去氢厄弗酚

Equality采用涡流方式进行粉体加工的设备，主要应用在微粉混合，以及粉体表面改性处理，粉体表面包覆等高端粉体加工中，处理效率极高.参数规格：联系人：ChrisTEL: MAIL：

仪器简介：获得 R&D100 大奖的 H-Cube Pro 是 Thalesnano 公司研发的台式氢化反应系统，它为氢化反应创造了革命性的新方法。使得在普通实验室传统方法不能灵活运用的氢化反应得以连续流动的方式安全进行。配合可以自行填充的专利催化柱 CatCart，使得氢化反应产率更高，反应也更迅速。氢化反应所需要的氢气由仪器电解水产生，避免了外接氢气钢瓶带来的潜在不便和危险。H-Cube Pro 上的所有操作都可以通过触摸屏面板进行监控，相当的容易上手。H-Cube Pro 可以在绝大多数的实验室环境中都能安全使用，其迷你外形能适应大多数操作空间。氢化反应主要特点：H-Cube Pro 产品解决了传统催化氢化还原反应器微型化、氢气和反应装置安全性要求高、高压釜操作劳动量大和操作要求高、催化剂需要过滤、难以控制催化剂自燃、氢化反应时间长、转化率低和不能控制还原过度等问题。H-Cube Pro 系统不同于传统实验室釜式、间歇反应，是流动化学在实验室的典型应用和创新应用。H-Cube Pro 产品体积小，在实验室通风橱内就可操作，安全性高。需要手动链接部位少，既避免了泄漏危险气体，也保证体系压力稳定。H-Cube Pro 的反应系统体积小，所需原料样品量少，样品大于10mg 即可，特别是只有微量、珍贵原料时，H-Cube Pro 也能轻松实现反应。H-Cube Pro 含有内置小型氢气发生装置和氢气泄漏检测装置，实验完毕后剩余氢气排空，保证了实验的安全性。H-Cube Pro 将催化剂封装使用，避免了传统氢化的催化剂使用和过滤中的危险隐患。小型化的 H-Cube Pro 将传统常规高压釜的高温、高压、间歇、大体积的反应改变成了微量、连续流动、小体积、链接部件少的安全性高的反应。特别是在对含有多官能团的复杂化合物的还原中，令人惊奇的是发现在不同流速、温度和压力下，反应产生了不同的产物，并且实现了可控高选择性（95%），而在传统高压釜反应中则观察不到这样的高度的选择性和可控性，只能得到单一或混合产物。主要优势：底物连续流动在和原位电解产生的氢气混合后进入反应腔体，在微流动的技术及专利催化柱技术的促进下，有效提高了三相混合的效率。氢气底物混合物能够迅速，均匀地被加热至 150℃ 及 100bar，在这个条件下，大部分反应只需要几分钟时间就可以达到极高的转化。反应氢气混合物在催化柱里能有效和催化剂表面接触，在高温高压下快速反应并经过滤片后收集。5分钟左右就能进行10mg-100g 的反应物还原，转化率极高。氢化反应过后催化柱无需过滤，也避免了催化剂自燃，可以回收再用。系统操作利用触屏显示器，操作简单，智能化程度高，可对反应在线修改。技术参数：反应通量 10mg-100g温度范围 RT-150 ℃压力范围 Up to 100 bar系统材质 标准材质或316L 不锈钢流速 Up to 3 mL/min电压 110-220 V频率 47-63 Hz电解水参数 去离子水，建议传导率：71.4 ns/cm2氢气量控制 氢气百分含量可调应用领域：氢化还原反应氢化去硫反应硝基还原反应烯烃氢化反应炔烃氢化反应腈类化合物还原反应去磺化反应去卤素反应亚胺还原反应N-，O-去苯基化反应去重氮化反应

一、产品描述MFLPECVD408-12是一款PECVD系统的管式炉系统。由真空管式炉、射频电源、供气系统、真空系统组成。 最高温度可以达到1200度，采用30段程序温控仪表，K型热电偶，炉膛为高纯氧化铝陶瓷纤维,此设备可用于生长纳米线或用CVD方法制备各种薄膜。二、产品特点1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。二、技术参数设备型号MFLPECVD408-12管式炉控温范围室温-1200℃工作温度≤1100℃加热区长度400mm石英管直径 80mm，长 1400mm (管径可选 50， 60 ，100)控温精度＜1000 ±0.1℃ ； ≥1000±1℃恒温波动±1℃（测试点为1000℃）升温速度推荐1000度以下≤10℃/min，最快升温速度≤30℃/min降温速度700℃以上≤10℃/min炉表温度炉体表面温度小于室温+10（测量点为1000℃）测温元件K型热电偶控温模式模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能电压功率220V 3KW供气系统气路通道4路气路流量控制质子流量控制器（七星流量计）控制精度±1.5%F.S重复精度±0.2%F.S流量范围1-500 SCCM机械压力表一块机械压力表在面板，和混气灌连接量程：-0.1～0.15 Mpa真空系统方案一（低真空：机械泵）电源220V极限真空度5X10-1 Pa抽气速率2升/每秒真空挡板阀 KF25型号VRD-8电机功率0.4KW真空系统方案二（高真空：机械泵+分子泵机组）型号GZK-16-600 电源AC100-240 50/60HZ 功率1KW 重量25KG 极限压强1.0*10-4Pa进、排气接口KF40冷水机最大流量10L/MIN真空计复合真空计真空控制精度± 1%真空计测量范围1.0x10 - 1.0x10-5pa 电源（等离子体发生器）功率输出范围 0-500W功率稳定度≤±5W工作频率射频：13.56MHZ±0.005%匹配方式自动冷却方式风冷噪声 50dB安全工作环境RT±5-40℃使用保障开门断电 超温报警 漏电保护 过温保护管式炉一台出厂清单真空系统一套供气系统一套射频电源一套高温手套卡斯顿一双炉勾一把气管一根设备说明书一份仪表说明书一份保修卡一份选购品移动炉架不锈钢触摸屏智能仪表50段编程，可实现与计算机连接。通过专用的计算机控制系统来完成与单台或多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。注：管径可选：50/60/80/100/120/150/200/300 mm , 温区可以做双温区，三温区等多温区， 请联系客服