等离子设备

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等离子设备相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 中国博友纳米集团有限公司成立于2010年, 是一家集研发,设计,生产,销售及提供全面的售后服务为一体的高新技术环保纳米等离子喷涂设备、材料、技术公司。公司总部在湖南省,在北京顺义、江苏常州、浙江东阳、福建泉州、广东东莞建有分公司,印度和越南的分公司在2019年正式开张,公司已在中国贵州省黔东南州筹建10万平米以上研发生产和营销中心售后服务总基地及后续准备在贵州上市,海外其它国家的销售及技术服务分公司也在筹划中。我们的市场覆盖全球范围内的工艺品,塑料、塑胶、五金、玻璃、木材、陶瓷、家具,灯饰,汽车,装饰,电子电器等等各行各业领域任何需要喷涂效果的产品, 投入小,回报大,高新的技术和全面的技术支持和售后服务让我们的市场和业绩一直超高速的在增长。
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  • 深圳市东信高科自动化设备有限公司始创于1998年,是中国最早一批专业从事真空及大气低温等离孑体(电浆)技术、射频及微波等离子体技术研发、生产、销售于一体的国家髙新技术企业,隶属于东信髙科等离子科技(香港)控股有限公司,总部设于香港。目前公司设立有等离子事业部,超声清洗事业部,自动化设备事业部,塑胶焊接事业部。产品涉及等离子体表面处理设眢,超声波淸洗设备、电镀、制冷等环保自动化设备等。公司现有厂房面积7000余平方米,员工150人以上,其中博士生5人,高级研发工程师近40余人,售后服务25余人。
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等离子设备相关的仪器

  • 等离子开封设备 400-860-5168转2459
    PlasmaEtch 等离子开封设备等离子开封设备PlasmaEtch是一个革命性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前从未见过的应用微波气体煽动化学基团为各向同性腐蚀。PlasmaEtch腐蚀大部分样本大小,封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线,PlasmaEtch都提供了安全可靠的蚀刻。等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物,聚酰亚胺芯片特别研发的,无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。优点:1)对铜线、数化铜线及2) 银线线无伤害3) 伤害小 (selectivity 500:1)4)快速等向性蚀刻 5) 无离子、无辐射6) 加力聚焦下游等离子体刻蚀7) 质量流量控制的所有气体8) 低温蚀刻9) 各向同性蚀刻主要特点:1)可定制的蚀刻配方2)蚀刻封装类型多种多样3)优化开封微芯片4)开封处理程序快速5) 高刻蚀率及低成本6) 完全Chemical-free 开盖,符合环保要求7) 针对银线的唯一解决办法8) 移除率约 200 μm/小时 (包括无机填充材料移除)开封后的效果
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  • 等离子沉淀设备 400-860-5168转4585
    等离子沉淀设备等离子沉积设备SI 500 D产品介绍 高端ICPECVD设备SI 500 D为基于等离子体的沉积工艺提供了优异的性能。使用PTSA ICP等离子体源产 生的高密度PECVD沉积高质量的介质膜和硅膜。平行板三螺旋天线 (PTSA)保证了沉积薄膜的优异性能, 如在非常低的沉积温度下(<100°C)实现低刻蚀速率, 低应力和低界面态密度。 特点 *高密度等离子体*平行板ICP等离子体源*优异的沉积性能*动态温度控制 带预真空室的化学气相沉积设备SI 500 PPD产品介紹 灵活的PECVD系统SI 500 PPD具有多种标准的等离子沉积工艺。用电容耦合等离子体沉积 SiO2、SiNx、 SiOxN揷口a-SL灵活的设计允许使用气态或用于PECVD的液体前驱体TEOS。 特点 *工艺灵活性*预真空室*SENTECH控制软件 PECVD等离子沉积设备DEPOLAB 200产品介绍 直接置片的PECVD设备Depolab 200结合了成本效益的直接载片和平行板等离子体源在一 起的基本的,紧凑的设计。易于使用的直接载片系统实现了用户友好的批量工艺(使用载片 器或直接加载到衬底电极)。智能的PECVD系统可以升级,以达到提高性能的需求。 特点 *低成本效益高*升级扩展性*SENTECH控制软件 原子层沉积设备SENTECH ALD产品介紹ALD设备可以配置为用于氧化物、氮化物和金属沉积。三维结构具有出色的均匀性和保行 性。利用ALD、 PECVD和ICPECVD, SENTECH提供等离子体沉积技术,用于从纳米尺度沉 积到数微米的薄膜沉积。 特点 *简易的腔体清洗*集成手套箱*节省前驱体*前驱体控制 等离子沉淀设备正片晶片扫描MDPinline优势 在不到一秒的时间内,实现对一个晶片全电子晶片特性的测量,测量参数:少子寿命(全形貌),电阻率 (两行扫 描),迄今为止还没有看到工艺控制、良率和工艺改进的效率允许极快地增加新的生产或工艺,因为来自数千 个晶片的统计信息是在非常短的时间内获得的。 适合于测量出料或进料晶片的材料质量,以及在晶片级别内识别结晶问题,例如在光伏行业.适用于扩 散工艺的完 整性控制、钝化效率和均匀性控制。 快速自动扫描系统MDPinline ingot优势 测量速度,用于先进的光伏工厂的在线多晶硅表征。用1毫米分辨率测量少子在两块上的寿命。同时测 量了导电 类型变化的空间分辨测量和电阻率线扫描. 客户定义的切割标准可以传送到工厂数据库,该数据库允许为下一代光伏工厂进行全自动材料监测。从 而实现了材料质量控制,监测炉的性能,以及失效分析. 特殊的"表面以下”测量技术大大减少了由表面复合造成的数据失真。 激光扫描系统MDPpro优势机或晶圆的整体工具系列• 少子寿命、光电导率、电阻率、p/n导电类型变化和几何样品平整度的同 时自动扫描. 对于156x156x400mm标准砖,测量速度小于4分钟,分辨率为1mm,所有5幅测量图形同时绘制。 坚固耐用的设计和易于设置的性能.对于安装,仅需要电源。带有数据库的工作站包含。
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  • plasma等离子清洗机工作原理:等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。(1)原子团等自由基与物体表面的反应(2)电子与物体表面的作用(3)离子与物体表面的作用(4)紫外线与物体表面的反应运用等离子体的特殊化学物理特性,plasma等离子清洗机的主要用途如下:1. 去除灰尘和油污、去静电;2. 提高表面浸润功能,形成活化表面;3. 提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性;4. 刻蚀物的处理作用.plasma等离子清洗机作用效果:(A)对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。(B)激活键能,交联作用等离子体中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物中大部分的键能在 0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。(C)形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。深圳市东信高科自动化设备有限公司,专注等离子表面处理工艺。网址:
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等离子设备相关的资讯

  • 清华大学两台放电等离子烧结设备验收完毕
    清华大学两台放电等离子烧结设备验收完毕 由日本富士电波工机株式会社为清华大学制造的2台放电等离子烧结设备SPS-211Lx近日在清华大学材料学院顺利安装完毕。 创元公司代理的日本富士电波工机株式会社的放电等离子烧结设备以其优异的品质获得了用户的青睐。富士电波工机株式会社是最早开发出SPS制造技术的住友石炭公司的继承人,拥有世界上最先进的SPS技术。世界范围内拥有多达350多名的用户,其生产的放电等离子烧结设备已经广泛应用于各种新材料的研发和生产。 清华大学继2000年首次购置SPS-1050T以来取得了一系列令人瞩目的成果。时隔15年后清华大学材料学院李敬锋副院长和林元华副院长再次同时购置2台SPS设备说明了以其为代表的国内知名高校以及科研机构对于富士电波工机株式会社SPS产品的充分认可。
  • 稷以科技完成亿元级D轮融资,深耕等离子设备领域
    近日,上海稷以科技有限公司(以下简称“稷以科技”)宣布完成亿元级D轮融资。临港科创投、俱成投资、旭诺资本、鹏汇投资等共同投资。稷以科技成立于2015年,是一家专注于等离子体技术应用的半导体设备公司,为业内提供一流的等离子体应用整体解决方案,主要应用于化合物半导体制造、硅基半导体制造、半导体封装、LED 芯片、汽车电子等领域。公司核心团队人员均来自国内外半导体行业领军公司,团队经验丰富,在技术研发、应用、销售以及客户技术支持上都具备全方位的行业竞争力。稷以科技旗下多款设备包括“Triton”、“Hesita”、“Patron”、“Virgo”、“Mars”、“Metis”等,可用于化合物芯片、硅基半导体、晶圆级封装、传统封装、LED等行业的去胶、清洗、表面处理等多种工艺,设备在众多性能以及工艺方面超过海外龙头企业,打破了海外厂商垄断的局面。目前稷以科技的各类型设备已经进入传统芯片封装、LED芯片、先进芯片封装、化合物半导体制造、硅基半导体制造等领域的头部公司,获得大量订单。本次融资后,稷以科技将继续深耕等离子设备领域,同步从等离子体去胶、刻蚀拓展到成膜设备领域,致力于为客户提供更加丰富的解决方案,力争成为半导体行业特色设备的龙头。半导体设备是支撑半导体行业发展的基石,也是半导体产业链上游环节中市场空间广阔、战略价值最重要的环节之一。长期以来,中国大陆的半导体设备市场一直被海外厂商所垄断,主要的半导体设备国产化率普遍较低。随着美国对中国大陆的半导体产业进行针对性制裁,尤其是今年以来限制美国半导体设备厂商向大陆出售14nm及以下制程的设备,迫使国内半导体设备产业坚定不移向全面国产化奋进。发展独立自主的半导体设备产业,推动国产设备厂商替代海外厂商,成为了当前半导体行业发展最迫切的任务。
  • 清华大学两台放电等离子烧结设备从日本出港
    由日本富士电波工机株式会社为清华大学制造的2台放电等离子烧结设备SPS-211Lx近日从日本东京顺利出港。创元公司代理的日本富士电波工机株式会社的放电等离子烧结设备以其优异的品质获得了用户的青睐。富士电波工机株式会社是最早开发出SPS制造技术的住友石炭公司的继承人,拥有世界上最先进的SPS技术。世界范围内拥有多达350多名的用户,其生产的放电等离子烧结设备已经广泛应用于各种新材料的研发和生产。清华大学继2000年首次购置SPS-1050T以来取得了一系列令人瞩目的成果。时隔15年后再次同时购置2台SPS设备说明了以其为代表的国内知名高校以及科研机构对于富士电波工机株式会社SPS产品的充分认可。

等离子设备相关的方案

等离子设备相关的资料

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等离子设备相关的论坛

  • 等离子体废气处理设备的放电等离子体处理

    目前,我国对废气处理的重视程度越来越高,越来越多的企业投资于等离子废气处理设备。   等离子废气处理设备工业尾气的放电等离子体处理因其自身的特点受到企业的青睐。   下面介绍了一种等离子体废气处理设备的放电等离子体处理方法。   等离子废气处理设备   等离子废气处理设备的放电等离子体处理方法是通过高压放电获得非热平衡等离子体;   产生大量的由电子产生的O、OH、N基活性粒子,破坏C-H、C-C等化学键,引起置换反应。   尾气分子中H、Cl、F等的作用,然后产生CO_2和H_2,即工业废气经排放处理以后不再对人的健康有害。   等离子废气处理设备是目前处理有害气体的有效方法之一。   世界对协同催化剂和反应器进行了大量的研究工作。   在等离子体中添加催化剂,可以提高污染物的去除效率,大大降低能耗和副产物。   世界上对这种协同催化剂的研究主要集中在金属氧化物和二氧化钛催化体系。   利用等离子体和催化反应的协同作用,提高有机废气的净化率,使能耗降低是成功的。

  • 业务员推荐等离子清洗机设备!

    上周在休息室里看到了已转行不久的业务前辈,就上去打招呼顺聊几句。得知是为了客户订单来才来我司的。说现在还在帮之前的客户和我们公司下单!我又纠结又好奇,有这样不觉得麻烦的客户?不直接找公司业务负责人下单,找已经辞职的员工?老板没意见? 前辈倒是很坦然的说:在每次都用心和客户合作,过程中她帮了客户很多忙。客户需要什么真空镀膜设备公司没有这款货,她就去同行中帮客户找,在生意中她也经常给客户提一些好的建议。长此以往,客户因他的真心实意和她成了朋友,并对她产生了信任及信赖感。后来因个人原因转行了,因此客户跟她在聊天的时候主要聊生活。一天,这位客户突然打电话找她说他公司的产品表面常常会有油脂、油污等需要什么设备清理等?她就根据客户分析情况,告诉他我们公司正好有生产他们公司需要的等离子清洗机,等离子体在电磁场内空间运动,并轰击被处理物体表面,达到去除油污洁净及表面氧化物。结合他们公司的产能需求和目前的发展状况,推荐了合适的机型给他,最后让他直接跟我司原来的业务经理联系。可客户却一口回绝,说:“我相信的是你,不是你们公司,而是你对我事业的真诚”无奈之下,她只能自己接下来请我公司的同事安排发货。最后,前辈笑了笑说:因为我对客户的用心,才成就了今天客户如此的信任。http://i04.c.aliimg.com/img/ibank/2012/627/769/639967726_272236338.jpg 由这事可以见得,工作是人用心做出来的,所谓做的不是生意,交的就是朋友心。我们可以看出前辈很有人情味,因为她的人情味感染了客户,让客户信任她。但是我想这是每个老板都不愿意看到的,这使客户与这家企业失去了合作的可持续性。业务员在公司的时候,客户愿意合作;她辞职离开了,等于也带走了客户。这会给企业带来很大的损失(既失去了员工,也失去了客户)。在服务客户的过程中,她做到的仅仅是让客户依赖他自己,并没有让客户依赖他所在的公司和他的产品。个人认为做为一名成功的业务员把自己推销出去的同时还要把对公司的信任感也带给客户,我们卖的不是个人的产品,而是公司的产品,这样才能长久的发展下去,留住广大的客户群。前辈处事还是更谨慎一些较好,虽然遵守了职业道德。但凡是小心使得万年船,不要因离职后给公司和自身都带来了不必要的的麻烦。 但我司老总说更重视人,说我们卖产品,更重要在于业务员,没有不好卖的产品,只有不会卖的业务员。我们的业务员们就做好自己,让潜在客户信赖自己,信赖产品。更信赖公司。 本文由广东肇庆振华真空提供分享!

等离子设备相关的耗材

  • PlasmaDecap 等离子开封设备
    PlasmaDecap 等离子开封设备等离子开封设备是为蚀刻模具化合物,聚酰亚胺芯片特别研发的,无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。主要原素:优化开封微芯片开封处理程序快速高刻蚀率及低成本符合环保要求 优点:对铜线及银线线无伤害开封处理程序快速 高刻蚀率及低成本符合环保要求
  • 等离子体主动热探头
    等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量,也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高,特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本,该版本有一个更多可选的可调参数,可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中,对等离子体工艺的表征,控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量,保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空 耐温高达450°C 能量流入可多达(2±0,001)W/cm2 可衡量 可变长度和几何图形 包括系统控制和评估的软件包 提供安装服务和流程优化咨询
  • 微波等离子体源
    微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器,可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气,氦气,确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用,广泛的操作范围内的气体流量和微波功率,以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能,成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术,广泛用于科学研究和工业应用,是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛,主要用于那些质量,生产力,环境的可持续性,精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析(如有机汞,铅,锡化合物) 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm(1.50米电缆接头) 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm (高x宽x深) 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗<200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求,提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W(可选)气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线
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