管采用X荧光、离子色谱还是电极光谱技术，或者使用原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、等离子体质谱仪等任何一种仪器，我们都能迅捷地为您提供专业的产品和服务。 公司总部位于风景如画的加拿大蒙特利尔市贝多费地区，在北美、西欧及亚太都设有营运中心。在中国，我们通过正式授权的合格代理商为客户提供高效、高质量的服务。
    主营产品： 石化油液   溶液标准物质   质谱配件   光谱配件  
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磁控离子溅射仪相关的仪器

  • 日立高新磁控溅射器MC1000 400-803-2799
    日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm 特点：采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格：
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    厂商： 日立科学仪器（北京）有限公司
    品牌： 日立/Hitachi
    型号： MC1000
    价格： 面议
  • 磁控离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤；采用ARM作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配。一.GVC-2000P磁控离子溅射仪（镀金仪）主要特点1、一键操作，具备工作完成提示音；2、镀膜颗粒小，无热损伤；3、靶材更换非常简单；4、特殊密封结构，玻璃不易损坏；5、内置操作向导，无需培训即可熟练操作；二、GVC-2000P磁控离子溅射仪（镀金仪）技术参数外形尺寸420（L）×330（D）×335（H）溅射靶头平面磁控靶可用靶材Au、Pt、Ag、Cu等靶材尺寸φ57×0.12mm真空室高硅硼玻璃 ~φ200×130mm工作介质空气或氩气样品台φ125mm样品台转速4-20rpm可调真空泵旋片泵（可选配干泵）抽速1.1L/s真空测量皮拉尼式真空规管工作真空4-20Pa极限真空≤1Pa工作电流0-100mA连续可调显示屏7英寸 800×480 彩色触摸屏工作时间1-999s连续可调进气自动放气自动金颗粒尺寸（硅片喷金）电池隔膜10万倍（喷铂）三、GVC-2000P磁控离子溅射仪技术方案1、采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤；2、采用ARM作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配：（1）膜厚监控组件：可预设期望镀膜厚度，在工作过程中精确控制镀膜厚度；（2）样品台加热组件：可通过加热提高膜层的致密性以及与基地的结合力。3、7英寸触摸式液晶显示屏，分辨率为800×480，全数字显示。3.1）可设定：（1）溅射电流；（2）溅射时间；（3）靶材种类；（4）工作真空度；（5）工作气体；（6）屏幕亮度等参数；3.2）可显示：（1）溅射电流；（2）溅射剩余时间；（3）工作真空度；（4）靶材累计使用时间；（5）设备累计使用时间等参数。4、溅射电流：2-100mA连续可调，最小步长为1mA；5、溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s 6.溅射真空：4-20Pa连续可调，最小步长为0.1Pa 7、溅射靶材：标配为高纯铂靶（纯度4N9），规格为φ57×0.12mm；也可使用金、银、铜、金钯合金等金属作为溅射靶材；8、真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ200×130mm；9、样品台：可自转的不锈钢样品台，直径为φ125mm，转速4-20rpm可调；10、靶材参数：系统提供金、铂、银、铜对于空气和氩气的工作参数，可直接使用。同时提供4种自定义靶材，用户可根据自己需求设定工作参数；11、预溅射：具有全自动控制的预溅射挡板，确保工作过程稳定可靠；12、一键操作：系统可自动完成抽气、充气、参数调整、预溅射、溅射镀膜等工作过程；溅射完成后，关闭真空泵，系统自动充气使真空室内外压力平衡；13、具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏；14、系统采用皮拉尼真空规作为真空测量元件；15、极限真空优于1Pa，真空泵抽速为1.1L/s；16、具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态；17、采用独特的靶材更换结构，无需任何工具，即可实现快速更换靶材；18、仪器供电：AC220±10%V，额定功率500W、
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    厂商： 北京格微仪器有限公司
    品牌： 格微仪器/GEVEE
    型号： GVC-2000P
    价格： 面议
  • 磁控离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-2000磁控离子溅射仪（镀金仪）特点1.基本无温升、样品表面无热损失 GVC-2000制样效果图 其他制样设备效果图上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片，左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图，可以看出，样品形貌真实完整，右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片，可以看出，热损伤严重，几乎无法识别为同种样品。2.颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜 金颗粒尺寸：6~10nm 陶瓷膜，镀层材料Pt，10万倍图片，无颗粒感 滤膜材料，镀层材料Pt，20万倍图片，无颗粒感3.GVC-2000磁控离子溅射仪低压大电流溅射，效率更高。
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    厂商： 北京格微仪器有限公司
    品牌： 格微仪器/GEVEE
    型号： GVC-2000
    价格： 面议
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磁控离子溅射仪相关的资讯

  • 先导集团拟建半导体设备产业园，生产磁控溅射、离子蚀刻等设备
    据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。
    时间： 2021-06-30
    作者： KPC
  • 超亿采购中磁控溅射占主流——半导体仪器设备中标市场盘点系列之PVD篇
    p style=" text-align: justify text-indent: 2em " span style=" text-indent: 28px " 薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积（ /span span style=" text-indent: 28px " PVD /span span style=" text-indent: 28px " ）、化学气相沉积（ /span span style=" text-indent: 28px " CVD /span span style=" text-indent: 28px " ）等气相沉积工艺。物理气相沉积 /span span style=" text-indent: 28px " (Physical Vapour Deposition /span span style=" text-indent: 28px " ， /span span style=" text-indent: 28px " PVD) /span span style=" text-indent: 28px " 技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源 /span span style=" text-indent: 28px " —— /span span style=" text-indent: 28px " 固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 /span /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。 /p p style=" text-align: justify text-indent: 2em " 仪器信息网近期特对一年内的 span PVD /span 设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。 span style=" color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px " （注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。） /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " span style=" text-align: center " img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title=" 1.png" alt=" 1.png" width=" 400" height=" 240" border=" 0" vspace=" 0" / & nbsp & nbsp /span /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 各月中标量占比 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " span 2019 /span 年 span 10 /span 月至 span 2020 /span 年 span 9 /span 月，根据统计数据， span PVD /span 设备的总中标为 span 218 /span 台，涉及金额上亿元。 span 2019 /span 年 span 10 /span 月至 span 12 /span 月，平均中标量约 span 25 /span 台每月。 span 2020 /span 上半年，由于疫情影响， span 1 /span 月至 span 4 /span 月中标市场持续低迷，平均中标量约 span 5 /span 台每月，其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进， span PVD /span 设备中标市场活力回升，从二月份到七月份中标量不断增长，其中 span 7 /span 月 span PVD /span 中标量达 span 27 /span 台。第三季度的 span PVD /span 设备采购基本恢复正常，平均中标量约 span 24 /span 台每月。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title=" 2.png" alt=" 2.png" width=" 400" height=" 252" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 采购单位性质分布 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 从 span PVD /span 设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达 span 68% /span ，而企业和科研院所的采购量分别占比 span 12% /span 和 span 19% /span 。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备，高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业，高校方面的采购单位以大学为主。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title=" 3.png" alt=" 3.png" width=" 400" height=" 265" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 招标单位地区分布 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 本次盘点，招标单位地区分布共涉及 span 25 /span 个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为 span PVD /span 设备采购排名前 span 5 /span 的地区，其中广东的采购量最大，达 span 32 /span 台。在这些地区中，上海、浙江和江苏的 span PVD /span 设备采购以高校为主力，北京以科研院所和高校采购为主力，只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业，如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司，致力于打造“中国光谷”。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title=" 4.png" alt=" 4.png" width=" 400" height=" 233" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 不同类型 span PVD /span 设备占比 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " span PVD /span 设备种类繁多，包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知，磁控溅射占据了中标 span PVD /span 设备的主流、高达 span 72% /span 的 span PVD /span 设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 span 70 /span 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 本次 span PVD /span 设备中标盘点，涉及品牌有泰科诺、 span Kurt J. Lesker /span 、创世威纳、 span Moorfield /span 、 span Leica /span 、合肥科晶、 span VEECO Instruments Inc. /span 、 span Teer Coatings Ltd. /span 、 span QUORUM /span 、 span style=" font-size:15px" Syskey /span span style=" font-size:15px" 、 span Applied Materials ,lnc. /span 、 span ULVACInc /span 、株式会社昭和真空 /span 等。 /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有： /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title=" 5.jpg" alt=" 5.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm" span style=" font-size:15px" span 三靶射频磁控溅射镀膜仪 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 这是一款小型台式 span 3 /span 靶等离子溅射仪 span ( /span 射频磁控型 span ) /span ，配有三个 span 1 /span 英寸的磁控等离子溅射头和射频（ span RF /span ）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款 span 1 /span 英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度。 /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title=" 6.jpg" alt=" 6.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm" span style=" font-size:15px" span 双靶磁控溅射仪 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" & nbsp /span span style=" font-size: 15px " 双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。 /span span style=" font-size: 15px " VTC-600-2HD /span span style=" font-size: 15px " 双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。 /span /p p style=" text-indent: 0em text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title=" 7.jpg" alt=" 7.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm" span style=" font-size:15px" span 科特莱思科热阻蒸发镀膜系统 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 这款仪器由预真空进样室（可选）前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或 span OLED /span 低温蒸发源、 span 6” /span 基片、基片旋转、基片偏压（可选）、离子源清洗基片（可选）、基片加热 span 1000 /span 度 span ( /span 可选 span ) /span 等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式，能够沉积金属、半导体和绝缘材料，还可沉积多层膜及合金薄膜。 /span span style=" font-size: 15px " & nbsp /span /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 点击此处进入 /span span a href=" https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml" span style=" font-size:15px" span 【 span 半导体行业专用仪器 span 】 /span /span /span /span /a /span span style=" font-size:15px" 专场，获取更多产品信息。 /span /p p style=" text-indent: 29px text-align: center " span style=" font-size:15px" 更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】 /span /p p style=" text-indent: 28px text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title=" 材料说.jpg" alt=" 材料说.jpg" / /p
    时间： 2020-12-23
    作者： KPC
  • 300万！上海期智研究院计划采购磁控溅射仪
    一、项目基本情况项目编号：0705-2240 02012003项目名称：上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额：300.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币）采购需求：包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体，预留RHEED、RGA等接口，后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算：人民币300万元。 合同履行期限：交货期：收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。 3.本项目的特定资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。三、获取招标文件时间：2022年08月02日 至 2022年08月09日，每天上午8:30至11:00，下午13:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台方式：电子发售售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）开标时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》（可从供应商注册页面下载）和营业执照等扫描件，供应商应当提前准备，尽早办理，以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的，潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件，否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目，潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人，电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：上海期智研究院     地址：上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式：徐瑞；021-54652653      2.采购代理机构信息名 称：上海国际招标有限公司            地 址：中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式：胡羡聪、刘洲烨；86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人：胡羡聪、刘洲烨电 话：  86-21-32173682
    时间： 2022-08-03
    作者： 情绪波动
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    当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

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    供应商： 广州竞赢科学仪器有限公司
    品牌： Ted Pella
    价格： 面议
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