气体制冷器

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气体制冷器相关的厂商

  • 北京金时速制冷设备销售部成立于2003年,产品主要涉及气体检测仪器,食品安全检测、农业检测、水质与空气质量安全监测设备、无损检测仪器、实验室分析仪器以及相关试剂、销售和服务,等,用户群落覆盖全国。在优胜劣汰的市场经济体制下,我公司脚踏实地,稳步向前,始终做好最佳的状态迎接未来的挑战! 欢迎新老客户来电咨询和沟通。 本公司将竭诚为您 提供最好的服务!
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  • 深圳市宝驰源制冷设备有限公司是一家专业研发、生产、销售工业制冷设备及温湿度控制设备的厂商。如冷却水机、低温冷风机、油冷却机、恒温恒湿机、冷油机、冷热一体机(循环冷却水/油/风循环机)的设计、安装、售后维修与保养等为一体化的专业方案解决厂商,我司拥有完善的管理体制与售后服务团队。  本公司拥有多年制造和设计专业生产线经验,集现代化于一体的管理,使生产程序运作有条不紊,为了满足客户需求,同时投入大量资金,不断加强人才的培训和生产技术的改良,以先进的技术质量和严谨的控管系统实现专业形象。公司为了全面提高市场竞争力大量选用欧、美、日等国的高品质原配件,引进各种先进生产技术和加工设备,如“CNC加工中心、AMADA数控冲床、数控折床”等,使产品质量得到大幅度提高。我司已通过ISO9001:2008idt GB/t19001-2008国际质量体系认证。我司产品严格按照国际标准生产;同时为了开拓国际市场,我们工业制冷机产品也已通过CE认证。为了树立民族品牌我们同时拥有自己的商标专利与产品技术专利,为客户买到宝驰源品牌正品提供了保障。
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  • 上海暴雪制冷设备有限公司是一家集制冷设备的设计、研发、生产和销售为一体的优秀制冷设备供应商,提供优质的管冰机、片冰机、冷水机、直冷块冰机、盐水块冰机、颗粒冰机、板冰机、冷库机组和制冰机配套设备,如耙式自动储冰库、螺旋自动储冰库、气体送冰系统、螺旋送冰系统、碎冰机、压冰机、冰块称重系统和冰块包装机等。 上海暴雪制冷设备有限公司技术人员十多年的制冰机研发和设计工作,丰富的实践经验与扎实的理论基础,不断推出更可靠、更具人性化、更环保、更节能的产品,并获得多项发明专利和实用新型专利。目前产品已遍布全国各地及欧洲、东南亚、中东、澳州和非洲等地区。 LINSKY拥有一套完备的售前、售中和售后服务管理体系,并且提供LINSKY设备认证,丰富的产品制造经验和强悍的技术团队,针对客户的任何苛刻要求,我们都能提供最适合客户使用的产品和解决方案。
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气体制冷器相关的仪器

  • 仪器简介:TG-LKF 高精度加热制冷气体恒温系统控温范围广,精度高。很多实验需要J快的冷却速率和J低的温度值,目前传统压缩制冷还无法满足很多应用需求,所以Chemtron 专门开发了KALTGAS 系列产品,提供C低温冷却和控温的解决方案。适用领域: 塑料,金属,复合材料等耐热性能测试 电子元器件冷却实验 样品腔室冷却 生物样品,食品及其他样品的极速冷却 其它低温冷却应用 材料拉伸或扭转实验 金属冲击实验 化学或物理实验 化学工艺研究实验 Kaltgas 是基于对低温氮气温度和流量的控制来实现对外部体系的冷却,Z低温度可控制在-180℃。液氮(LN2)在液氮罐中蒸发形成低温氮气,KALTGAS 正是通过蒸发的低温氮气作为冷却介质进行准确温度控制。由于液氮汽化器可以调节,大限度减小液氮消耗,自动调节制冷功率和气体流量。低温氮气通过真空隔热的柔性金属管输送至待冷却的样品上,KALTGAS 几分钟内即可输出供应-180° C 的低温氮气气流。增配了温度控制器之后,Kaltgas 可被轻松接入到多种应用体系当中,通常SL5 安诠控制器控温精度为±0.2℃,参数优化之后,控温精度甚至可达±0.1℃,该气流通入测试腔体内后,可以进行准确的温度控制。 如果需要冷却空气给测试腔降温,则先需要TG-G 系统将空气冷却,然后通入测试腔体,该方案Z低温度可达-20℃。 除J速冷却和控温之外,KALTGAS 的另一大优点在于模块化设计,通过更换当个模块,比如:氮气管路,汽化器或加热器等,就可以改变制冷速率。基本模块,液氮罐和真空泵不变。技术参数:型号TG-LKF-A 63/50-1TG-LKF-A 63/50-2TG-LKF-A 63/50-3TG-LKF-A 63/50-4TG-LKF-A 63/50-5液氮汽化器功率500W加热器功率630W液氮消耗量1.1~11 L/h低温氮气管路V2A,1.8 米,柔性,带真空泵液氮罐虹吸管连接方式KF NW 50接头规格外螺纹接头联管螺母接头卡盘接头Swagelok卡套接头内螺纹接头型号TG-LKF-A 63/100-1TG-LKF-A 63/100-2TG-LKF-A 63/100-3TG-LKF-A 63/100-4TG-LKF-A 63/100-5液氮汽化器功率1000W加热器功率630W液氮消耗量2.2~22 L/h低温氮气管路V2A,1.8 米,柔性,带真空泵液氮罐虹吸管连接方式KF NW 50接头规格外螺纹接头联管螺母接头卡盘接头 Swagelok卡套接头内螺纹接头
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  • 仪器简介:TH &mdash QL02型气体制冷器采用半导体前端加热、半导体制冷、高精度自动恒温技术有效滤除烟气水份,将抽取烟气湿度降至最低程度,并通过后级气水分离器能完全消除水汽对烟气成份测量的影响。技术参数:制冷温度:<5℃ 加热温度:120℃~160℃主要特点:制冷速度快,效率高。 自动恒温,安全可靠。
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  • 半导体TEC温控驱动模块产品介绍本系列的“半导体制冷控制器”是专门为驱动半导体制冷片(热电制冷片)而设计的高性能温度控制系统(风冷),其特点是高精度和高稳定度。输出负载为半导体制冷片(热电制冷片)。半导体制冷是利用帕尔帖效应原理工作的,具有高精度、长寿命、体积小、无噪声、无磨损、无振动、无污染、既可制冷又可加热等优点,是真正的绿色产品。本系列产品带有完美的PID控制软件,智能无级控温,既可加热又可制冷。可用于控制激光器件、医疗器件、半导体器件、红外探测器、光电倍增管、或其它任何需要温度控制的地方。该产品采用现代电力电子器件和高速微处理器(MPU)程序控制技术,以及PWM调制、双向电源、PID调节技术,具有优良的电压、电流输出特性,开关机时无过冲、反冲、浪涌现象,并带有过流、过压、过温、欠温等保护电路,以及RS232或RS485远程控制接口注:为了获到的精度、线性度、定度等,本产品采用标准日本进口NTC(热敏电阻)作为温度采样元件。产品特点 智能无级调温,双向温度控制 温度控制精度为±0.1度或0.01度 工作温度可任意设置(常规在-20℃~120℃之间选择,其它范围可定制) 工作温度超过上限/下限(软件设定)时报警 用户可以修改温度PID反馈参数 恒温模式:双向冷热恒温 具有过流、过压、过热等保护 具有硬件过温、欠温等保护电路 高稳定,高抗干扰,完全消除温度采样通道中的50/60Hz工频干扰 触摸屏控制接口 友好的人机界面和故障诊断功能(在操作不当或电源故障时,电源将给出故障号提示) 模块尺寸:W×L×H=90×50×35mm 接受定制:可根据客户需要定制温控电源,定制夹具平台等 同时提供各种温控模块产品选择产品应用 半导体激光器、激光晶体,激光倍频晶体温度控制 固体温度控制、实验、科研温度控制 高低温实验等产品选型型号参数 TLTM-TEC0505 TLTM-TEC0510 TLTM-TEC0805 TLTM-TEC0810 TLTM-TEC1205 TLTM-TEC1210输入电压(VDAC) 5±15% 5±15% 12±15% 12±15% 15±15% 15±15%输出电压(V) 1~5V(可调节) 1~5V(可调节) 5~8V(可调节) 5~8V(可调节) 5~12V(可调节) 5~12V(可调节)输出电流(A) 0~5A 0~10A 0~5A 0~10A 0~5A 0~10A通道数 1通道或2通道控温精度 ±0.1℃或±0.01℃控温范围 -20℃~120℃温度传感器 NTC(25℃-10K)模块体积 90*50*35或150*100*35mm远程接口 RS232或RS485显示 真彩触摸屏3.5寸、4.3寸、5.7寸、7寸可选
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气体制冷器相关的资讯

  • 小菲课堂|详细解读制冷型与非制冷型光学气体成像热像仪
    十多年来,FLIR光学气体成像(OGI)热像仪一直用来可视化各种气体泄漏。这些OGI热像仪的开发是为了“看到”各种气体,包括碳氢化合物、二氧化碳、六氟化硫、制冷剂、一氧化碳、氨等。FLIR OGI热像仪被应用于各行各业,包括减少排放、提高生产效率和确保安全的工作环境。与其他检测技术相比,OGI热像仪的一大优势是该技术能够在不中断工业过程的情况下精准定位气体泄漏部件。从历史上看,OGI热像仪一直采用制冷型红外探测器,与非制冷型红外探测器相比具有多个优势,但成本往往更高。非制冷型红外探测器技术的进步使得像FLIR OGI热像仪这样的制造商,能够为相关行业设计和开发成本较低的OGI解决方案。尽管成本较低,但与使用制冷型探测器的热像仪相比,使用非制冷型红外探测器的热像仪存在一定局限性。光学气体成像背后的科学在我们讨论OGI热像仪中制冷或非制冷探测器的问题之前,我们可以先解释这项技术背后的理论。光学气体成像可以比作通过普通的摄像机进行观察,但操作员看到的是一股类似烟雾的气体喷出。如果没有OGI热像仪,这将是肉眼完全看不见的。为了能看到这种气体飘动,OGI热像仪使用了一种独特的光谱(依赖于波长)过滤方法,使它能够检测到特定的气体化合物。在制冷型探测器中,滤波器将允许通过探测器的辐射波长限制在一个非常窄的波段,称为带通,这种技术被称为光谱自适应。光谱自适应OGI热像仪利用某些分子的吸收特性,将它们在原生环境中可视化。热像仪焦平面阵列(FPAs)和光学系统专门调整到非常窄的光谱范围,通常在数百纳米左右,因此具有超选择性。只能检测到由窄带通滤波器分隔的红外区域中的被气体吸收的红外波段。大多数化合物的红外吸收特性取决于波长。氢、氧和氮等惰性气体无法直接成像。黄色区域显示了一个光谱滤波器,设计用于对应大部分背景红外能量将被甲烷吸收的波长范围。(图中横坐标代表波长,纵坐标代表甲烷气体的透射率)如果将OGI热像仪对准没有气体泄漏的场景,视野中的物体将通过热像仪的镜头和滤光片透射和反射红外辐射。如果物体和热像仪之间存在气体云,并且该气体吸收滤波器带通范围内的辐射,那么通过气体云到达探测器的辐射量将减少或增加。具体情况要看气体云与背景的关系,云与背景之间必须有一个辐射的对比。总而言之,让气体可见的关键是:气体必须吸收热像仪看到的波段中的红外辐射;气体云必须与背景形成辐射对比;气体云的表面温度必须与背景不同。此外,运动使气体云更容易可视化。熟悉光学气体成像相关的波长为了解决理解“制冷与非制冷”光学气体成像热像仪的挑战,您需要了解与光学气体成像相关的波长以及这些热像仪中使用的探测器。OGI热像仪的两个主要波长通常被称为中波(3到5微米)和长波(7到12微米)。在气体成像领域,这些区域也可以称为“功能区”和“指纹区”。在功能区,一个热像仪可以看到单一类别的更多气体,而许多单独的气体在指纹区有特定的吸收特征。几乎所有碳氢化合物气体都在FLIR GF320的过滤区域(黄色部分)吸收能量,但在长波或指纹区域(蓝色部分)有不同的吸收特征虽然许多气体在中波和长波区域都有吸收特性,但也有气体仅在一个红外波段发射和吸收。有些气体在中波而非长波光谱中发射和吸收(如一氧化碳/CO)和吸收,另一些仅在长波光谱中发射和吸收(如六氟化硫/SF6)。这些气体不属于指纹或功能区,通常指烃类气体。下面是CO和SF6气体的红外光谱图。制冷与非制冷型探测器制冷型OGI热像仪使用需要冷却到低温(约77K或-321°F)的量子探测器,可以是中波或长波探测器。检测功能区碳氢化合物气体(如甲烷)的中波热像仪通常在3-5μm(微米)范围内工作,并使用锑化铟(InSb)探测器。检测SF6等气体的制冷型长波热像仪在8-12μm范围内工作,可以使用量子阱红外光电探测器(QWIP)。制冷型OGI热像仪有一个集成了低温冷却器的成像传感器,其可以将传感器温度降低到低温。传感器温度的降低对于将探测器噪声降低到低于被成像场景的信号水平是必要的。制冷机运动部件的机械公差非常小,随着时间的推移会磨损,氦气也会慢慢通过气体密封。最终,在运行1万至1.3万小时后,需要对冷却器进行重建。带有制冷探测器的热像仪有一个与探测器连接的滤波器。这种设计可以防止滤波器和探测器之间的任何杂散辐射交换,从而提高图像热灵敏度,进而会使光学气体成像仪更有效地可视化某些气体,甚至使OGI热像仪符合美国环保局的OOOOa或其他要求等监管标准。用制冷型热像仪拍摄墙上手印的图像和两分钟后再次拍摄的图像用非制冷型热像仪拍摄墙上手印的图像和两分钟后再次拍摄的图像非制冷OGI热像仪使用微测辐射热计探测器,不需要制冷探测器所需的额外零件。它们通常由氧化钒(VOx)或非晶硅(a-Si)制成,在7-14μm范围内具有响应性。它们比制冷型热像仪更容易制造,但热灵敏度或噪声等效温差(NETD)较差,这使得更难以可视化较小的气体泄漏。NETD是一个指标,表示热像仪可以探测的最小温度差异。上图显示了制冷和非制冷探测器灵敏度的差异。更好的NETD将使制冷型OGI热像仪检测气体的效果至少是非制冷的五倍。用于确定OGI热像仪检测气体效果的类似标准是噪声等效浓度长度(NECL),该标准确定在定义的拍摄距离上可以检测到多少气体。例如,用于甲烷检测的FLIR GF320制冷型OGI热像仪(3-5μm探测器)的NECL小于20 ppm*m,而非制冷型(7-14μm探测器)的NECL大于100 ppm*m。对于非制冷型的OGI热像仪,另一个需要考虑的是滤波器。有些热像仪没有在长波光谱中过滤,这意味着它们只是一个完全开放的探测器,使用独特的分析来可视化气体。FLIR的高灵敏度模式(HSM)是利用软件和分析来增强气体可视化的热像仪示例。有些热像仪内部设置更有针对性的过滤器。这些滤波器可能与镜头有关,在探测器和镜头之间,以多种方式设计。使用非制冷过滤,由于限制到达热像仪探测器的辐射,您会失去热灵敏度。这将导致产生更高的NETD热灵敏度值,但可以提供与气体成像相关的更好图像。随着光谱滤波器宽度变窄以聚焦于特定气体时,来自场景的辐射减少,而探测器的噪声保持不变,来自滤波器的反射辐射增加。这会产生与气体成像相关的更高质量的图像,但会降低热像仪用于温度测量(辐射测量)的热灵敏度。当你使用冷滤镜时,比如制冷型OGI热像仪,这种现象就可以避免,因为反射的辐射量非常小。如何选择制冷与非制冷型OGI热像仪FLIR GF320甲烷和VOC检测用红外热像仪
  • 超冷原子云制冷有望带来新的精密检测设备
    瑞士巴塞尔大学物理学家开发出一种新的制冷技术,用超冷原子气体作制冷剂,把一种膜振动冷却到绝对零度以上1摄氏度之内。这一技术可用于给量子机械系统制冷,有望让量子物理实验系统变得更大,并带来新的精密检测设备。相关论文发表在最近的《自然· 纳米技术》杂志上。   超冷原子气体是目前最冷的物质之一,是用激光束把原子陷落到一个真空室内,使它们运动得越来越慢,由此温度达到绝对零度以上不足百万分之一摄氏度。在这种温度下,原子服从量子物理法则:它们就像一个个小波包那样来回运动,能同时处在多个位置并互相叠加。目前已有许多技术利用了这些特征,如原子钟及其他精密检测仪器。   在新研究中,巴塞尔大学物理系教授菲利普· 图特莱恩领导的研究小组就是用这种超冷气体作为制冷剂,把一块1毫米见方的振动膜冷却到绝对零度以上不足1摄氏度。据物理学家组织网近日报道,该膜是一块50纳米厚的氮化硅膜,上下振动就像一面小鼓的鼓皮。这种机械振动是永远不会完全静止的,它表现了一种热振动,取决于膜的温度。   由于原子极微小,迄今造出的最大原子云也只有几十亿个超冷原子组成,比一粒沙子包含的粒子数还少,所以原子云制冷的力量极为有限。   &ldquo 这里的诀窍是,希望膜以何种模式振动,就把原子的全部制冷力量都集中到这种振动模式上。&rdquo 研究小组成员安德里亚· 乔克尔说,原子和膜之间的相互作用由激光束引起,&ldquo 激光对膜和原子产生了压力,膜的振动改变了光对原子的压力,反之亦然。&rdquo 激光能跨越几米远的距离传递制冷效应,所以原子云无需直接与膜接触。这种连接作用还可以通过两面镜子组成的光学共振器放大,膜在两面镜子之间,就像三明治。在本实验中,虽然薄膜包含的原子数是原子云的10亿倍,研究人员还是观察到了很强的制冷效应。   以往科学家只是理论上提出,可以用光来连接超冷原子和机械振荡。本研究是世界上首次在实验中实现了这一系统,并用它来给振荡物体制冷。研究人员指出,如果进一步改进该技术,还可能把膜振动制冷到量子力学基态。   对研究人员来说,用原子冷却膜只是第一步。图特莱恩说:&ldquo 与光致作用相结合,能很好地控制原子的量子性质,这为量子膜控开辟了新的可能。&rdquo 人们有可能用相对宏观的机械系统来做量子物理实验,以前所未有的精确度检测膜振动,反过来开发出针对微小力和质量的新型传感。
  • 显微镜用半导体制冷C接USB3.0 CCD相机-广州明慧
    MH系列双级半导体深度制冷温度可控C接口USB3.0 CCD相机显微镜制冷CCD相机MHC600-MC基本特性:MHC600-MC制冷ccd相机搭载了Sony ExView HAD CCD或HAD CCD等高性能图像传感器,针对传感器固有的热噪声,专门设计了高效制冷模块使得相机传感器的工作温度比环境温度低达-50度。针对低温结雾现象,设计了防结雾结构,确保传感器表面在低温情况下不会防结雾。MHC600-MC制冷ccd相机这一独有技术大大降低了图像噪声,保证了图像质量的获取。显微镜制冷CCD相机MHC600-MC的优势:基于SONY CCD传感器的科学级专业相机;双级专业设计的高性能TE冷却结构,结构灵巧,散热速度快;温度任意可控,超低噪声,最高达50度温度降幅 精巧防结雾结构,确保传感器在超低温度情况下传感器表面不会结雾;高速USB3.0接口,传输速度高达5Gbits/s,实现快速预览 Ultra-Fine颜色处理引擎,实现完美颜色再现能力;相机附送高级图像处理软件以实现对相机的控制与捕获图像的处理。软件触发或外部触发,支持视频同软件/硬件触发模式捕获单帧或多帧图像;支持长达1小时的精准曝光控制技术;IR-CUT双AR膜保护玻璃(可选);随相机提供高级视频与图像处理应用软件 提供Windows/Linux/macOS/Android多平台标准SDK。显微镜制冷CCD相机MHC600-MC可用于弱光或荧光图像的拍摄,其主要应用有:明场显微镜;暗场,微分干涉 (DIC) 显微镜;活体细胞成像,细胞或组织病理学检测,细胞学;缺陷分析,半导体检测,精密测量;微光荧光成像,GFP 或 RFP 分析,荧光原位杂交(FISH);荧光共振能量转移显微镜,全内反射荧光显微镜,实时共聚焦显微镜,失效性分析,天体照相。

气体制冷器相关的方案

气体制冷器相关的资料

气体制冷器相关的论坛

  • 半导体制冷温度控制系统选择说明

    半导体制冷温度控制系统是无锡冠亚针对半导体行业推出的新型设备,用户在选择半导体制冷温度控制系统的时候,需要考虑半导体制冷温度控制系统主要的性能,设计以及其他,才能更好的选择半导体制冷温度控制系统。  半导体制冷温度控制系统的选用应当依照冷负荷以及准备用于哪方面来思忖。对于低负荷运行工况时间较长的制冷系统,适合选择多机头活塞式压缩机组或螺杆式压缩机组,便于调理和节能,也就是我们常说的双机头半导体制冷温度控制系统,可随着负荷的变化,半导体制冷温度控制系统组自动确定开机的数量,保证开启的压缩机处于工作状态,从而有效节约电能。  选用半导体制冷温度控制系统时,优先考虑性能系数值较高的机组。依照以往资料统计,正常半导体制冷温度控制系统组整年下运行时间约占分运行时间的1/4以下。因此,在选用半导体制冷温度控制系统组时应优先考虑效率曲线比较平坦的半导体制冷温度控制系统型号。同时,在设计选用时应考虑半导体制冷温度控制系统组负荷的调节范围,半导体制冷温度控制系统组部分负荷性能优良,可根据工厂实际情况选用半导体制冷温度控制系统。  选用半导体制冷温度控制系统时,应当留意该型号半导体制冷温度控制系统的正常工作范畴,主要是电机的电流限值是表面工况下的轴功率的电流值。  半导体制冷温度控制系统在选择上无非就是性能、品牌以及价格,在选择合适的半导体制冷温度控制系统的时候,尽量选择高性能的半导体制冷温度控制系统,这样运行更加稳定。

  • 【转帖】半导体制冷的相关知识

    半导体制冷片也叫热电制冷片,是一种热泵,是利用半导体材料的Peltier效应。当直流电通过两种不同半导体材料串联成的电偶时,在电偶的两端即可分别吸收热量和放出热量,可以实现制冷的目的。它是一种产生负热阻的制冷技术,其特点是无运动部件, 应用在一些空间受到限制,可靠性要求高,无制冷剂污染的场合。利用半导体制冷的方式来解决LED照明系统的散热问题,具有很高的实用价值。[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LCMS[/color][/url]进样器也用到半导体制冷。在原理上,半导体的制冷片只能算是一个热传递的工具,虽然制冷片会主动为芯片散热,但依然要将热端的高于芯片的发热量散发掉。在制冷片工作期间,只要冷热端出现温差,热量便不断地通过晶格的传递,将热量移动到热端并通过散热设备散发出去。因此,制冷片对于芯片来说是主动制冷的装置,而对于整个系统来说,只能算是主动的导热装置,   风扇以及散热片的作用主要是为制冷片的热端散热,通常热端的温度在没有散热装置的时候会达到100度左右,极易超过制冷片的承受极限,而且半导体制冷效率的关键就是要尽快降低热端温度以增大两端温差,提高制冷效果,因此在热端采用大型的散热片以及主动的散热风扇将有助于散热系统的优良工作。在正常使用情况下,冷热端的温差将保持在40~65度之间。

  • 半导体制冷装置中压缩机常见故障说明

    半导体制冷温度控制系统是无锡冠亚针对半导体行业推出的新型设备,用户在选择半导体制冷温度控制系统的时候,需要考虑半导体制冷温度控制系统主要的性能,设计以及其他,才能更好的选择半导体制冷温度控制系统。  半导体制冷温度控制系统的选用应当依照冷负荷以及准备用于哪方面来思忖。对于低负荷运行工况时间较长的制冷系统,适合选择多机头活塞式压缩机组或螺杆式压缩机组,便于调理和节能,也就是我们常说的双机头半导体制冷温度控制系统,可随着负荷的变化,半导体制冷温度控制系统组自动确定开机的数量,保证开启的压缩机处于工作状态,从而有效节约电能。  选用半导体制冷温度控制系统时,优先考虑性能系数值较高的机组。依照以往资料统计,正常半导体制冷温度控制系统组整年下运行时间约占分运行时间的1/4以下。因此,在选用半导体制冷温度控制系统组时应优先考虑效率曲线比较平坦的半导体制冷温度控制系统型号。同时,在设计选用时应考虑半导体制冷温度控制系统组负荷的调节范围,半导体制冷温度控制系统组部分负荷性能优良,可根据工厂实际情况选用半导体制冷温度控制系统。  选用半导体制冷温度控制系统时,应当留意该型号半导体制冷温度控制系统的正常工作范畴,主要是电机的电流限值是表面工况下的轴功率的电流值。  半导体制冷温度控制系统在选择上无非就是性能、品牌以及价格,在选择合适的半导体制冷温度控制系统的时候,尽量选择高性能的半导体制冷温度控制系统,这样运行更加稳定。

气体制冷器相关的耗材

  • 热式气体质量流量计/控制器
    Axetris热式气体质量流量计/控制器: Axetris MFM/MFC 2000系列适用于OEM模块集成的结构极其紧凑的高性能气体质量流量计和控制器; 从用来测量单一气体的结构极其紧凑的气体质量流量计和控制器,到用来测量和控制多种气体高度集成的定制阀组,Axetris最新的MFM / MFC 2000系列产品都能满足这些需求。技术优点:基于MEMS技术极其紧凑的尺寸高精度快速响应时间多种气体/多量程模块化极佳的长期稳定性主要应用:分析仪器气相色谱仪泄漏检测单一或者多种气体的计量和控制标定和质量控制薄膜工艺控制
  • 半导体致冷器
    半导体致冷器(TE)也叫热电致冷器,是一种热泵,它的优点是没有滑动部件,应用在一些空间受到限制,可靠性要求高,无致冷剂污染的场合。半导体致冷器的工作运转是用直流电流,它既可致冷又可加热,通过改变直流电流的极性来决定在同一致冷器上实现致冷或加热,这个效果的产生就是通过热电的原理。 半导体致冷器是利用半导体材料的珀尔帖效应制成的。所谓珀尔帖效应,是指当直流电流通过两种半导体材料组成的电偶时,其一端吸热,一端放热的现象。重掺杂的N型和P型的碲化铋主要用作TEC的半导体材料,碲化铋元件采用电串联,并且是并行发热。TEC包括一些P型和N型对(组),它们通过电极连在一起,并且夹在两个陶瓷电极之间;TEC组件每一侧的陶瓷电极的作用是防止由TEC电路引起的激光器管芯的短路;TEC的控制温度可达30℃-40℃,当有电流从TEC流过时,电流产生的热量会从TEC的一侧传到另一侧,在TEC上产生&Prime 热&Prime 侧和&Prime 冷&Prime 侧,这就是TEC的加热与致冷原理。是致冷还是加热,以及致冷、加热的速率,由通过它的电流方向和大小来决定。在实际应用中,TEC通常安装在热沉和组件外壳之间。其冷侧与激光器芯接触,起到致冷作用,它的热侧与散热片接触,把热量散到外部去,这也只是一种最普遍的情况。在对激光器工作温度的稳定性要求较高的场所,一般都采用双向温控,即在常温和高温时对激光器制冷,在低温环境中则制热;半导体致冷器在电流方向逆转时,原来的冷端和热端的位置就互换;则贴近激光器芯的一则就变成了热端,对激光器芯加热。
  • 循环水制冷系统
    ICP/ICP-MS循环水制冷系统的详细资料: 详情请联系吴小姐:15080317079 循环水制冷系统 电感耦合等离子发射光谱和等离子发射光谱-质谱专用 WhisperCool. 制冷系统 Ø 采用PolyScience WhisperCool制冷设计,增强操作安全,内置安全装置。 Ø 可靠、节能。 Ø 其工作范围从-10℃到40 ℃。 Ø 内置高度直观的工艺和自动保护系统。 Ø 超大数字显示器 Ø 点触式温度控制 Ø 温度和压力/流量读数 Ø 操作安静 Ø 低流量报警 Ø 维护简单 Ø 高低温报警 实验制冷器混合冷却液 N0776099 蒸馏水配制而成,含有可以控制黑藻及其他耐药菌株的添加剂,不含非乙二醇。5.5加仑 ELAN冷却液 WE016558 每瓶一升。ELAN 9000/6X00/DRC系列仪器必须使用这种冷却液。同时它也适用于有机物制冷器。 热交换系统 ELAN 9000/DRC II/e系统的制冷系统。风冷循环,无制冷。不能放在温度超过30 ° C (86 ° F)的地方。需要使用 ELAN 冷却液 (WE016558)。 120V, 60Hz N8122248 220/250 V, 50/60Hz N8122247 风机及和通风口 通风系统用来去除样品测定产生的酸气、烟雾和蒸汽等。包括排气罩、夹具和风机。不包括管道。PerkinElmer维修工程师不允许安装这些部件。 Ø 保护实验室人员不受有害气体侵害 Ø 保护仪器不受腐蚀性气体破坏 Ø 提高仪器稳定性 110V 03030447 230V 03030448 制冷器/循环水冷却系统 仪器型号 所需电源 工作温度 流量 零件编号 ELAN 5000/6X00/DRCs 208&ndash 230V, 60Hz, 8A -15° 到 40 ° C 60 psi: 4.3 gpm/16.3 Lpm N0772036 ELAN 5000/6X00/DRCs 240V, 50Hz, 8.5A -15° 到 40 ° C 60 psi: 4.3 gpm/16.3 Lpm N0772035 Optima 2X00/4X00/5X00/7X00 208&ndash 230V, 60Hz, 8A -15° 到 40 ° C 60 psi: 4.3 gpm/16.3 Lpm N0772036 Optima 2X00/4X00/5X00/7X00 240V, 50Hz, 8.5A -15° 到 40 ° C 60 psi: 4.3 gpm/16.3 Lpm N0772035 Optima 3X00 120V, 60Hz, 13.1A -5° 到 40 ° C 60 psi: 1 gpm/3.8 Lpm N0691883 Optima 3X00 240V, 50Hz, 7.3A -5° 到 40 ° C 60 psi: 1 gpm/3.8 Lpm N0691884
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