四探针系统

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四探针系统相关的厂商

  • 南京宇微系统集成有限公司,是一家专业的半导体晶圆测试技术服务公司,总部设在江苏南京,公司专注于射频微波及半导体器件领域,为半导体测试提供最佳的系统集成解决方案和技术支持服务。宇微系统集成是MPI在中国大陆的授权经销商,提供各种高精度的手动、半自动、全自动探针台及附件等测试设备,同时提供基于芯片晶圆测试的集成解决方案,并为客户量身开发自动测试软件。
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  • 公司简介:    深圳市森东宝科技有限公司(Cindbest)是香港森东宝国际有限公司在大陆的全资子公司,自主研发CINDBEST品牌探针台、激光修复仪、集代理半导体测试仪表的综合型厂家。    激光修复仪类型 32寸半自动、32寸手动、70寸半自动、70寸手动激光修复仪    CINDBEST探针台类型   普通晶圆测试探针台、太阳能电池测试探针台、积分球探针台、高压探针台、磁场探针台、高低温探针台、气敏分析探针台、低温真空探针台    探针台配件   长工作距离体式显微镜、金相显微镜、三丰、motic显微镜、微光显微镜、样品加热变温台、防震桌、屏蔽箱、三轴调节探针座、RF四维探针座、高频探针夹具、管状同轴夹具、管状三轴夹具、弹簧同轴夹具、弹簧三轴夹具、钨探针(硬探针、软探针)、GGB高频探针等各类探针台配件 欢迎各位前来咨询,我们将竭诚为您服务!公司官方网址:www.cindbest.com
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  • 橙河微系统科技(上海)有限公司创立于2019年,总部位于上海湾谷科技园, 是具有全球领先水平的三维微纳金属制造技术的高新技术企业。公司秉承着“引领微纳科技,挑战微观极限,释放未来潜力”的发展理念,通过技术不断创新,将“三维微纳金属制造”技术推向新的极限, 填补了国内外纳米精密制造尺度方面的空白 ,该技术的核心价值在于可将微纳级结构设计实物化。橙河不断为超精密复杂金属结构制造领域的研发者和使用者提供硬件、软件和服务的创新与整合。通过近十年的研究和运用,该技术已获多项国际最前沿的技术工艺突破性成果,拥有数10项核心专利技术,并已经在生物科技领域、半导体、新能源等多个领域实现产业化落地。•将微纳级结构设计实物化•为该领域的科研开发和工业生产提供实际运用制造平台。• 成功实现多种金属三维纳米尺度的复杂结构制造。• 可运用于众多尖端金属设备生产,例如:神经探针脑机接口、 5G、微真空集成器件和 电路、微电子、 MEMS、锂电池微纳电极、超级电容等。
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四探针系统相关的仪器

  • 四点探针系统 400-860-5168转3827
    这款四点探针系统是一款易于使用的工具,用于快速测量材料的薄层电阻,电阻率和电导率。 通过使用我们自己的源测量单元,我们能够创建一个低成本的系统,使测量范围更广泛。 探头采用弹簧加载接触,而不是尖锐的针头,防止损坏精密样品,如厚度在纳米左右的聚合物薄膜。 四点探针系统为您的研究提供以下益处:? 广泛的薄膜电阻测量范围,从10mΩ/□到10MΩ/□? 弹簧加载的探针保护易损的样品免受损坏? 体积小巧,可用于空间有限的繁忙实验室? 易操作的PC软件,用于薄膜电阻,电阻率和电导率的测量? 使用自动校正因子计算加快材料表征? 使用保存设置可轻松重复测量 特征:广泛的测量范围 - 四点探头能够提供10 nA-100 mA的电流,并且可以测量低至100μV-10 V的电压。广泛的薄层电阻测量范围,从10mΩ/□到10MΩ/□,可表征多种材料。 非破坏性测试 - 设计时考虑到了精密样品的测量,四点探头采用镀金弹簧接触圆头, 60克的恒定接触力,防止探针刺破脆弱的薄膜,同时仍能提供良好的电接触。 节省空间的设计 - 通过垂直堆叠组件,我们能够将四点探头的占地面积降至最低(总台面面积12 cm x 30 cm),甚至可以在缺乏货架空间的实验室中使用。 易于使用 - 只需插入系统,安装软件,即可开始使用! 直观的界面和清洁的设计,简化了薄膜电阻的测量。 快速材料表征 - PC软件可执行薄膜电阻,电阻率和电导率所有必要的测量和计算,从而使材料表征变得毫不费力。 不要忘记保存您的实验数据 - 用于测量的设置会与数据一起保存,从而轻松查看实验的详细信息。 此外,这些设置文件可以通过相同的软件加载,加快重复测量和材料表征。 用更少的时间重复测量,您的研究成果可以显着增加应用示例:材料特性 - 电阻率是材料的固有特性,也是重要的电学特性。 它可以通过测量已知厚度的薄膜薄层的电阻来确定,这使得四点探针测量成为材料电特性的关键技术。 薄膜太阳能电池和发光二极管 - 薄膜器件(如钙钛矿太阳能电池或有机发光二极管)需要薄的导电电极,横向输送电荷以进行提取。 因此,需要低表面电阻材料来减少这个阶段的潜在损失。 当试图放大这些设备时,这变得更加重要,因为电荷在它们可被提取之前,不得不沿着电极方向行进。测量规格电压范围100μV至10 V当前范围10 nA到100 mA薄层电阻范围10mΩ/□至10MΩ/□测量精度 ±4%测量精度±0.5%
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  • FT-351高温四探针电阻率测试系统一、概述:采用由四探针双电测量方法测试方阻和电阻率系统与高温试验箱结合配置专用的高温测试探针治具,满足半导体材料因温度变化对电阻值变化的测量要求,通过先进的测控软件可以显示出温度与电阻,电阻率,电导率数据的变化曲线,是检验和分析导体材料和半导体材料质量的一种重要的工具。二、适用行业:广泛用于:生产企业、高等院校、科研部门对导电陶瓷、硅、锗单晶(棒料、晶片)电阻率、测定硅外延层、扩散层和离子注入层的方块电阻以及测量导电玻璃(ITO)和其它导电薄膜的方块电阻、电阻率和电导率数据.三、功能介绍:液晶显示,无需人工计算,并带有温度补偿功能,电阻率单位自动选择,仪器自动测量并根据测试结果自动转换量程,无需人工多次和重复设置。采用高精度AD芯片控制,恒流输出,结构合理、质量轻便,运输安全、使用方便;配备软件可以由电脑操控,并保存和打印数据,自动生成报表;本仪器采用4.3吋大液晶屏幕显示,同时显示液晶显示:电阻、电阻率、方阻、温度、单位换算、温度系数、电流、电压、探针形状、探针间距、厚度 、电导率,配置不同的测试治具可以满足不同材料的测试要求。测试治具可以根据产品及测试项目要求选购.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法国家标准并参考美国 A.S.T.M 标准。利用电流探针、电压探针的变换,进行两次电测量,对数据进行双电测分析,自动消除样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响,它与单电测直线或方形四探针相比,大大提高精确度,特别是适用于斜置式四探针对于微区的测试。四、技术参数资料1.方块电阻范围:10-5~2×105Ω/□2.电阻率范围:10-6×106cm3.测试电流范围:0.1μA ,1μA,10μA,100μA,1mA,10mA,100 mA4.电流精度:±0.1%读数5.电阻精度:≤0.3%6.显示读数:液晶显示:电阻、电阻率、方阻、温度、单位换算、温度系数、电流、电压、探针形状、探针间距、厚度 、电导率7.测试方式: 双电测量8.工作电源: 输入: AC 220V±10% ,50Hz 功 耗:30W9.整机不确定性误差: ≤4%(标准样片结果)10. 温度: 1200℃可调节;冲温值:≤1-3℃;控温精度:±1°C11、升温速度:9999分钟以内自由设定,一般10分钟内即可升到900℃;功率:3kw.12、炉膛材料:采用复合陶瓷纤维材料,具有真空成型,高温不掉粉的特征。13.专用测试PC软件一套,USB通讯接口,软件界面同步显示、分析、保存和打印数据!14.选购:电脑和打印机还有如下相关产品:FT-351高温四探针电阻率测试系统;FT-352导体材料高温电阻率测试系统; FT-353绝缘材料高温表面和体积电阻率测试系统 ROOKO/瑞柯品牌,来自瑞柯仪器公司,一个专注于改变人们生活方式和品质的企业. 专业与精致并重;智慧之原
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  • 广东熔炼方块电阻测试仪,烧结四探针软件测试系统涂覆电导率测试仪, 涂布层电阻测试仪 FT-361超低阻双电四探针测试仪 一、概述:本品为解决四探针法测试超低阻材料方阻及电阻率,最小可以测试到1uΩ方阻值,是目前同行业中能测量到的最小值,采用高精度AD芯片控制,恒流输出,结构合理、质量轻便,运输安全、使用方便;适用于生产企业、高等院校、科研部门,是检验和分析导体材料和半导体材料质量的一种重要的工具。本仪器配置各类测量装置可以测试不同材料。液晶显示,无需人工计算,并带有温度补偿功能,电阻率单位自动选择,仪器自动测量并根据测试结果自动转换量程,无需人工多次和重复设置。选配:配备软件可以由电脑操控,并保存和打印数据,自动生成报表;本仪器采用4.3吋大液晶屏幕显示,同时显示液晶显示:电阻、电阻率、方阻、温度、单位换算、温度系数、电流、电压、探针形状、探针间距、厚度 、电导率,配置不同的测试治具可以满足不同材料的测试要求。测试治具可以根据产品及测试项目要求选购.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法国家标准并参考美国 A.S.T.M 标准。利用电流探针、电压探针的变换,进行两次电测量,对数据进行双电测分析,自动消除样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响,它与单电测直线或方形四探针相比,大大提高精确度,特别是适用于斜置式四探针对于微区的测试。选购:本机还可以配合各类环境温度试验箱体使用,通过不同的测量治具满足不同环境温度下测量方阻和电阻率的需求.二、广泛用于:覆盖膜 导电高分子膜,高、低温电热膜 隔热、防辐射导电窗膜 导电(屏蔽)布、装饰膜、装饰纸 金属化标签、合金类箔膜 熔炼、烧结、溅射、涂覆、涂布层,电阻式、电容式触屏薄膜 电极涂料,其他半导体材料、薄膜材料方阻测试硅晶块、晶片电阻率及扩散层、外延层、ITO导电箔膜、导电橡胶等材料方块电阻 半导体材料/晶圆、太阳能电池、电子元器件,导电薄膜(ITO导电膜玻璃等),金属膜,导电漆膜,蒸发铝膜,PCB铜箔膜,EMI涂层等物质的薄层电阻与电阻率 导电性油漆,导电性糊状物,导电性塑料,导电性橡胶,导电性薄膜,金属薄膜,抗静电材料, EMI 防护材料,导电性纤维,导电性陶瓷等 三、参数资料1.方块电阻范围:10-6~2×102Ω/□2.电阻率范围:10-7~2×103Ω-cm3.测试电流范围:0.1μA ,1μA,10μA,100μA.4.电流精度:±0.1%读数5.电阻精度:≤0.3%6.显示读数:液晶显示:电阻、电阻率、方阻、温度、单位换算、温度系数、电流、电压、探针形状、探针间距、厚度 、电导率.7.测试方式: 双电测量8.工作电源: 输入: AC 220V±10% ,50Hz 功 耗:30W9.整机不确定性误差: ≤4%(标准样片结果)10.选购功能: 选购1.pc软件; 2.方形探头; 3.直线形探头; 4.测试平台11.测试探头: 探针间距选购:1mm;2mm;3mm三种规格 探针材质选购:碳化钨针 白钢针;镀金磷铜半球形针ROOKO/瑞柯品牌,来自瑞柯仪器公司,一个专注于改变人们生活方式和品质的企业.
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四探针系统相关的资讯

  • 我司在上海某高校成功安装基于Janis 探针台和Keithley 4200半导体特性仪的测试系统。
    我司于2017年1月在上海某高校成功安装基于Janis 探针台和Keithley 4200半导体特性仪的测试系统。该探针台配置四个三同轴探针臂和两个光纤探针臂,漏电流优于50fA。该探针台变温范围大(8K-675K)。我司提供Keithley 4200半导体特性仪,并提供集成变温IV、CV和输运和转移特性等测试软件 变温测量IV和VI曲线 变温场效应管(横坐标Vgs,纵坐标Ids, 不同曲线代表不同的Vds和温度) 变温场效应管(横坐标Vds,纵坐标Ids, 变温CV测试(横坐标偏压,纵坐 不同曲线代表不同的Vgs和温度) 标电容,不同曲线代表不同温度)
  • Nanoscribe微纳3D打印系统助力扫描探针成像系统技术突破
    研究背景为了探索待测物微纳米表面形貌,探针扫描成像技术一直是理论研究和实验项目。然而,由于扫描探针受限于传统加工工艺,在组成材料和几何构造等方面在过去几十年中没有显著的研究进展,这也限制了基于力传感反馈的测量性能。 如何减少甚至避免因此带来的柔软样品表面的形变,以实现对原始表面的精确成像一直是一个重要议题。 Nanoscribe设备加工的“减震器“纳米探针近日,东南大学生物科学与医学工程学院、生物电子学国家重点实验室顾忠泽教授和赵祥伟教授等人在Nature热门子刊Nature Communications上报道了一种新的扫描探针设计和加工方案,使用德国Nanoscribe公司的微纳3D打印系统制作一种基于层次堆叠单元的低密度三维微纳结构,旨在利用谭政自身机械特性来减少探针-样品的过度机械作用。在该工作中,研究人员借鉴生物组织的多孔结构在能量吸收,传导和缓释的有效作用,提出了低密度的结构可控机械材料(Materials with Controlled Microstructural Architecture, MCMA), 作为探针本体的构筑设计,并且通过 Nanoscribe公司先进的微纳米增材技术进行激光直写制备。微结构缓冲材料与扫描成像系统的创新集成为尖端成像方案开辟了林一条道路,促进了基于3D激光直写制备的多功能扫描探针成像系统的发展。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统,双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印最有效的技术,其打印物体的最小特征尺寸可达亚微米级,并可达到光学质量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及广泛的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。了解更多双光子微纳3D打印技术和产品信息请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技(上海)有限公司Photonic Professional GT2 双光子微纳3D打印设备Quantum X 灰度光刻微纳打印设备
  • 新一代核探针信号探测系统研制成功
    记者近日获悉,中科院上海应用物理所在国内首次研制成功新一代多功能核探针信号探测与数据获取系统。项目组负责人李晓林介绍,“该系统具有全元素分析、三维成像和微器件制作等三大功能”,可在中科院核分析技术重点实验室的扫描核探针上,同时开展微束质子激发X射线荧光分析、卢瑟福背散射、质子激发伽马射线分析、弹性反冲分析和扫描透射离子显微成像等分析以及质子束刻写微器件加工。   他们研制了4LB-I多站多参量数据采集与束流扫描系统,拥有自主知识产权,解决了扫描核探针多站多参量数据采集与束流扫描这一关键核心系统长期依赖国外进口的问题。

四探针系统相关的方案

四探针系统相关的资料

四探针系统相关的论坛

  • 四探针电阻率测试仪

    四探针电阻率测试仪。XH-KDY-1BS 型四探针电阻率测试仪是严格按照硅材料电阻率测量的国际标准(ASTM F84)及国家标准设计制造,并针对目前常用的四探针电阻率测试仪存在的问题加以改进。整套仪器有如下特点:1、 配有双数字表: 一块数字表在测量显示硅片电阻率的同时,另一块数字表(以万分之几的精度)适时监测全过程中的电流变化,使操作更简便,测量更精确。数字电压表量程:0—199.99mV 灵敏度:10μV输入阻抗:1000ΜΩ基本误差±(0.04-0.05%读数+0.01%满度)2、可测电阻率范围:10—4 —1.9×104Ω·cm可测方块电阻范围:10—3 —1.9×105Ω/□。2、 设有电压表自动复零功能,当四探针头1、4 探针间未有测量电流流过时,电压表指零,只有1、4 探针接触到硅片,测量电流渡过单晶时,电压表才指示2、3 探针间的电压(即电阻率)值,避免空间杂散电波对测量的干扰。3、 流经硅料的测量电流由高度稳定(万分之五精度)的特制恒流源提供,不受气候条件的影响,整机测量精度10 万次),在绝缘电阻、电流容量方面留有更大的安全系数,提高了测试仪的可靠性和使用寿命。5、 加配软件配电脑使用,实现自动换向测量、求平均值,计算并打印电阻率最大值、最小值、最大百分变化率、平均百分变化率等内容。6、 四探针头采用国际上先进的红宝石轴套导向结构,使探针的游移率减小,测量重复性提高(国家知识产权局已于2005.02.02 授予专利权,专利号:ZL03274755.1)。

四探针系统相关的耗材

  • 汲取式光纤探针系统
    汲取式光纤探针对于过程中的实时在线样品检测和实验室应用特别有用。在一个液态样品不能用比色皿测量的情况下,汲取式光纤探针附件能够测量其吸光度和透过率。反射式光纤探针结合S-3100使用可以生成小的光感系统以测量固体表面的反射。
  • 大面积扫描开尔文探针系统配件
    大面积扫描开尔文探针系统配件能够在垂直方向移动开尔文探针实现电动控制开尔文探针与样品的距离。 样品安装到真空吸盘上,真空吸盘可带着样品移动150x150mm位移,从而实现开尔文扫描探针系统大面积扫描样品表面。大面积扫描开尔文探针系统配件特色: 电动控制开尔文探针与样品的距离 电动控制样品XY移动范围150 mm x 150 mm 具有编码器的主动定位定位追踪系统 Z方向步进大小: 625 nm X - and Y-方向: 5 μm / microstep 功函分辨率:: 1 meV with 1.4 mm tip diameter on metals 最小的探针直径: 0.1 mm 集成法拉第防护功能 框架表面镀金 开尔文探针头采用纯金工艺 最大外形尺寸: 50 cm (W) x 60 cm (D) x 25 cm (H) 最大样品尺寸: 150 mm x 150 mm 真空样品吸盘 包含参考样品标准: HOPG, Au on Si, Al/Au-edge, Potential Check 可选配温度和湿度传感器
  • 单点开尔文扫描探针系统配件
    单点开尔文探针系统配件是全球首款用于室温条件和普通实验室条件下的系统,具有极为紧凑结构,可安放到各种环境箱或防尘罩中,探针头与振荡薄膜一起使用,预放大器集成到探针头中,方便更换。 单点开尔文扫描探针系统配件参数 探针与样品表面之间采用电动控制调节距离 Z轴定位分辨率: 5 μm 功函分辨率: 1 meV with 1.4 mm tip diameter on metals 最小的探针直径: 0.1 mm 集成法拉第防护功能 开尔文探针头采用纯金工艺,底板表面镀金 样品架磁性固定到底板上 样品架直径:40mm 带有 3 mm 孔用于标准SEM样品架子 最大可测样品尺寸: 100 mm x 100 mm (mounted on Base plate) 振动隔离腿设计 包括参考样品材料: HOPG, Au on Si 配备汤姆森控制器和计算机 可选配温度和湿度传感器
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