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电子工业用试剂 chemicals for electronic industry 用于半导体工业、微电子工业的化学试剂。电子工业范围广,所用材料品种繁多。特别是半导体工业、微电子工业的发展,所用化学试剂也随之迅速发展。自从硅平面工艺建立后,半导体工业获得飞速进展,其中一个重要的原因就是不断开发先进技术和相应的各种新型试剂。电子工业用试剂主要有以下几种: ① 光刻胶 又称光致抗蚀剂,随着半导体电路向超高频、高可靠、高集成方向发展。利用光刻工艺刻蚀各种精密的线条一般为 12~1μm,正在研究 0.5μm,越来越细。用作抗蚀涂层的光刻胶是光刻工艺中的关键材料,要求光刻胶的性能、质量也越来越高。因此,在微电子工业中光刻胶是研究、竞争相当活跃的领域。在美国,1982~1986年间光刻胶的销售额年平均增长约14%。 近年来,不断研究感光性树脂、感光剂的结构和曝光光源的改进,以提高分辨精度和耐腐蚀等性能,适应微电子工业向超大规模集成电路的发展。 ② 高纯试剂 又称高纯化学品,它的应用,贯穿于整个电路生产的工艺过程中。它的质量对控制沾污,提高集成电路成品率,起着重要作用。主要包括两类:第一类在制半导体器件和集成电路生产中,除高纯单晶和超纯气体外,并要有控制地掺入适量的杂质元素,以使之具有所需要的电性能。这种掺入的杂质称为掺入剂,主要是砷、磷、硼的化合物,如三氧化二砷、三氯化磷、三氯氧磷、三溴化硼、砷烷、磷烷、硼烷等。这类试剂纯度很高,一般金属元素杂质要控制在0.1~0.001ppm,非金属元素杂质控制在0.1ppm以下。第二类在蚀刻过程中用于清洗、显影、腐蚀、去膜等工序。这类试剂包括硫酸、盐酸、硝酸、氢氟酸、过氧化氢等无机物和丙酮、甲醇等10多种有机溶剂。随着 MOS(金属-氧化物-半导体)电路的出现,特别是大规模及超大规模集成电路的发展,对高纯试剂的纯度和净度要求也越来越高,除在纯度上要求金属元素的杂质控制在ppb级,非金属元素达到0.1ppm的水平外,对尘埃粒度也有一定的要求,目前最高要求为: 100ml的液体中,2μm以上的颗粒不超过100个或300个。根据集成电路的集成度不同,有不同的质量标准。 为了适应高纯和超净的质量要求,生产这些试剂的某些工序,要在100级的超净环境下进行。所用的高纯水,产品容器的清洗、分装、包装以及产品的贮存等工序都有一套相应的超净技术,以防止尘埃侵入产品。80年代这类试剂在中国的生产规模为数百吨,电子工业发达的国家已达万吨规模。 ③ 液晶 是电子工业中另一种新型材料。液晶的应用已有十多年的历史,现在主要应用于电子工业。
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[color=#d40a00][size=3]维权声明:本文为[b]doxw0323(小不懂)[/b]原创作品,本作者与仪器信息网是该作品合法使用者,该作品暂不对外授权转载。其他任何网站、组织、单位或个人等将该作品在本站以外的任何媒体任何形式出现均属侵权违法行为,我们将追究法律责任。[/size][/color]最近有朋友问到,在凝胶色谱流动相使用的纯水,有什么要求。根据自己的一些经验,谈谈,有什么不同意见,请大家讨论。纯水,故名思义,纯净,无杂质。但绝对纯的水是不存在的, 所以我们要下一个定义,怎么样的水可以叫纯水,什么级别上的纯水可以用做凝胶色谱或其他色谱使用的纯水?从学术角度讲,纯水又名高纯水,是指化学纯度极高的水,其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域,但其对水质纯度要求相当高,一般应用最普遍的还是电子工业。所以我国的纯水标准主要是针对电子级的水要求的。在纯水的制作中,水质标准所规定的各项指标应该根据电子(微电子)元器件(或材料)的生产工艺而定(如普遍认为造成电路性能破坏的颗粒物质的尺寸为其线宽的1/5-1/10)。不过近年来电子级水标准也在不断地修订,而且高纯水分析领域的许多突破和发展,新的仪器和新分析方法的不断应用都为制水工艺的发展创造了条件,同时水处理的发展,使现在的纯水生产提高到了新的台阶。 高纯水的国家标准为:GB1146.1-89至GB1146.11-89[168],目前我国高纯水的标准针对电子级水分为五个级别:Ⅰ级、Ⅱ级、Ⅲ级、Ⅳ级和Ⅴ级,该标准是参照ASTM电子级标准而制定的。 高纯水的水质标准中所规定的各项指标的主要依据有:1.微电子工艺对水质的要求;2.制水工艺的水平;3.检测技术的现状。 比如GB6682-92实验室一级水以上标准 电阻率: 1、实验级水GB6682-92三级,电导率1-5μs/cm 2、实验纯水GB6682-92一级电导率0.054μs/cm,电阻率18.2MΩ.cm TOC0.22um)1个/ml 应用领域: 精密仪器分析用水(AAS,ICP,IC,HPLC等); 一般生物研究; 镜片冲洗; 高纯试剂配置;电子级水GB/T11446.6-1997一级ASTM-l.1级水,电阻率大于18MΩ• CM 。 我国电子工业部高纯水水质试行标准 序号 水质项目 一级高纯水指标 二级高纯水指标(化学指标单位:μg/L)1 电阻率(25℃)MΩcm ≥15 ≥102 电导率,μs/cm 0.05 0.13 PH值 6.8~7.2 6.6~7.44 细菌总数,个/mL <3 <95 微粒(直径>0.5μm,粒/mL) <150 <3006 二氧化硅 <10 <207 有机物(以COD计) <0.3 <0.58 钠 Na <0.5 <29 铁 Fe <1 <210 铜 Cu <0.5 <111 钙 Ca <1 <312 镁 Mg <0.2 <113 锌 Zn <0.5 <114 锰 Mn <0.2 <0.5 说明:①一级高纯水适用于大规模集成电路,微波器件以及有相同要求到半导体器件产品。 ②二级高纯水适用于一般电路,分立器件以及有相同要求的半导体器件产品。 ③本表按1980年电子工业部标准摘录。