膜厚测量

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膜厚测量相关的耗材

  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 硅片厚度测量仪配件
    硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪,能够精确给出衬底厚度和厚度变化 (TTV),也能实时给出超薄晶圆的厚度(掩膜过程中的晶圆),非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势,诸 多材料例如,Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃,石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法,对晶圆的厚度和表面形貌进行测量,可广泛用于:MEMS, 晶圆,电子器件,膜厚,激光打标雕刻等工序或器件的测量,专业为掩膜,划线的晶圆,粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计,同时,硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件,使用该探针系统后,硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆(植球晶圆),wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV,同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度,硅膜厚度(membrane thickness) 和凸点厚度(wafer pump height).,沟槽深度 (trench depth)。

膜厚测量相关的仪器

  • 为了保证功能涂层在任何工作环境中都能发挥其作用,油漆涂装技术正在朝着精细化控制优化生产工艺和确保经济可持续发展方向努力。例如:家电行业希望油漆涂层更加耐用,能够适应各种各样家用电器和厨房器具的要求;而建筑行业则期望粉末涂层能够耐用且适应不同环境,特别是防腐涂料,期望能够经受得住太阳暴晒和风雨冲刷。过薄涂层无法保证涂料充分发挥功能作用;过厚涂层则会造成表面不平整,导致光泽度不同;对于机械阻力而言,越厚涂层硬度越大,则越容易断裂,因此生产厂家必须严格控制涂装工艺质量,令产品膜厚快速精准控制在合格范围内,从而满足不同的使用需求。目前市场上普遍使用的是几十年前开发的接触式磁性测厚仪和涡流测厚仪,或者是超声波测厚仪,这些测厚仪器虽然是非破坏式测厚,但是只能等待涂层固化后才能测量膜厚,无法在湿膜状态下测出固化后干膜厚度。为了更好实现测湿膜直接显示干膜厚度功能,瑞士涂魔师非接触无损测厚仪应运而生。涂魔师膜厚测量仪是一款非接触无损涂层测厚仪,不管漆膜是烘干后还是未烘干,粉末涂料是固化前还是固化后,涂魔师都可以轻松测出其干膜厚度。涂魔师膜厚测量仪工作原理涂魔师膜厚测量仪采用ATO光热法原理和数字信息处理技术(DSP),通过计算机控制光源以脉冲方式加热待测涂层,其中内置的高速红外探测器从远处记录涂层表面温度分布并生成温度衰减曲线。表面温度的衰减时间取决于涂层厚度及其导热性能。最后利用专门研发的算法分析表面动态温度曲线计算测量待测的涂层厚度。涂魔师膜厚测量仪优势---精准协助厂家提高产线的喷涂效率及产品合格率湿膜状态下测出干膜厚度涂魔师膜厚测试仪能在涂层烘干前测出干膜的真实厚度,并实时直接传入ERP/MES系统,可全程数据化监控,也便于下次调用生产或回溯分析。自动监控,减少次品率全程数据化追溯涂装工艺,有效协助涂装部门在生产过程中及时发现喷涂厚度问题,马上调整设备参数,优化工艺过程和消耗品的更换频率。快速研发,提高质量研发中心不必等待涂层干透,快速确保样品干膜厚度达标而做出测试样品,大幅缩短研发周期,助力制定新的质量标准、生产工艺,使产品更加有竞争力。喷涂厂家使用涂魔师膜厚测量仪测量未固化涂层即时得出固化后涂层厚度,并且全程能实现生产工艺的统计及不间断追溯,高效监控膜厚真实情况,进行数据的不间断监控记录和智能统一管理。翁开尔是涂魔师中国总代理,欢迎致电【400-6808-138】咨询关于涂魔师全自动涂层测厚仪更多产品信息、技术应用和客户案例。
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  • 写真化学膜厚测量装置 标准型号可测量膜厚对象:抗蚀剂厚度多孔膜ITO多晶硅电池电极玻璃粘合晶片端点检测贴合晶片等 自动映射膜厚仪可测量膜厚对象:抗蚀剂厚度贴合晶片多孔膜ITO多晶硅电池电极玻璃粘合晶片带图案晶片等 分为:标准型号、红外透射式型号、自动映射膜厚仪、成像膜厚仪 通用型膜厚监视器(标准型号)● 可用作端点监视器● 也可以对应粘接剂层、玻璃层等通常较难测量的材料 通用型膜厚监视器(红外透射式型号)● 对应反射弱的薄膜材料● 可对应卷对卷测量 自动映射膜厚仪● 除了高速自动映射、等高线、3D图显示之外,还自动解析直方图等统计信息● 标准对应φ100~300mm的圆形晶圆,也可对应方形被测物等特殊形状,可选配定制载物台板● 可对应选配项目中的自动校准 成像膜厚仪● 微细二维膜厚分布原位的可视化● 通过在GUI上区域,计算微小区域的膜厚
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  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
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  • 【求助】测量脂质体的膜厚

    请问有没有人测量脂质体的膜厚啊? 我想测量脂质体的膜厚,不知道有没有人测量过这个?我想测几个样品,有没有人知道哪里有这方面的经验?

  • 【求助】金膜厚度测量

    【求助】金膜厚度测量

    我不是很清楚哪个版块有技术可以解决这个问题,估计电镜也许可以,所以先发在这个版块,要是有其他版块有此项技术请告知一下,我再转发。谢谢!我们需要测量的金膜是溅射在玻璃基片上的。玻璃基片约0.5mm厚,大小约1cm*1cm。基片上有一层很薄很薄的铬,完全可以忽略,金膜溅射在铬上的,厚度约50nm左右,我们想比较准确测量一下其厚度,误差 1-3nm以内吧。误差5-10nm左右呢???示意图如下[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/03/200903231024_140067_1613111_3.jpg[/img]

  • 【讨论】椭偏仪测量薄膜厚度

    在si片上镀一层纳米碳膜,碳膜表面光洁如镜面,采用椭偏仪测量薄膜的厚度,测量时选择基底材料为si,将k设为0(透明薄膜,不知是否准确或透明薄膜如何定义?),根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921),采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量,测量得到的结果还行,基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确?1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜?2.采用同一n值测量厚度是否合适?希望高手指点,谢谢!

膜厚测量相关的资料

膜厚测量相关的资讯

  • 操作薄膜厚度测量仪时,有哪些步骤是容易被忽视的
    在精密制造与材料科学的广阔领域中,薄膜厚度测量仪作为一种关键的检测工具,其准确性与操作规范性直接影响到产品质量与科研结果的可靠性。然而,在实际操作过程中,一些看似微不足道的步骤往往容易被忽视,这些被忽视的细节正是影响测量精度与效率的关键因素。本文将从几个关键方面出发,探讨操作薄膜厚度测量仪时容易被忽视的步骤。一、前期准备:环境检查与设备校准的疏忽1.1 环境条件未充分评估在进行薄膜厚度测量之前,对测量环境的温湿度、振动源及电磁干扰等因素的评估往往被轻视。这些环境因素的变化可能直接导致测量结果的偏差。因此,应确保测量环境符合仪器说明书的要求,如温度控制在一定范围内,避免强磁场干扰等。1.2 设备校准的忽视校准是确保测量准确性的基础。但很多时候,操作者可能因为时间紧迫或认为仪器“看起来很准”而跳过校准步骤。实际上,即使是最精密的仪器,在使用一段时间后也会因磨损、老化等原因产生偏差。因此,定期按照厂家提供的校准程序进行校准,是保障测量精度的必要环节。 二、操作过程中的细节遗漏2.1 样品处理不当薄膜样品的表面状态(如清洁度、平整度)对测量结果有直接影响。若样品表面存在油污、灰尘或凹凸不平,会导致测量探头与样品接触不良,从而影响测量精度。因此,在测量前应对样品进行彻底清洁和平整处理。2.2 测量位置的随机性为确保测量结果的代表性,应在薄膜的不同位置进行多次测量并取平均值。然而,实际操作中,操作者可能仅选择一两个看似“典型”的位置进行测量,这样的做法无疑增加了结果的偶然误差。正确的做法是在薄膜上均匀分布多个测量点,并进行统计分析。2.3 参数设置不合理薄膜厚度测量仪通常具有多种测量模式和参数设置选项,如测量速度、测量范围、灵敏度等。这些参数的设置应根据薄膜的材质、厚度及测量要求进行调整。若参数设置不当,不仅会影响测量精度,还可能损坏仪器或样品。因此,在测量前,应仔细阅读仪器说明书,合理设置各项参数。三、后期处理与数据分析的疏忽3.1 数据记录的不完整在测量过程中,详细记录每一次测量的数据、环境条件及仪器状态是至关重要的。但实际操作中,操作者可能因疏忽而遗漏某些关键信息,导致后续数据分析时无法追溯或验证。因此,应建立规范的数据记录制度,确保信息的完整性和可追溯性。3.2 数据分析的片面性数据分析不仅仅是计算平均值或标准差那么简单。它还需要结合测量目的、样品特性及实验条件等多方面因素进行综合考量。然而,在实际操作中,操作者可能仅关注测量结果是否达标,而忽视了数据背后的深层含义和潜在规律。因此,在数据分析阶段,应采用多种方法(如统计分析、图形表示等)对数据进行全面剖析,以揭示其内在规律和趋势。结语操作薄膜厚度测量仪时,每一个步骤都至关重要,任何细节的忽视都可能对测量结果产生不可忽视的影响。因此,操作者应时刻保持严谨的态度和细致的观察力,严格按照操作规程进行操作,确保测量结果的准确性和可靠性。同时,随着科技的进步和测量技术的不断发展,我们也应不断学习新知识、掌握新技能,以更好地应对日益复杂的测量任务和挑战。
  • 盖泽半导体首台国产SiC外延膜厚测量设备顺利交付
    近日,据华矽盖泽半导体科技(上海)有限公司(以下简称“盖泽半导体”)消息,其自主研发生产的SiC外延膜厚测量设备GS-M06Y已正式交付客户。消息显示,GS-M06Y将应用于半导体前道量测,主要针对硅外延/碳化硅外延层厚度进行测量。GS-M06Y设备采用了盖泽半导体自主研发的高精算法、Load Port、控制软件以及FTIR光路系统。据悉,该公司自主研发的FTIR光路系统,可快速检测晶圆厚度,实现了扫描速度快、分辨率高、灵敏度高等需求。值得一提的是,此次出货的设备与以往不同,此台设备运用盖泽半导体最新研发的碳化硅外延检测技术,可对碳化硅外延精准测量,是继盖泽半导体9月硅外延检测设备出货后,公司的又一里程碑。盖泽半导体不仅突破了SiC外延检测技术,还可实现一代半导体(硅外延6英寸&8英寸&12英寸)、二代半导体(砷化镓、磷化铟衬底外延4英寸&6英寸&8英寸)、三代半导体(碳化硅外延4英寸&6英寸&8英寸、氮化镓外延)、SOI片顶层硅6英寸&8英寸&12英寸,以及锗硅外延制程工艺中不同的外延层厚度测量。
  • Filmetrics在台湾和慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室
    加利福尼亚州圣地亚哥--(美国商业资讯)--Filmetrics 宣布在台湾台南和德国慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室。该实验室不仅为亚洲和欧洲提供薄膜厚度支持中心,而且都并网到 Filmetrics 全球支持网来及时为我们的客户提供网络上和电话上的支持。新增设的两个实验室完成了我们的二十四小时全世界支持网来实现实时视频,远程诊断,以及在线“动手”服务。 这在实时支持薄膜厚度测量用户上标志着一个重要进展。  新的实验室将会支持所有的F20应用,包括半导体,太阳能,显示器,以及生物医学工业。Filmetrics 总裁查斯特博士说,“从现在起我们欧洲和亚洲的客户可以享有我们在美国的客户所享有的高水平的支持。并且,我们新的24小时支持网就好像Filmetrics应用工程师每天任何时候都坐在他们旁边。“  Filmetrics仪器用白色光照射薄膜,再根据测量光谱反射来确定薄膜厚度。波长范围可在220到1700纳米之间选择。Filmetrics软件分析收集到的光谱数据,从而确定厚度,光学常数,和其他用户选择的参数。  公司网站 http://cn.filmetrics.com  Filmetrics公司介绍  凭借多年薄膜厚度测量的经验和遍布全球的技术支持中心,Filmetrics提供了简单易用的仪器和无可比拟的支持。总部位于加利福尼亚州圣地亚哥,Filmetrics拥有全系列薄膜厚度测量系统,并不断开发更有效的薄膜测量新产品和技术。Filmetrics成立于1995年,并迅速奠定了台式薄膜测量行业的领导地位。  联系方式:  查斯特博士, Filmetrics, Inc., +1-858-573-9300  电邮:chalmers@filmetrics.com
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