盘多毛孢菌

快速、准确地分析纳米级镀层FT160 台式 XRF 分析仪旨在测量当今 PCB、半导体和微连接器上的微小部件。准确、快速地测量微小部件的能力有助于提高生产率并避免代价高昂的返工或元件报废。FT160 的多毛细管光学元件可以测量小于 50 μm 的特征上的纳米级镀层，先进的检测器技术可为您提供高精度，同时保持较短的测量时间。其他功能，例如大样品台、宽样品舱门、高清样品摄像头和坚固的观察窗，可以轻松装载不同尺寸的物品并在大型基板上找到感兴趣的区域。该分析仪易于使用，与您的 QA / QC 流程无缝集成，在问题危机发生前提醒您。产品亮点FT160 的光学和检测器技术专为微光斑和超薄镀层分析而设计，针对细小的特征进行了优化。用于从安全距离查看分析的大观察窗测量方法符合 ISO 3497、ASTM B568 和 DIN 50987 标准IPC-4552B、IPC-4553A、IPC-4554 和 IPC-4556 一致性镀层检测用于快速样品设置的自动特征定位为您的应用优化的分析仪配置选择在小于 50 μm 的特征上测量纳米级镀层将传统仪器的分析通量提高一倍可容纳各种形状的大型样品专为长期生产使用的耐用设计产品对比FT160FT160LFT160S元素范围Al – UAl – UAl – U探测器硅漂移探测器 (SDD)硅漂移探测器 (SDD)硅漂移探测器 (SDD)X射线管阳极W 或 MoW 或 MoW 或 Mo光圈多毛细管聚焦多毛细管聚焦多毛细管聚焦孔径大小30 μm @ 90% 强度（Mo tube）35 μm @ 90% 强度（W tube）30 μm @ 90% 强度（Mo tube）35 μm @ 90% 强度（W tube）30 μm @ 90% 强度（Mo tube）35 μm @ 90% 强度（W tube）XY轴样品台行程400 x 300 mm300 x 300 mm300 x 260 mm样品尺寸上限400 x 300 x 100 mm600 x 600 x 20 mm300 x 245 x 80 mm样品聚焦聚焦激光和自动聚焦聚焦激光和自动聚焦聚焦激光和自动聚焦测试点识别???软件XRF ControllerXRF ControllerXRF Controller

根据客户需求提供定制多毛细管x射线光学解决方案。多毛细管准直透镜器件 将高度发散的 X 光束转换成低发散的准平行光束。这些透镜器件主要应用于 X 射线衍射 (XRD) 和波长色散谱 (WDS)。多毛细管聚焦透镜器件 从 X 射线源收集 X 射线的大立体角，并将射线聚焦为小至 10 μm 的光斑。获得的 X 射线通量密度比用常规针孔准直器获得的高几个数量级。这些透镜器件的主要应用是微量 X 射线荧光 (XRF) 分析，广泛用于薄膜和电镀分析、贵金属评估、合金测量和电路板涂层监测。该透镜器件还可用于在诸如共焦 XRF 分析和超导能量色散 X 射线光谱仪等应用中进行检测。使用多毛细管聚焦透镜器件将显著提高检测灵敏度，并允许使用低功率 X 射线管实现高性能。微米级空间分辨率使之可应用于电子和贵金属小特性评估。多毛细管透镜器件提供 100x-10,000x 的增益，输出焦点可小至 10 μm。特性来自微米级光斑的量级通量增益• 与紧凑型低功率电源集成，可提供相当于旋转阳极源的通量 • 光谱带宽较宽：50 eV - 50 KeV• 点对点会聚光束• 点对平行光束• 可定制设计机壳优势极高的通量密度• 提高了空间分辨率• 非常适合分析形状不规则、未经制备或低阻抗的样品优于电子探针 X 射线分析：• 增强检测灵敏度• 无需特殊样品制备• 在空气中操作技术参数：Focusing Optics Applications include micro-XRF for elementalmapping, plating thickness and fine feature analysis.Working distance (mm)2492050100200Focal spot size* (μm, FWHM, 17.4keV) 7 15 25 45 100 180 300Intensity gain*(vs а plnhole collimator of same size, 100mm fгom the source) 6000 4500 3500 2000 800 300 120Note: *With а 100μm X-ray source.Half-focusing Optics (XRF/XAS) Applications include micro XRF, micro XAS, and confocal XRF. Working distance (mm)2492050Focal spot size* (μm, FWHM, 17.4keV) 7 15 25 45 100Intensity gain*(vs a pinhole collimator of same size) 850 550 400 200 80Note: *With an incident beam of 2mm in diameter and a divergent angle of 0.5mradCollimating/Parallel Beam Optics (XRD/WDS/XRF) Applications include powder XRD, texture and stress analysis, WDS and confocal XRF.Output beam diameter (mm)0.5123461015Intensity gain*1245130250370470680850Note: *With а 50μm X-ray source at 8keV, The lFD of the optics is 18mm and the output divergent angle is 0.2 degree.Figure 1: 有机玻璃散射X射线光谱Comparison of MXRF spectra generated using a focusing polycapillary optic and a pinhole aperture. The spectra was collected by scattering a Mo beam off Plexiglas.Figure 2: 采用光晕抑制型毛细管实现高分辨率 XRF Mapping Comparison of MXRF spectra generated using a focusing polycapillary optic and a pinhole aperture. The spectra was collected by scattering a Mo beam off Plexiglas.

主要性能极高的通量密度：- 采用聚焦透镜器件：50W 提供通量密度大于 12KW 的旋转阳极源- 采用准直透镜器件：50W 提供接近密封管性能的通量密度• 聚焦 X 光束的更强空间分辨率• 焦斑大小仅为5μm @ Rh Ka (20.162 kev)设计灵活，节省空间• 紧凑结构便于集成• 透镜器件或光圈可互换• 集成风冷系统• 集成快门模块符合 PTB 规定• 无油包装• 提供安全互锁• 包含 PC 控制的软件接口易维修性• 现场对齐透镜器件，可轻松更换试管技术参数公司介绍：美国XOS是一家世界知名、提供专用X射线整机分析仪器的公司。公司可以提供元素分析解决方案，以提高石油，消费品，环境测评行业的公共安全和客户效率。 产品涵盖针对不用应用行业的X射线荧光分析设备，同时包含高亮的微焦点X射线源、多毛细管X透镜和双曲弯晶聚焦镜等高端的X射线部件。