三氯甲硅烷基

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  • 【求助】DLC表面接枝十八烷基三氯硅烷(OTS)的拉曼光谱

    我在DLC表面接枝了十八烷基三氯硅烷。Raman光谱(532 nm laser excitation)检测表明,接枝后除了原来的D峰/G峰外,还出现了两个新的峰,分别位于1138 cm-1, 1532cm-1。前面一个好像是C-C stretching,后面一个我搞不懂怎么归属。请大虾帮忙。

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  • 铝表面超疏水涂层的疏冰性研究
    在低温条件下,室外设备的冻结已经成为一个严重的问题。特别是电路线、道路、飞机机翼、风力涡轮机等基础设施部件结冰对经济和生命安全造成了严重影响。铝(Al)及其合金具有重量轻、稳定性好、韧性高等优点,广泛应用于各个工业领域。然而,酸雨会腐蚀金属基底,冰雨会对铝结构造成严重的冰积。疏冰性被认为是通过保持基底表面尽可能无水和降低冰晶与基底之间的粘附力来延缓或减少冰在表面的积累。超疏水(SHP)表面由于其拒水和自清洁特性而具有疏冰性。Tan等通过水热反应在Al表面形成机械坚固的微纳结构,然后用十六烷基三甲氧基硅烷修饰形成SHP表面。其中水接触角(WCA)和滑动角(SA)采用光学接触角仪进行测量,水滴为10µ L。该SHP表面在酸性和碱性环境中都表现出令人印象深刻的疏水性,并表现出显著的自清洁和疏冰性能。图1. (a)裸铝、(b)铝表面微纳和(c)十六烷基三甲氧基硅烷改性SiO2微纳表面的WCA值。(d)不同酸碱溶液在SHP表面静置1min后的静态接触角。(e)在SHP表面静置30min后的水滴(红色1.0,透明7.0,黑色14.0,附有pH试纸)图片。(f)在不同溶液中浸泡30min后的耐酸碱性测试(左)和静态WCA(右):水(上),0.1 M HCl(中),0.1 M NaOH(下)涂层的润湿性主要受两个因素的影响:表面粗糙度和表面能,润湿性可以通过静态WCA可视化。裸铝(图1(a))、具有微纳米SiO2表面的氧化铝(图1(b))和SHP表面(图1(c))的WCA值分别为87°、134°和158°。WCA值的显著变化说明了微纳结构和十六烷基三甲氧基硅烷对SHP表面的重要性。同时,SHP表面的SA值小于5°。SHP表面也采用不锈钢和合金材料(Supplementary Movie 1)。根据Nakajima等人的报道,大的WCA和低的SA预计会导致液滴从表面滚落。图1(d)为pH 1.0 ~ 14.0溶液在SHP表面的静态WCA: WCA在148°~ 158°之间,当pH值接近7.0时,WCA值较大。图1(e)为SHP表面水滴形状(体积约60 μL, pH 1.0 ~ 14.0)。30分钟后形状没有变化。这显示出良好的耐酸性或碱性溶液。图1(f)进一步说明了SHP涂层的耐酸碱性能。左图为实验方法,右图为水(154°)、0.10 M HCl(142°)、0.10 M NaOH(143°)浸泡30 min后的WCA。这些结果表明,SHP涂层在各种酸性/碱性环境下都具有良好的性能。图2. 裸铝和SHP Al的WCA和SA在结冰状态下,进一步测量5次重复实验的WCA和SA,结果如图2所示。SHP表面的WCA约为154°,SA小于8°,而裸露Al表面的WCA约为85°,SA大于10°。因此,在SHP铝表面获得了良好的疏冰性。参考文献:[1] Tan, X., Wang, M., Tu, Y., Xiao, T., Alzuabi, S., Xiang, P., Chen, X., Icephobicity studies of superhydrophobic coating on aluminium[J]. Surface Engineering, 2020, 37(10), 1239–1245.
  • Sigma-Aldrich/Supelco提供三聚氰胺检测专用衍生化试剂
    衍生化试剂,特别是硅烷化试剂在GC分析中用途最大。许多被认为是不挥发的或在200~300℃热不稳定的羟基或胺基化合物,经过硅烷化后,可成功地进行气相色谱(GC)分析。 硅烷化作用是指将硅烷基引入到分子中,取代活性氢。活性氢被硅烷基取代后,降低了化合物的极性,减少了氢键束缚。因此形成的硅烷化衍生物更容易挥发。同时,活性氢的反应位点数目减少,化合物的稳定性得以加强。硅烷化衍生物极性减弱,被测能力增强,热稳定性提高。 Sigma-Aldrich旗下的分析品牌Supelco,有品种齐全的硅烷化试剂和其他衍生化试剂。 目前特别热销的硅烷化试剂BSTFA +1%TMCS,用于三聚氰胺检测,有如下几种不同包装规格。 货号 包装规格 33154-U 144X0.1mL 33148 20X1mL 33155-U 25mL 33149-U 50mL 备注: BSTFA [即 Bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide 双(三甲基硅烷)三氟乙酰胺 的简称] TMCS [即 Trimethylchlorosilane 三甲基氯硅烷 的简称] 关于Sigma-Aldrich: 美国Sigma-Aldrich公司,是一家致力于生命科学与化学领域的高科技跨国公司,产品涵盖生物化学、有机化学、色谱分析等多个领域,产品数量超过120,000种,是全球数以万计的科学家和技术人员的实验伙伴。Sigma-Aldrich公司旗下的两大著名分析品牌 Supelco和Fluka/RdH ,致力于分析化学领域的产品研制开发、生产销售和技术服务等,主要产品包括色谱柱、色谱耗材、固相萃取(SPE)、固相微萃取(SPME) 及品种十分齐全的高品质分析试剂和标准品,能为广大分析领域用户提供集色谱耗材、分析试剂和标准品于一体的一揽子解决方案。Sigma-Aldrich在36个国家与地区设有营运机构,雇员超过7900人,为全世界的用户提供优质的服务。 Sigma-Aldrich承诺通过在生命科学、高科技与服务上的领先优势帮助用户在其领域更快地取得成功。如需进一步了解Sigma-Aldrich,请访问我们的得奖网站:http://www.sigma-aldrich.com, 或直接联系我们: 地址:上海市淮海中路398号世纪巴士大厦22楼A-B座 邮编:200020 电话:+86-21-61415566 传真:+86-21-61415568 热线电话:800-819-3336 email:ordercn@sial.com
  • 西南大学唐超课题组MME:硅烷偶联剂接枝hBN对绝缘纸纤维素的热性能和力学性能的提升
    摘要:西南大学工程技术学院唐超课题组通过使用不同硅烷偶联剂接枝纳米氮化硼掺杂绝缘纸纤维素,发现KH550接枝氮化硼能显著提升绝缘纸纤维素的散热性、热稳定性和材料的力学特性(热导率提升了114%,延展性和抗形变能力提升了50%以上),为提升变压器内部绝缘材料的使用寿命和抗热老化性能提供了理论指导。关键词:硅烷偶联剂,氮化硼,变压器绝缘纸纤维素,热力学性能图1 KH550接枝hBN原理图。图2 不同改性的纤维素模型,(a)纯纤维素,(b)hBN/纤维素,(c)KH550 hBN/纤维,(d)KH560-hBN/纤维素和(e)KH570-hBN/纤维素。电力设备运行寿命的提升,与其内部绝缘材料性能的提升有着重要关联。以变压器为例,利用新兴的纳米技术来修饰纤维素绝缘纸能较为高效、显著地提升材料的性能。然而,现有的纤维素绝缘纸的纳米改性研究,往往局限在纤维素力学性能的分析上,较少关注其热性能的改进。因此,利用一种新型的纳米颗粒对纯纤维素进行改性,以同时提高纤维素绝缘纸的力学性能和热性能成为大家关注的热点。针对这一问题,西南大学工程技术学院唐超教授课题组采用了分子模拟的方法,将三种不同硅烷偶联剂接枝到氮化硼表面,并与纤维素混合,得到了具有相对较高热稳定性和力学特性的改性绝缘纸纤维素(KH550 hBN/纤维),相关结果发表在Macromolecular Materials and Engineering上。氮化硼具有较高的固有导热性和良好的介电性能,是一种常用的导热填料。由于其结构与石墨烯相似,氮化硼也具有较高的机械强度和优良的润滑性,可以显著提高聚合物的热稳定性。然而,氮化硼在纤维素内部容易发生团聚,这使得它无法直接用于改善聚合物的性能。因此,本研究将硅烷偶联剂与氮化硼接枝,对传统绝缘纸纤维素进行改性。通过分析比较得出,硅烷偶联剂氮化硼对纤维素的改性使得纤维素链间的空隙得到填充,纤维素与硅烷偶联剂间形成了更多的氢键,连接更为紧密,从而在聚合物内部形成了导热网络,改性纤维素的导热性能显著提高,热稳定性显著增强。同时,硅烷偶联剂的增加使得纤维素材料的韧性、抗形变能力、延展性增加,便于其在高温高压条件下有更长的使用寿命。图3 (a)CED、(b)力学性能、(c)热导率图4 均方位移图5 玻璃转变温度论文信息:Enhancement on thermal and mechanical properties of insulating paper cellulose modified by silane coupling agent grafted hBNXiao Peng, Jinshan Qin, Dong huang, Zhenglin Zeng, Chao Tang*Macromolecular Materials and EngineeringDOI: 10.1002/mame.202200424

三氯甲硅烷基相关的仪器

  • 三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品,装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高,数据精确度及重复性好,安全可靠 并能长周期稳定运行
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  • 产品概述应用• 涂上化学增粘剂的超薄保形单层涂层• 精确控制MEMS器件和micro LED防粘解决方案的表面疏水性• 为光学和AR / VR应用提供高度均匀的丙烯酸酯或环氧型粘合剂涂层和界面层• 对于纳米压印光刻(NIL)应用,应涂防粘涂层以延长冲压工具的使用寿命• 在生命科学中,应用硅烷表面单层在固体底物和生物分子(包括DNA和蛋白质)之间实现稳定的共价键连接• 薄的自组装单层(SAM)涂层,用于半导体应用中的选择性沉积特点• 单个过程模块的两个负载端口EFEM或两个过程模块的四个负载端口EFEM的选项• 大容量腔室最多可容纳五十个200/300 mm晶圆• 涂层温度高达250°C,温度均匀度≤1.5%,并进行多区域控制• 多达5条汽化线,具有精确的质量流量和热控制• 远程下游等离子发生器产生反应性原子氧,以去除反应室中的有机残留物优点• 低压工艺减少了对导致晶片翘曲和损坏的高工作温度的需求• 优异的化学沉积均匀性; 接触角控制在+/- 3度内• 兼容多种有机硅烷,包括氨基,环氧,烷基和氯硅烷• 集成的等离子腔室清洁过程有助于保持运行过程的一致性• 环保,与湿法化学工艺相比,化学/溶剂用量明显减少技术参数硬件集成EFEM:具有2个(两个)负载端口的1类(ISO 3)EFEM模块可互换的处理200mm和300mm晶圆的能力晶圆图FOUP和PM机架的能力,可进行交叉开槽和双槽保护晶圆尺寸:可配置200或300 mm晶圆,或用作具有双重处理功能的桥接工具容量:仅200mm配置:50个晶圆200mm / 300mm选项配置:25个晶圆仅300mm配置:50个晶圆蒸汽输送:多达5条汽化线,具有精确的质量流量和热控制箱体材质:316L不锈钢工艺气体输入:2个标准(3个可选),预热整合等离子体:13.56 MHz软件操作系统:基于Windows的配方管理,符合SECS / GEM。符合SEMI标准:E30,E39,E40,E87,E90,E94性能环境清洁度:1级(ISO 3)工作温度范围:50-250°C温度均匀度:稳定后±1.5%腔室压力控制:200 mT至100 T化学用法:典型工艺1 – 10 mL正常运行时间: 95%
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  • 仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统 二氯硅烷氦离子色谱仪仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,不同底气的样品的进样量。产品先后荣获上海市成果转化A级项目、上海市重点新产品、上海市火炬计划和2009科学仪器产品等称号。 项目名称指标三氯氢硅(SiHCl3 )含量(体积分数)/l0-6 ≤ 10(一氯硅烷+氯化氢)含量(SiH3Cl+HCl)含量”,以氯化氢计(体积分数)/l0-6 ≤50氮(N2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1(氧+氩)(O2+Ar)含量(体积分数)/l0-6 ≤1一氧化碳(CO)含量(体积分数)/l0-6 ≤1氢(H2)含量(体积分数)/l0-6 ≤10二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1总烃(THC)含量,以甲烷(CH4)计(体积分数)/l0-6 ≤1金属元素及其他元素含量(硼+铝)(B+Al)含量/(μg/kg) ≤0.1(磷+砷)(P+As)含量/(μg/kg) ≤0.3镓(Ga)含量/(μg/kg) ≤0.1锑(Sb)含量/(μg/kg) ≤0.1铟(In)含量/(μg/kg) ≤0.1钙(Ca)含量/(μg/kg) ≤1铬(Cr)含量/(μg/kg) ≤1铁(Fe)含量/(μg/kg) ≤5钾(K)含量/(μg/kg) ≤1钠(Na)含量/(μg/kg) ≤0.2镍(Ni)含量/(μg/kg) ≤1钼(Mo)含量/(μg/kg) ≤0.1锰(Mn) 含量/(μg/kg) ≤0.2铜(Cu)含量/(μg/kg) ≤0.2镉(Cd) 含量/(μg/kg) ≤0.5钴(Co)含量/(μg/kg) ≤0.5锌(Zn)含量/(μg/kg) ≤0.1
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三氯甲硅烷基相关的耗材

  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑| 三甲基碘硅烷
    产品特点:N-Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 25 grams三甲基硅咪唑, 三甲基碘硅烷SKU: 140-25 Categories: 硅烷化试剂 ,Tag: TMSI三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993
  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑 | 三甲基碘硅烷
    产品特点:Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 100 grams三甲基硅咪唑 | 三甲基碘硅烷SKU: 140-100Categories: TMSI 硅烷化试剂三甲基硅咪唑 性质熔点 -42 °C沸点 93-94 °C14 mm Hg(lit.)密度 0.957 g/mL at 20 °C折射率 n20/D 1.475(lit.)闪点 42 °F储存条件 2-8°C形态Liquid颜色Clear colorless to yellow水溶解性 decomposes敏感性 Moisture SensitiveBRN 606148CAS 数据库18156-74-6(CAS DataBase Reference)NIST化学物质信息1h-Imidazole, 1-(trimethylsilyl)-(18156-74-6)EPA化学物质信息1H-Imidazole, 1-(trimethylsilyl)-(18156-74-6)三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993
  • 氯三甲基硅烷 for gas chromatography
    氯三甲基硅烷 for gas chromatography
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