射频功率源

CESAR 射频发生器强大而多功能的 Cesar 平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现优化，从而使您的投资和制程生产力得到较好的利用。一个全面而灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了很好的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本最小化。优点功能更长的制程正常运行时间更高的操作简易性和灵活性无需定制组件提前期的定制化性能长期的使用简易性，节省成本优质的服务和支持 精簡的流线型设计标准的平台包装高效率——低发热量200和400 VAC 的输入选择两个模拟用户端口选择RS-232、以太网、和 Profibus 通讯多功能前面板便利、全面的操作菜单CEX（相位同步）操作模式遵循 SEMI™ （符合或超过标准）

安立MA24105A通过式峰值功率传感器能够在350 MHz 到 4 GHz的频率范围下提供准确的平均功率测量，其功率测量范围涵盖2mW至 150 W。该传感器在其采用"双通道"内部架构的二极管传感器前端配备一个独立的定向耦合器，能够在整个频率和动态范围内提供（类似于热敏传感器）真有效值测量，使得用户能够对 CW、多音信号以及数字调制信号（如 GSM/EDGE、CDMA/EV-DO、WCDMA/HSDPA、WiMAX 和 TD-SCDMA）执行高度准确的平均功率测量。传感器中的信号调节回路、ADC 、电源及微处理控制器共同构成一个功能全面的功率计。正向路径还包括一个4MHz带宽通道，峰值和比较器/集成电路，由此增加了测量功能，比如：PEP功率、波峰因子、CCDF测量功能和突发平均功率.另一反向检测电路增加了反向功率测量功能，包括反向功率、反向系数、回波损耗和SWR. 微控制器、信号调节电路ADC，以及传感器中的电源，使之成为一个完整的微型功率计。与个人电脑搭配操作可以通过USB接口与Microsoft Windows系统的个人电脑相连接使用。其带有PowerXpert™ 应用软件 (版本 2.1 或更高)，可用于数据显示、分析和功率传感器的控制。软件提供了一个前窗面板，使得PC界面如同传统的功率计。这款应用软件有极丰富的功能特点，比如数据记录、功率Vs时间，以及偏移表，实现快速精确的测量。频率范围350 MHz - 4 GHz动态范围2 mW to 150 W (+3 dBm to 51.76 dBm)输入回损29.5 dB, ≤ 3 GHz26.5 dB, ≤ 4 GHz测量不确定度 3.8%射频接头N (F)一批功率计，反射仪，激光器等最后清仓中序号名称型号数量描述厂家备注1安立射频功率计MA24105A1Inline Peak Power Sensor, 350 MHz to 4 GHz安立全新2安立光功率计5P100-FC1安立全新3光时域反射仪MU909815C11310，1550，1650波长，三波长，35dB安立全新4光时域反射仪MU909014A51650波长，单波长，30dB安立全新5MT9090模块MU909014A91650波长模块安立全新6泵浦激光器AF4B116AA75L34安立全新7泵浦激光器AF4B230CU550F1安立全新8校准套件3669B1V Connector Verification Kit安立全新9天馈线测试仪S251B1安立全新10天馈线测试仪S332D1安立样机11SDH样机MP1590B1安立样机12现场综测测试仪CMA30001安立全新13衰减器41KC-201Precision Fixed Attenuator, 20 dB, DC to 40 GHz, 50 Ohm, K(m) - K(f)安立全新14功率传感器MA2411B1安立全新15互调仪MW82119A1安立全新16偏置器5585-1141BIAS TEE，2-18HGz,100V,6A,SMA J-PPicosecond全新17偏置器5589-1141BIAS TEE，3-2.86HGz,100V,7A,SMA J-PPicosecond全新18衰减器89-30-121 avg 10W, 2.92mm(m-f)安捷伦全新19黄青蛙功率计0077-2-R5YellowFrog power meter 700 MHz to 2.7 GHz黄青蛙全新20鸟牌射频功率计5000-EX3Digital Power Meter鸟牌全新21鸟牌探头50124Wideband Power Sensor鸟牌全新22衰减器8490D-02012.4mm(m-f)，RF power avg 1W Coxial fixed attenuator,dc-50GHz with options 020Aeroflex全新23转接头506542.4(m)-3.5(m)Aeroflex全新24转接头506622.4(m)-3.5(f)Aeroflex全新25转接头506722.4(f)-3.5(m)Aeroflex全新26转接头506823.5(f)-2.4(f)Aeroflex全新27转接头508543.5(m)-3.5(m)Aeroflex全新28转接头51121N(m)-APC7Aeroflex全新29转接头514023.5(m)-APC7Aeroflex全新31转接头514423.5(m)-N(m)Aeroflex全新32转接头514513.5(f)-N(m)Aeroflex全新33转接头514623.5(m)-N(f)Aeroflex全新34转接头514842.4(f)- 2.4(f)Aeroflex全新35转接头514942.4(m)-2.4(m)Aeroflex全新36转接头515222.4(f)- 2.92(m)Aeroflex全新37转接头515322.4(m)- 2.92(f)Aeroflex全新38转接头515432.4(m)- 2.92(m)Aeroflex全新39转接头515722.4(m)-N(m)Aeroflex全新40转接头518222.4(f)-APC7Aeroflex全新41国产电缆4742国产转接头4943电源线16744国产校准件145国产电池146电源适配器5447偏置器248混频器149连接器750国产衰减器751延长线952定向天线453全向天线1154八木天线1055串行接口电缆256跳线557铝箱4758中号升降平台159大号升降平台160软包561以太网线262功分器363国产负载1764可调谐光源样机模块2

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产 右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109