高真空系统

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高真空系统相关的厂商

  • 真空仪器(氦质谱检漏仪)及真空设备(氦检漏系统)、充氦回收系统、气密性检漏仪、真空镀膜设备、纳米薄膜及各类电气控制系统、夹具、冲堵头、的组装生产、研发、销售及真空机组、检漏平台、流水线体、非标自动化设备维修移机保养改造。高纯氦气、真空阀门、真空泵、真空测量仪器仪表、压缩机、机电产品、润滑剂、密封耗材批发及零售。承包检漏工程、检漏方案设计实施、检漏仪租赁业务、检漏仪校准、、真空镀膜服务、工业自动化设备以及电子产品、及计算机软件的研究、开发、销售、技术服务、技术咨询、系统集成及自营和代理各类商品和技术的进出口业务。
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  • 合肥迪泰质谱检漏仪专业生产厂家。氦质谱检漏仪用于真空检漏、如电厂汽轮机组,镀膜机,高压真空柜,真空炉,如有需要请联系 15056044460 王小姐合肥迪泰真空技术有限公司是专业氦质谱检漏设备供应商。主要产品有:氦质谱检漏仪,充氦回收系统,真空箱检漏系统,高真空设备,真空零配件等。公司拥有专业化的研发团队和科技人才队伍。所生产的新一代全自动高灵敏度氦质谱检漏仪采用多项国际先进技术。真空箱氦检漏系统设计科学,产品性能稳定。氦质谱检漏广泛应用于航天航空,汽车制造,真空应用等领域。
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  • 真空泵 ,干式真空泵,风冷真空泵,无油真空泵,螺杆真空泵,干式螺杆真空泵,分子泵机组,高真空排气台,真空泵维修保养。艾思拓真空技术(天津)有限公司是一家由多名工程师团队组成,集产品研发、销售与技术服务于一体的综合型企业,公司位于天津市北辰区赛菲世纪医药园。 公司秉承“科技主导、品质致胜、诚信经营、用心服务”的理念,致力于真空系统及电气控制领域。主要经营真空泵产品,并可根据客户需求提供真空解决方案、定制真空机组及电气控制设备。基于真空泵集成应用方面的经验,公司成为韩国斯路威(SOLUVAC)干式螺杆真空泵的合作伙伴,所经销的产品广泛应用于化工、制药、电子、新材料等多个领域获得了客户的认可与好评。
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高真空系统相关的仪器

  • 1200高真空PECVD系统 400-860-5168转4224
    简介 PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜;具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点;1200℃高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。 主要应用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。同时上海煜志良好的售后服务体系,使得该产品的整体评价远超同行业标准。主要技术参数炉体结构整机采用SUS304不锈钢材质,流线型外观,断热式结构;日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好;炉子底部装有一对滑轨,移动平稳;炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却;炉盖可开启,可以实时观察加热的物料尺寸重量1730*660*1130mm;净重:210kg电源电压:AC220V 50/60Hz;功率:4KW炉管高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小; 尺寸:Φ60*1300mm法兰及支撑SUS304不锈钢快速法兰,通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空;一个卡箍就能完成法兰的连接,放、取物料方便快捷;可调节的法兰支撑,平衡炉管的受力支撑;包含进气、出气、真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合加热系统加热元件采用康泰尔发热丝,表面负荷高、经久耐用;加热区长度:300mm恒温区长度:150mm; 工作温度:≤1150℃; 最高温度:1200℃;升温速率:10℃/min温控系统日本富士温控仪表,64段控温程序,可分步、分段混气系统三路质量流量计:数字显示、气体流量自动控制;内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀;管路采用不锈钢管,接口为Φ6卡套;每路气体进气管路配有不锈钢针阀;通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格:0~1000sccm(可选); 流量精度:±1.5%高真空系统采用双级旋片真空泵+分子泵,极限真空可达4.0*10^-4Pa; 复合真空计,配置电阻规+电离规抽速:110L/S; 冷却:风冷; 电源:AC220V 50/60Hz射频电源系统输出功率:0-300W;功率稳定度:±0.1%;射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%;最大反向功率:120W;射频电源电子输出端口:UHF; 冷却:风冷; 电源:AC187-253V 50/60Hz可选配件各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软件保修卡整机一年保修(相关耗材除外)可根据客户要求定制!
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  • 一、操作便捷性:抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程,只需用卡箍便可完成连接,方便操作 二、控制智能化1、采用数显真空计,配合热电偶规管采集数据。测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强、真空度显示采用科学计数法,数字显示,使用方便直观。2、该系统采用分子泵系高压强耐冲击,与专用的控制电源配套使用,提高了使用的可靠性,尤其当炉管密封系统与在使用过程中的大气相通,导致系统会自动停止工作,待炉管密封系统恢复正常仍可使用。 三、结构实用性:1、内置双级旋片式机械真空泵,有效地提高了抽气效率。2、本身作为真空控制系统的同时,也可作为活动平台使用,方便放置电炉及其它设备。 四、周边扩展性:1、该真空控制系统可与公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉。2、该真空控制系统可与公司生产的气体流量控制系统组合使用。3、该系统可作为真空获得设备独立使用。产品用途:该系列产品应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。是对炉管及箱体抽取真空、真空测量与自动控制为一体的真空控制系统总成。设备为用户提供了具有真空度可控的实验环境。
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  • ——按照客户要求,加工订制;——一对一专业出图设计;——可配套指定真空机组系统;——耐高温、耐腐蚀;——高质量、高精度;加工工艺,采用真空焊接技术拼装焊接;先进的真空捡漏设备,更加保证产品的质量;我公司采用三维建模软件,按照实际比例建立三维模型,根据客户文字、语言草图等需求描述,专业设计出适合客户所需产品方案(在方案定稿之前所有设计不收取任何费用)。为了生产出最匹配客户需求的产品,需要告知我公司以下几个问题点:1、产品在使用过程中是否有温度产生,高温和低温分别是多少摄氏度,是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求,真空领域腔体常用材质为:碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式,抽真空的方式,抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求,腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能:材质:304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围:-190℃~+1200℃密封方式:氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项:1、真空漏率检测:标准检测漏率:1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测:标准检测压力:8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台
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高真空系统相关的资讯

  • 普发真空推出用于质谱仪系统的大功率真空泵 Hena 50 和 Hena 70
    p    strong 仪器信息网 /strong 2020年4月17号,上海——近日,普发真空推出全新单级油封式旋片泵Hena 50 和 Hena 70。这两款泵专为质谱仪系统的高要求而设计,根据尺寸和转速的变化,抽速在 32 m³ /h和 59 m³ /h 之间,其集成的油雾分离器可确保排气清洁。泵本身同时配备变频器,能够在全球范围内以单相输入和相同的50和60 Hz额定功率使用。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202004/uepic/63eb4489-ba8f-4181-97e9-95e712987da1.jpg" title=" 图片 1.png" alt=" 图片 1.png" / /p p /p p style=" text-align: center " 图片说明:Hena 普发真空旋片泵 /p p   Hena系列真空泵性能高且极为可靠,这源自于其在目标压力范围内的恒定的高流量、可调节抽速和低末端真空度。另外,泵中的高油量及低油温的运行方式也确保了较长的维护间隔和运行时间。 /p p   凭借自身出色的牢固性和可靠性,Hena 50 和 Hena 70 可以提高整体可利用性。同时,由于它们较低的噪声水平和高效的油分离器,也能轻松进行集成。Hena 50 和 Hena 70 已通过 UL(美国保险商试验所) & nbsp 和 IEC(国际电工委员会) 61010 认证,多个世界化标准组织的认可表明了普发真空Hena 50和Hena 70单级油封式旋片泵的安全与可靠,是各类实验室的理想之选。 /p
  • 连接即未来——徕卡真空冷冻传输系统
    童艳丽今年的华东电镜会比以往时候来得更晚一些,经历了漫长的等待,终于10月23日在美丽的宜兴市东氿湖畔举行。会上徕卡纳米技术产品经理童艳丽以《连接即未来 徕卡真空冷冻传输系统》为题做了一个专题报告。报告结束后,老师们对此显示出浓厚的兴趣,纷纷前往展台咨询。徕卡真空冷冻传输系统之核心部分EM VCT500设计理念及其在冷冻扫描电镜,冷冻FIB,真空传输等三个应用方向的相关制样流程及应用实例。徕卡EM VCT500样品传输杆是真空冷冻传输系统的核心,它可以与徕卡各种电镜制样设备相连接,依据样品应用需求实现各种方式样品制备;另一方面,它可以与各种外部设备/分析仪器相连接,依据样品应用需求实现各种方式分析检测。 徕卡EM VCT500样品传输杆是一款货真价实的真空冷冻传输系统,可以长时间保持高真空和低温,并且通过一系列紧密的内部硬件设计及图形化操作界面,实现用户直觉化操作,轻松实现真空冷冻传输。 Cryo-SEM应用方向一个经典制样流程: 如需了解更多详情,可咨询徕卡客户服务热线:400-630-7761.
  • Chemker 耐腐蝕真空泵浦 / 高真空 / 低噪音 一次滿足
    Chemker 耐腐蚀真空泵浦 / 高真空 / 低噪音 一次满足常用实验室真空过滤等◆ 溶剂纯化 将化学溶液中的精细颗粒或杂质,经滤膜等多孔性材料阻挡去除而得到澄清目标液,称为溶剂纯化,常见于精密仪器上机分析的前处理。 化学溶液、溶剂的负压过滤常以耐腐蚀真空帮浦进行,减缓化学蒸气对泵浦的侵蚀,也藉由负压加快整体过滤速度。◆ 旋转浓缩是一种适合大体积、单一样品的分离与纯化方法。其作用原理为同时调降真空度、增加蒸发面积及温度控制,连续、大量的蒸馏出易挥发性溶剂。但蒸馏出的溶剂若不加以搜集则容易逸散于空气中危害人体及环境,因此可搭配冷凝设备回收蒸馏出的溶剂,如循环式冷凝器等。 回转浓缩机的作用物质以溶剂及化学物质为主,因此帮浦的挑选以聚四氟乙烯(PTFE)制成的耐腐蚀帮浦为最佳选择。帮浦规格的挑选,如流量应与样品瓶容积呈正比;最大真空的要求则依溶剂及其沸点不同而有很大的差异,因此真空控制器的搭配能帮助您精准的控制真空度避免突沸,大幅缩短处理时间。◆ 真空烘箱利用真空降低水或溶剂的沸点并搭配温度加热,能在较低温度下得到较高的干燥效率,特别适合热敏性、易分解、易氧化物质的干燥。 泵浦的挑选依溶液(水或溶剂)种类、目标物质的耐受温度、干燥程度及烘箱的尺寸而有不同。目标物质的耐受温度愈低则应选择较高真空的机种以降低沸点;而泵浦流量则与欲干燥的蒸气量及烘箱的体积容积呈正比。

高真空系统相关的方案

  • 色谱仪在线高真空负压微量气体进样系统的真空度精密控制解决方案
    针对目前大多数气相色谱仪负压进样系统中存在的无法控制微量进样和真空度无法准确控制的问题,本文在发明专利“CN111239308A 一种在线高真空负压气体进样系统及方法”基础上提出了改进的解决方案。解决方案通过采用电容真空计、皮拉尼真空计、电控针阀和双通道真空度控制器组成的控制装置,可实现高真空范围内的任意设定点下的真空度快速和精密控制,使在线负压形式的微量气体进样方法真正能转化为实用的工程化仪器。
  • 包括高真空、低真空和正压压力的全量程高精度控制解决方案
    针对工作范围在5×10-7~1.3×106Pa,控制精度在0.1%~0.5%读数的全量程真空压力综合测量系统技术要求,本文提出了稳压室真空压力精密控制的技术方案。为保证控制精度,基于动态平衡法,技术方案在高真空、低真空和正压三个区间内分别采用了独立的控制方法和不同技术,所涉及的关键部件是微小进气流量调节装置、中等进气流量调节电动针阀、排气流量调节电动球阀、正压压力电子调节器和真空压力PID控制器。配合相应的高精度真空压力传感器,此技术方案可以达到控制精度要求,并已得到过试验验证。
  • 测量真空脱气率—— Pfeiffer Vacuum 真空系统解决方案
    许多前瞻性科技技术,例如粒子加速器、核聚变反应堆或 EUV 光刻技术都必须依赖高真空或超高真空。为了制造出这种持续的真空环境,并且维持在一定的真空度下,我们需要的不仅仅是能满足应用和技术规格的泵。同样重要的是需要在真空环境下对表面释放出的残余杂质进行精确的气体分析的仪器。然而,无论是设备的运营方,还是真空设备的制造商都需要仔细研究产品的特性、材料、及在真空环境中的表面处理和清洁方法。Pfeiffer Vacuum 丰富多样的产品组合为此类系统提供所有必要组件。Pfeiffer Vacuum 作为完整解决方案供应商为客户定制完美的残余气体分析设备。在残余气体分析中真空系统用于:■ 为高真空或超高真空选择合适的材料■ 检查电子构件、开关组和电缆在真空中的表现■ 评选适合的表面处理、镀膜合金材料■ 评估部件的清洗程序■ 检查真空烘烤程序■ 工艺控制Pfeiffer Vacuum 系统不仅为高真空和超高真空设备的运行方,还为真空部件的制造商提供优秀的残余气体分析解决方案。Pfeiffer Vacuum 也在本部使用残余气体分析,以便在开发和生产中测试其产品、表面处理和清洗程序的出气情况。以此确保 Pfeiffer Vacuum 产品适用于高真空和超高真空环境。此外,还可以检查涡轮分子泵的电机和前级真空部件的脱气状况。

高真空系统相关的资料

高真空系统相关的试剂

高真空系统相关的论坛

  • 覆盖高真空、低真空和正压的全量程综合校准系统精密控制解决方案

    覆盖高真空、低真空和正压的全量程综合校准系统精密控制解决方案

    [size=16px][color=#6666cc][b]摘要:针对工作范围在5×10[font='times new roman'][sup]-7[/sup][/font]~1.3×10[font='times new roman'][sup]6[/sup][/font]Pa,控制精度在0.1%~0.5%读数的全量程真空压力综合测量系统技术要求,本文提出了稳压室真空压力精密控制的技术方案。为保证控制精度,基于动态平衡法,技术方案在高真空、低真空和正压三个区间内分别采用了独立的控制方法和不同技术,所涉及的关键部件是微小进气流量调节装置、中等进气流量调节电动针阀、排气流量调节电动球阀、正压压力电子调节器和真空压力PID控制器。配合相应的高精度真空压力传感器,此技术方案可以达到控制精度要求,并已得到过试验验证。[/b][/color][/size][align=center][img=全量程真空压力综合测量系统的高精度控制解决方案,690,384]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121052314254_1235_3221506_3.jpg!w690x384.jpg[/img][/align][size=16px][/size][b][size=18px][color=#6666cc]1. 项目概述[/color][/size][/b][size=16px] 真空压力综合测量系统是一个用于多规格真空传感器测量校准的高精度动态真空压力测量系统,主要由一套真空稳压室、一套电容薄膜真空测量模块、一套冷阻复合真空测量模块、一套高精度真空测量模块,其技术要求如下:[/size][size=16px] (1)真空稳压室体积为1L;[/size][size=16px] (2)真空稳压室含有10路VCR转接接头;[/size][size=16px] (3)真空稳压室加热烘烤温度范围:室温到200℃;[/size][size=16px] (4)冷阻复合真空测量模块量程为(5×10[font='times new roman'][sup]-7[/sup][/font]~1×10[font='times new roman'][sup]5[/sup][/font])Pa;[/size][size=16px] (5)冷阻复合真空测量模块含有通讯接口,提供0~10V电压信号;[/size][size=16px] (6)电容薄膜真空测量模块量程为10Torr,测量精度为0.5%;[/size][size=16px] (7)电容薄膜真空测量模块接口为8VCR接口;[/size][size=16px] (8)电容薄膜真空测量模块含有通讯接口,提供0~10V电压信号;[/size][size=16px] (9)高精度真空测量模块量程为0.1~10000Torr;[/size][size=16px] (10)高精度真空测量模块测量精度为读数的0.1%;[/size][size=16px] (11)配备高精度真空测量模块的控制器,满足真空测量模块的使用要求,包含通讯接口。[/size][size=16px] 从上述技术要求可以看出,整个系统的真空压力范围覆盖了负压和正压,具体的全量程覆盖范围用绝对压力表示为5×10-7~1.3×106Pa,其中包含了高真空(5×10[font='times new roman'][sup]-7[/sup][/font]~1.3×10[font='times new roman'][sup]-1[/sup][/font]Pa)、低真空(1.3×10[font='times new roman'][sup]-1[/sup][/font]~1.3×10[font='times new roman'][sup]5[/sup][/font]Pa)和正压(1.3×10[font='times new roman'][sup]5[/sup][/font]~1.3×10[font='times new roman'][sup]6[/sup][/font]Pa)的精密测量和控制,更具体的是要在一个稳压室内实现三个真空压力范围的不同测量和控制精度。以下将对这些技术要求的实现,特别是对真空压力的精密控制技术方案和相关关键配套装置给出详细说明,其他通用性的装置,如机械泵和分子泵则不进行详细描述。[/size][size=18px][color=#6666cc][b]2. 高精度宽量程真空压力控制技术方案[/b][/color][/size][size=16px] 真空压力控制系统的技术方案基于动态平衡法控制原理,即在一个密闭容器内,通过调节进气和出气流量并达到相应的平衡状态来实现真空压力设定点的快速控制。在动态平衡法实际应用中,只要配备相应精度的传感器、执行器和控制器,可以顺利实现设计精度的控制。为此,针对本项目提出的技术指标,基于动态平衡法,本文所提出的具体技术方案如图1所示。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=01.真空压力综合测量控制系统结构示意图,690,410]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121043350021_6971_3221506_3.jpg!w690x410.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图1 高精度全量程真空压力控制系统结构示意图[/b][/color][/size][/align][size=16px] 对应于项目技术指标中的高真空、低真空和正压压力控制要求,图1所示的真空压力控制系统由三个相对独立的控制系统来实现项目技术要求,具体内容如下:[/size][size=16px][color=#6666cc][b]2.1 高真空度控制系统[/b][/color][/size][size=16px] 基于动态平衡法原理,对于高真空控制,需要采用上游控制模式,在分子泵全速抽气条件下,需要在上游(进气端)通过精密调节微小进气流量,来实现高真空范围内任意真空度设定点的恒定控制。如图1所示,高真空控制系统主要包括了冷阻真空计、微量进气调节装置和真空压力控制器,这三个装置构成一个闭环控制系统,它们的精度决定了高真空度的最终控制精度。[/size][size=16px] 需要说明的是高真空和低真空控制系统公用了一套机械泵和分子泵,高真空控制时需要分别使用机械泵和分子泵,而在低真空控制时仅使用机械泵。[/size][size=16px] 对于高真空传感器而言,可根据设计要求选择相应量程和测量精度的真空计,其测量精度最终决定了控制精度,一般而言,控制精度会差于测量精度。[/size][size=16px] 在高真空控制中,关键技术是精密调节微小进气流量。如图1所示,微量进气调节装置有电动针阀、泄漏阀和压力调节器组成,可实现0.005mL/min或更低的微小进气流量调节。[/size][size=16px] 微量气体调节时,首先通过压力调节器来改变泄漏阀的进气压力,使泄漏阀流出相应的微小流量气体,然后通过调节电动针阀来改变进入真空稳压室的气体流量。压力调节器和电动针阀的控制则采用的是24位AD、16位DA和0.01%最小输出百分比的双通道真空压力PID控制器。[/size][size=16px][color=#6666cc][b]2.2 低真空度控制系统[/b][/color][/size][size=16px] 基于动态平衡法原理,对于低真空控制,则需要分别采用上游(进气端)和下游(排气端)两种控制模式。如图1所示,两种控制模式的具体内容如下:[/size][size=16px] 在低真空的0.01~10Torr范围内,需要采用10Torr量程的电容真空计,并在机械泵全速抽气的条件下(电动球阀全开),通过动态改变电动针阀的开度来调节进气流量以实现设定真空度的精密控制。同时在电动针阀的进气端增加一个压力调节器以保证电动针阀进气压力的稳定。[/size][size=16px] 在低真空的10~760Torr范围内,需要采用1000Torr量程的电容真空计,并在固定电动针阀开度和机械泵全速抽气的条件下,通过动态改变电动球阀的开度来调节排气流量以实现设定真空度的精密控制。[/size][size=16px] 同样,在低真空控制系统中也同样采用了高精度的双通道真空压力控制器,两路输入通道分别接10Torr和1000Torr的薄膜电容真空计,两路输出控制通道分别接电动针阀和电动球阀,由此可实现两个低真空范围内的真空度精密控制。[/size][size=16px] 尽管电容真空计可以达到0.2%的测量精度,但要实现项目0.5%的控制精度,需要电动针阀和电动球阀具有很快的响应速度,电动针阀要求小于1s,而电动球阀要求小于3s,另外还要求真空压力控制器也同样具有很高的测量和调节精度,这些要求同样适用于高真空度控制。[/size][size=16px][color=#6666cc][b]2.3 正压压力控制系统[/b][/color][/size][size=16px] 对于正压压力控制采用了集成式动态平衡法压力调节器,并采用了串级控制方法。如图1所示,正压控制系统由压力调节器、压力传感器和真空压力控制器构成的双闭环控制回路构成。采用相应精度和量程的压力传感器和压力调节器可实现0.1%以内的控制精度。[/size][size=18px][color=#6666cc][b]3. 低真空控制解决方案考核试验和结果[/b][/color][/size][size=16px] 对于低真空精密控制解决方案,我们进行过相应的考核试验。低真空上游和下游控制考核试验装置如图2和图3所示,其中分别采用了10Torr和1000Torr薄膜电容真空计。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=02.上游控制模式考核试验装置,550,371]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121044011178_1432_3221506_3.jpg!w690x466.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图2 上游控制模式考核试验装置[/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=03.下游控制模式考核试验装置,550,338]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121044250558_2395_3221506_3.jpg!w690x425.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图3 下游控制模式考核试验装置[/b][/color][/size][/align][size=16px] 上游和下游不同真空度设定点的控制结果如图4和图5所示。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=04.上游低真空度考核试验曲线,550,333]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121044433769_7471_3221506_3.jpg!w690x418.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图4 低真空上游考核试验曲线[/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=05.下游低真空度考核试验曲线,550,327]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121045002696_1848_3221506_3.jpg!w690x411.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图5 低真空下游考核试验曲线[/b][/color][/size][/align][size=16px] 上游和下游不同真空度设定点的恒定控制波动率如图6和图7所示。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=06.上游模式低真空度恒定控制波动度,550,309]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121045233797_3751_3221506_3.jpg!w690x388.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图6 上游模式低真空恒定控制波动度[/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=07.下游模式低真空度恒定控制波动度,550,340]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121045436717_8569_3221506_3.jpg!w690x427.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图7 下游模式低真空恒定控制波动度[/b][/color][/size][/align][size=16px] 通过上下游两种控制模式的考核试验,可得出以下结论:[/size][size=16px] (1)配备有目前型号电动针阀、电动球阀和 PID 控制器的低真空控制系统,在采用了薄膜电容真空计条件下,恒定真空度(压强)控制的波动率可轻松的保持在±0.5%以内。[/size][size=16px] (2)由于真空控制系统中进气或出气流量与真空度并不是一个线性关系,因此在整个测控范围内采用一组 PID 参数并不一定合适,为了使整个测控范围内的波动率稳定,还需采用 2 组或2组以上的 PID 参数。[/size][size=18px][color=#6666cc][b]4. 正压压力控制解决方案考核试验和结果[/b][/color][/size][size=16px] 对于正压压力控制解决方案,同样进行过相应的考核试验。正压压力精密控制考核试验装置如图8所示,其中采用了测量精度为0.05%的压力传感器。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=08.正压压力考核试验装置,600,336]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121046014855_1011_3221506_3.jpg!w690x387.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图8 正压压力考核试验装置[/b][/color][/size][/align][size=16px] 考核试验的压力范围为表压0.1~0.6MPa,选择不同的设定点进行恒定控制并检测其控制的稳定性。全量程的正压压力控制结果如图9所示。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=09.正压压力考核试验曲线,600,337]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121046261180_1880_3221506_3.jpg!w690x388.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图9 正压压力考核试验曲线[/b][/color][/size][/align][size=16px] 为了更直观的演示正压压力控制精度,将每个压力设定点时的控制过程进行单独显示,以检测测定正压压力的稳定性,图10显示了不同正压设定点恒定控制时的正压压力和控制电压信号的变化曲线。[/size][align=center][size=16px][color=#6666cc][b][img=10.不同正压设定点恒定控制时的压力和控制电压试验曲线,690,555]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/06/202306121046471416_4804_3221506_3.jpg!w690x555.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#6666cc][b]图10 不同正压设定点恒定控制时的压力和控制电压试验曲线[/b][/color][/size][/align][size=16px] 通过所用的正压压力精密控制解决方案和考核试验结果,证明了此解决方案完全能够实现0.1%高精度的正压压力控制,具体结论如下:[/size][size=16px] (1)采用串级控制和模式,并结合后外置超高精度(0.05%)的压力传感器和真空压力控制器,完全可以有效提高压力调节器的压力控制精度,可实现0.1%超高精度的压力控制。[/size][size=16px] (2)如果选择更合适和狭窄的压力控制范围,还可以达到0.05%的更高控制精度。[/size][size=16px] (3)高精度0.1%的压力控制过程中,真空压力控制器的测量精度、控制精度和浮点运算是决定整体控制精度的关键技术指标,解决方案中采用的24位ADC、16位DAC和高精度浮点运算0.01%的输出百分比,证明完全可以满足这种高精度的控制需要。[/size][size=18px][color=#6666cc][b]5. 总结[/b][/color][/size][size=16px] 针对真空压力综合测量系统对高真空、低真空和正压精密控制的技术要求,解决方案可以很好的实现精度为0.1%~0.5%读数的精密控制,考试验证试验也证实此控制精度。[/size][size=16px] 更重要的是,解决方案提出了高真空度的精密控制方法和控制系统配置,这将解决在高真空度范围内的任意设定点下的恒定控制难题,为高真空度范围的计量校准测试提供准确的标准源。[/size][align=center][size=16px]~~~~~~~~~~~~~~~~~[/size][/align][size=16px][/size]

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