彩色显影剂

v 全封闭式桌面显影机，主要用于半导体制造中晶片的显影工艺，设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业v 支持wafer尺寸：碎片至200mm（可根据客户需求定制四管路或更大基片）v 单步工艺及多步工艺可选，内置100组可编辑程序v 转速分辨率：±1 RPMv 旋涂速度：20-3000rpm（空载）v 旋涂加速度：10-10,000rpm/sec（空载）工艺时间设定：0-3,000sec/step，时间设置精度： 0.1sec深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供--实验型显影机customized-2，--customized-2为进口实验型显影机。除了有实验型显影机的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多进口及国产实验型显影机，客服电话400-860-5168转5919，售前售后均可联系。

显影机DEVELOPER设计用于以下应用：显影、清洁和干燥应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且可以升级成自动化的系统达到更高的片到片工艺重复性。1. UNIXX D20 高级版（直径200mm）带有可移动飞溅环的独立系统，用于手动装载/卸载单个基材。2.UNIXX D30标准（Ø 300毫米）单机系统为用户提供在科学方面，以及具有高效、安全和清洁系统的研究。

适用用圆片尺寸: 2”、3”、4”6"、8”；以及5x5,10x10,25x25方片工艺工步：放置圆片（可辅助定中心） 启动 防溅罩到上位 真空吸片 防尘帽闭合 电机启动 吹氮气 低速滴胶 加速、高速匀胶 上刮边 下刮边电机停止 防尘帽开启 防溅帽到下位 去真空、卸片（工艺结束）以上各工步流程为自动执行，其中防尘帽、防溅帽、真空具有手动功能；主轴径向跳动≤0.02mm，轴向窜动≤0.04mm；主轴转速：200～7000转/分，误差±20转/分,连续可调；主轴加速度（空载）：0～3×10³ rad/秒² ，连续可调；工艺工步时间：0～999.9秒，设定增量±0.1秒；滴胶量和速度可调 半导体芯片匀胶显影机是一种用于制造半导体器件的设备，主要用于芯片制造过程中的光刻工艺。以下是有关半导体芯片匀胶显影机的简要介绍及其应用：介绍：光刻工艺： 在半导体芯片制造中，光刻是一项关键工艺，用于将图案投影到芯片表面。匀胶显影机在这个过程中发挥重要作用。匀胶过程： 在光刻工艺中，一层光刻胶被涂覆在芯片表面。这个过程中，匀胶显影机负责将光刻胶均匀涂布在整个芯片表面，确保表面平滑，以便接受后续的光刻图案。显影过程： 显影机还负责在光刻胶上暴露出所需的图案。通过显影，光刻胶的特定区域会被去除，形成光刻图案，为后续的刻蚀或沉积步骤做准备。精准性要求： 由于芯片制造对精度的要求极高，匀胶显影机必须能够实现高度的精准性和可重复性，确保芯片上的图案与设计一致。应用：集成电路制造： 半导体芯片匀胶显影机主要应用于集成电路制造过程中，帮助定义电路图案和结构。微电子器件制造： 除了集成电路，匀胶显影机也用于制造各种微电子器件，如传感器、存储器件等。先进技术研究： 随着技术的不断发展，半导体芯片匀胶显影机在先进技术研究领域也发挥着关键作用，支持新型器件的制备。光刻工艺优化： 进行芯片生产时，匀胶显影机的性能和优化对光刻工艺的成功实施至关重要，影响着芯片的性能和质量。总体而言，半导体芯片匀胶显影机在现代半导体制造中扮演着至关重要的角色，是确保芯片制造成功的关键设备之一。