兆声晶圆清洗机

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  • 深圳市深华泰超声洗净设备有限公司位于深圳市宝安区福永怀德翠海工业园位置优越,交通便利。本公司专业从事超声波清洗机开发、生产、及销售为一体。公司技术力量雄厚,化验、检测设备优良,拥有较先进的生产设备。  本公司主要生产工业超声波清洗机,不锈钢清洗篮,超声波换能器,发生器,震板,换能片,震子……不同尺寸功率频率都可定制。  我们公司始终坚持以质量求生存,靠科技促发展,于极高的性价比服务于客户,采用现代化科学环保理念,以求长期发展提升。欢迎各界朋友来厂参观、指导和业务洽谈……
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  • 深圳市洁盟清洗设备有限公司于2007年创立洁盟品牌,公司谨循“立足深圳,辐射全国,扩张海外”的品牌发展战略,进行布局,于2009年在香港成立分公司,负责国内外进出口业务。同年,在深圳西乡开设工厂,主要生产塑胶外壳民用型超声波清洗器,标准台式小型超声波清洗机,单槽、多槽超声波清洗机,各种规格超声波振板,以及各行业全自动超声波清洗机等非标系列产品。我们采用高级不锈钢、优质塑胶等材料,使用原装进口换能器,利用先进集成线路技术,使得产品寿命更长,质量更优。经过短短几年的发展,洁盟品牌已成为行业中优秀品牌,受到众多客户及消费者的一致认可和支持。洁盟品牌是超声波清洗机行业中知名品牌,技术领先,规格齐全,品种繁多.包括小型超声波清洗机,医用清洗机,线路板清洗机,五金超声波清洗机等,质量可靠,售后服务完善。优质的产品,先进的技术,以及完善的售前、售中、售后服务,洁盟期待着与您共创辉煌!创造绿色健康环境!
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兆声晶圆清洗机相关的仪器

  • 兆声清洗技术SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机概述:最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的最大化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机应用:带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机的特点:台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯 SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机选配项:掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器
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  • 兆声清洗技术SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机概述:最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的最大化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机应用:带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机的特点:支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积 SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机选配项:掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器
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  • 产品详情美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 产品特点:SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片。Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗。CMP处理后的晶圆片清洗。晶圆框架上的切粒芯片清洗。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗。带保护膜的分划版清洗。掩模版空白部位或接触部位清洗。X射线及极紫外掩模版清洗。光学镜头清洗。ITO涂覆的显示面板清洗。兆声辅助的剥离工艺 特点:。支持12"直径的圆片或9"x9"方片。独立系统。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干。微处理机自动控制。化学试剂滴胶单元。溶剂与酸分离排废。热氮。30"D x 26"W 的占地面积 选配项:。掩模板或晶圆片夹具。臭氧清洗。PVA软毛刷清洗。高压DI清洗。氮气离子发生器
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兆声晶圆清洗机相关的资讯

  • CIF发布CIF扫描电镜等离子清洗机新品
    CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护创新点:CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用双等离子清洗源设计,自动切换,一机多用,清洗快速高效、低等离子体轰击损伤,核心部件采用国际一流品牌,保证设备优异的质量和稳定性。CIF扫描电镜等离子清洗机
  • 鼎泰生化科技携新一代消解仪、超声清洗机产品亮相BCEIA 2017
    2017年10月10日,鼎泰(湖北)生化科技设备制造有限公司(以下简称鼎泰公司)携新一代DTI系列全自动石墨消解仪、DTA系列静音型超声清洗机等产品精彩亮相BCEIA 2017盛会。鼎泰公司产品经理简要介绍了本次展出的两款重点产品以及公司未来3年发展规划。DTI系列全自动石墨消解仪  DTI系列全自动石墨消解仪是鼎泰最新一代全自动石墨消解仪,鼎泰公司产品经理重点强调了它的三大优势。  首先它外观小巧,为实验室节省空间。在市场上同样位数,同样功能以及同样处理能力的同类产品比较,该款仪器具备最小体积。  其次该款产品全身防腐设计,大大延长使用寿命。仪器内外经过特氟龙(聚四氟乙烯)处理,在高温下,即使是浓酸腐蚀,也能承受,耐腐蚀能力非常强。  再者该产品售后返修率少,因为产品质量过硬,产品稳定性强,返修率少,所以基本不会涉及售后维修等问题,这对于提升实验室工作效率益处很大。  DTI系列智能操控、性能稳定,它将电热消解、自动通风系统、自动试剂选择添加系统、非接触式机械振荡、液位传感定容、机械臂托举、PC、智能控制等部件集成,一站式完成样品消解的自动加酸、加热消解、样品混匀、赶酸、托举冷却、定容等实验操作,是无机样品前处理实验人员的得力助手,轻松高效的实现实验方案。  小编也仔细扒了一下详细资料,小小产品涵盖了很多技术亮点:  1、聚四氟乙烯全密闭封装,无传动皮带外露,长久抵抗酸雾腐蚀  2、双臂支撑结构,保持超声波传感器水平高度长久稳定,准确定容  3、双加热温控,两个石墨体独立加热,独立控制  4、可选蠕动泵和注射泵互补、协同加液,发挥两种泵的加液优势  5、通过触屏电脑、台式机、笔记本无线操控  6、声音提醒功能,实验进度提示,试剂空声音报警  7、断点闪存,突发断电时,实验断点闪存,接断点继续消解  8、离线运行,脱离控制器,继续消解DTA系列超声波清洗机——全自动注、排水程序控制 可随机变换超声功率频率 加速实验效率 DTA系列超声波清洗机是鼎泰公司新一代超声波清洗机,该仪器可满足全自动注排水,并且可随机变化频率和功率,这在市场同类产品中是一大优势,可大大加速实验效率,提高实验结果。通过仪器前面彩色触摸屏进行程序设定操作,进行全自动注排水设置,还可以类似液相梯度那样,设置在不同时间使用不同的超声功率、不同的超声频率来工作,这尤其对化工合成、化工工艺研究实验室带来更大便利,是科研研发实验室得力工具。也是国内外同类产品中,处于前沿技术的产品。  DT系列超声波清洗机不仅优化了工业级超声波阵子以提高超声稳定性,采用304不锈钢材质以提升清洗机的耐用性,而且在产品的外形和结构设计方面更是进行了全新定位,流线型ABS材质机身耐腐蚀、清洁方便,通过密合式紧密设计以降低超声时产生的噪音,实验人员使用过程中感受不到噪声的存在,更安心的投入工作。  该超声波清洗机可广泛用于精密清洗、固体溶解、颗粒分散、细胞裂解以及样品制备前处理如液体脱气、混合、均质等。  除了BCEIA现场展出的上述两款重点产品外,鼎泰公司先后在市场推出了多项前处理产品如恒温加热板、磁力搅拌器、柱温箱、真空抽滤泵等。  立足前处理领域 扩充产品线   谈及未来3年发展,鼎泰产品经理向小编透露,鼎泰将持续立足前处理领域,将现有产品做稳定,做扎实前提下,扩充更多新品类,目前更多新品现已进入研发阶段。相信鼎泰公司产品未来将具备更广泛的市场空间。
  • 等离子清洗机的清洗过程指导
    等离子清洗机的清洗过程指导等离子清洗机 的清洗过程一般包括以下步骤:1. 准备工作:先将待清洗物放入等离子清洗室,并确保清洗室内没有杂物和污垢。2. 封闭清洗室:关闭清洗室的门和密封装置,确保清洗室密封。3. 抽气和抽真空:打开真空泵,将清洗室内的气体抽走,形成一定的真空度。真空度的选择根据清洗物的要求和等离子清洗机的规格来确定。4. 气体进入和等离子放电:在清洗室内引入清洗气体(如氧气、氮气等)并调整流量和压力。然后启动等离子发生器,产生等离子放电,形成气体等离子体。5. 清洗时间和功率:根据清洗物的材料和污染程度,设定适当的清洗时间和功率。清洗时间通常为几分钟到几十分钟,功率通常为几十瓦到几千瓦。6. 清洗结束和处理:清洗时间结束后,关闭等离子发生器和抽真空泵。待等离子体消失后,打开清洗室门,将清洗物取出。7. 清洗室清理和维护:清理清洗室内壁、电极和密封件,并检查设备的各种部件是否正常。需要注意的是,在进行等离子清洗时,应根据具体情况选择合适的清洗参数,如气体种类、流量、压力、功率等,在操作过程中要遵循设备使用说明书和安全操作规范,确保操作安全和清洗效果。

兆声晶圆清洗机相关的方案

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兆声晶圆清洗机相关的论坛

  • 激光腔镜超声波清洗机

    一、设备名称:激光腔镜超声波清洗机;二、设备型号:VGT-1407FS;三、设备用途:清洗激光腔镜表面污垢、并干燥;四、设备能力: 节拍3~11分钟(可依据生产进度调节);五、设备描述: VGT-1407FS为激光腔镜超声波清洗系统,设备共有14个功能槽,配置有浸泡系统、循环过滤系统、自动恒温系统抛动系统、超声波清洗系统、慢拉脱水系统、热风烘干系统、密闭气缸门系统、抽风装置等。设备采用环保型水溶剂洗涤、纯水漂洗,为环保型清洗机; 清洗过程中工件通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和系统自身不停地作上下运动,增加了液体的摩擦,从而使工件表面的污垢能够迅速脱落,实现其高清洁度的目的。六、清洗流程 1超声浸泡洗(抛动) → 2超声洗剂洗(抛动) →3超声洗剂清洗(抛动) →4超声回用纯水漂洗(抛动) →5超声洗剂漂洗(抛动)→ 6超声洗剂洗(抛动) →7超声强碱漂洗(抛动) →8超声纯水漂洗(抛动) →9超声纯水漂洗(抛动) →10超声纯水漂洗(抛动) →11超声纯水漂洗(抛动) →12超声纯水漂洗(抛动) →13慢拉脱水 →14热风烘干或离心脱水。七、如何测试激光腔镜超声波清洗系统的作业能力1、激光腔镜超声波清洗机作业能力的衡量指标有很多,空化强度和谐振频率都包括在内,当然要测量出其具体大小也能判断超声波清洗机的状态。这两大指标有不同的表示方法,与其相关的因素也是不同的,需要针对性的进行说明。2、超声波清洗机所产生的空化强烈程度与两方面有关,一是气泡崩溃所产生的机械力,而就是气泡的多少。而这些因素与清洗过程中的温度、压力等都有密切的联系。3、这都有专门的装置来完成,在测量的时候,只需要保持信号发生器的输出一定,那么在某一频率点上,超声波清洗机变幅杆的位移振幅就会达到极限值,从而得出对应的谐振频率。4、在准确测量到超声波清洗机的这两大技术指标之后,对于设备工作能力的了解将会更加清晰,能够为超声波清洗机更好的投入使用提供有力保障。

  • 【求购】求购超声清洗机

    老的超声清洗机今天终于罢工了,以前没觉得他有多大的用处,没了才发现,小小的样品都溶解不了了。故继续购买一台新的。有用过的朋友推荐一下,那个好用,谢谢!!

  • 寻大功率超声清洗机

    寻大功率超声清洗机,功率有几千瓦的,请告知性能和价格,发到邮箱:dongmr@126.com谢谢!

兆声晶圆清洗机相关的耗材

  • 钻石刀清洗机 122-220 钻石刀清洗机
    钻石刀边缘的残余物将使切片变得困难,由于产生应力点,导致切片损伤。钻石刀清洗机被设计于在不碰到任何物体的条件下以磁搅拌方式清洗钻石刀。清洗机控制面板上有六档清洗时间选择,分别从15min至8h。使用时,将钻石刀放入清洗机盖中特制的刀座内,将盖置于含柔性清洗剂的烧杯上,选择好清洗时间,即可开始清洗
  • 钻石刀清洗机
    钻石刀边缘的残余物将使切片变得困难,由于产生应力点,导致切片损伤。钻石刀清洗机被设计于在不碰到任何物体的条件下以磁搅拌方式清洗钻石刀。清洗机控制面板上有六档清洗时间选择,分别从15min至8h。使用时,将钻石刀放入清洗机盖中特制的刀座内,将盖置于含柔性清洗剂的烧杯上,选择好清洗时间,即可开始清洗
  • 北京绿百草科技专业提供超声波清洗机
    北京绿百草科技专业提供超声波清洗机 关键词:超声波清洗机;北京绿百草科技 北京绿百草科技专业提供超声波清洗机。超声波清洗机既可用于清洗样品实验器具等,又能用于样品溶解等方面。北京绿百草科技技术部对该超声波清洗机提供专业的技术支持。 需要详细的信息请和绿百草科技联系:010-51659766 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cn
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