扫描探针光刻系统

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扫描探针光刻系统相关的厂商

  • 中科艾科米（北京）科技有限公司
    中科艾科米（北京）科技有限公司坐落于北京怀柔科学城，是一家专注于超高真空扫描探针显微镜（SPM）系统及相关部件的研发、设计及生产的公司。团队在相关领域的科学研究及科研仪器设备的研制方面具有十多年的技术积累和扎实的基础，掌握目标仪器装备的多项核心技术和专利，具有自主知识产权。公司以科研客户需求为导向，结合国内外前沿科研技术及成果，致力于打造国内先进科研仪器的技术创新平台，为国内外相关科研人员提供科学实验的解决方案。目前已在SPM及相关领域研发出多种性能稳定、性价比高的产品，并获得了20余项实用技术专利。主要产品包括：闭循环无液氦扫描探针显微镜系统（UHV-Cryogen-free SPM SYSTEM）超高真空变温扫描隧道显微镜系统（UHV-VT STM SYSTEM）、原子层沉积系统（ALD）、光学兼容超高真空低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统（UHV-LT-SPM-MBE ）等成套系统以及电阻式加热蒸发源（K-cell）及控制器、电子束加热蒸发源（E-beam）及控制器、碱金属蒸发源、温度控制器（TC）、针尖腐蚀仪、SPM扫描探头等部件及电控单元。
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  • 贝克斯帝尔科技（北京）有限公司
    SPECS是一家来自德国的先进表面分析仪器供应商；而Unisoku是一家先进扫描探针显微镜供应商，是由日本先进科学仪器的供应商东京仪器公司(TII)控股的子公司。SPECS公司和TII公司在瑞士成立了合资公司SPECS-TII，旨在销售和客户服务领域的全球合作。它们整合了各自在中国的子公司成为一家合资公司贝克斯帝尔科技（北京）有限公司。经过数年的产品合作使我们确信，这一步可以形成当地的销售和售后服务中心，从而更好的为中国客户提供以下相关服务：-更快更好的咨询服务-为客户提供更好的解决方案-针对客户需求，更短的响应时间-更加专业的本地服务-更短的售后服务响应时间进一步提高客户满意度是在中国当地开展业务的核心。
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  • 南通宏腾微电子技术有限公司 银牌2年
    400-860-5168转6134
    南通宏腾微电子技术有限公司(NTHT Semiconductor Technologies Limited)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商。南通宏腾微电子技术有限公司所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。南通宏腾微电子目前代理的主要产品包括： - 霍尔效应测试仪； - 快速退火炉； - 回流焊炉，共晶炉，钎焊炉，真空烧结炉； - 电子束蒸发镀膜机，热蒸发镀膜机 - 探针台，低温探针台，微探针台； - 金刚石划片机； - 球焊机，锲焊机； - 磁控溅射镀膜机； - 原子层沉积系统，等离子增强原子层沉积设备； - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler)； - 扫描开尔文探针系统； - 光学膜厚仪；-PECVD\CVD； -脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印；-等离子清洗机、去胶机；-反应离子刻蚀RIE - 光刻机、无掩膜光刻机； - 匀胶机； - 热板，烤胶板； -少子寿命、太阳能模拟器；-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机-离子注入-划片机、裂片机光刻机（针尖/电子束光刻机EBL，紫外光刻机，激光直写光刻机），镀膜机（磁控溅射机，电子束蒸发机，化学沉积机，微波等离子沉积机，原子层沉积机 等等…
    主营产品： 霍尔效应测试   退火炉   开尔文探针   激光直写光刻机  
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扫描探针光刻系统相关的仪器

  • 布鲁克扫描探针显微镜Innova 400-895-0897
    仪器简介：Innova扫描探针显微镜（SPM）具有高扫描分辨率、出色品质，可应用于物理、生命科学和材料科学等诸多领域。Innova具有很强的灵活性，能以较低成本满足各种科研应用要求。采用独一无二的闭环扫描线性系统，卓越的设计及工艺确保测量精度以及接近于开环运行时的噪音水平。Innova可以轻松的在90微米扫描管上实现原子级分辨率。集成的高分辨率彩色光学系统，以及可编程和电动Z轴载物台，使得寻找、对准被测区域，更换针尖或样品更加快速简便。技术参数：闭环扫描管：XY 90 &mu m，Z 7.5 &mu m开环扫描管：XY 5 &mu m, Z 1.5 &mu m样品尺寸： X-50 mm x 50 Y-mm x Z-18 mm电动Z轴载物台：Z轴行程： 18mm光学系统： 摄像头： 轴线彩色CCD，带电动变焦视场： 1.24mm x0.25mm (电动变焦，10x物镜)分辨率： 2&mu m，标准10x物镜(50x物镜0.75&mu m)电子电路：20位DAC控制器，100kHz、± 10v ADCs，数字反馈器件系统软件：用于数据采集和分析的SPMLab&trade v7.0，Windows® XP主要特点：Innova在同类SPM中，性价比最高· 独有的闭环扫描控制，在开环噪声水平上提供三维精确测· 高分辨光学系统辅助精确探针定位· 快速更换探针, 开放的样品台设计使得使用更方便，更容易· 拥有所有SPM操作模式，为科学研究提供更高的应用灵活性· 卓越的信号读录与输入功能便于用户自己设计研究方法 布鲁克纳米表面仪器部开通优酷视频专辑Bruker Nano Surfaces YouKu Channel &mdash 欢迎订阅优酷上Bruker Nano Surfaces的相关视频，观看最新的AFM产品和相关技术进展，以及历届网络研讨会和培训资料，精彩内容持续更新中！布鲁克纳米表面仪器部 Bruker Nano Surfaces 北京办公室 北京市海淀区中关村南大街 11号光大国信大厦6层 6218室电话： 传真：上海办公室 上海市徐汇区漕河泾开发区桂平路 418号新园科技广场 19楼E-mail： 产品咨询热线：
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    厂商： 布鲁克纳米表面仪器部(Bruker Nano Surfaces)
    品牌： 布鲁克/Bruker
    型号： Innova
    价格： 50万 - 100万元
  • 第八代多功能扫描探针显微镜Bruker 400-895-0897
    仪器简介： MultiMode平台是世界上应用最广泛的扫描探针显微镜（SPM），已经在全球成功安装使用了近万套。它的成功基于其领先的高分辨率和高性能，无与伦比的多功能性，以及已经得到充分证实的效率和可靠性。现在，MultiMode扫描探针显微镜以其独特的ScanAsyst模式，采用其先进的自动图像优化技术，使得用户无论具备什么技能水平，也能在材料科学，生命科学，聚合物研究领域的研究中最迅速地获得符合要求的研究成果。 SPM的控制电路也是影响性能的重要因素，第五代的NanoScope V控制器具有先进的数字架构：具有高数据带宽，低噪声数据采集和无与伦比的数据处理能力。布鲁克的最先进的技术已经开创工业上的新标准，例如：ScanAsyst 模式 & PeakForce QNM 模式。 Multimode 的加热和制冷装置能对样品进行加热与制冷，适合于生物学，聚合物材料以及其他材料研究应用。采用加热和制冷装置后MULTIMODE 可在零下35º C到250 º C范围内对样品进行温度控制；并可以在水，溶液或缓冲剂的液体环境中进行扫描。当在气体环境下对样品进行扫描时，采用环境控制舱可以在大气压标准下控制环境气体的成分。技术参数：1. 显微镜：多种可选Multimode SPM扫描头AS-0.5系列：横向(X-Y)范围0.4µ m× 0.4µ m,竖直(Z)范围0.4µ mAS-12系列：横向(X-Y)范围10µ m× 10µ m,竖直(Z)范围2.5µ mAS-130系列：横向(X-Y)范围125µ m× 125µ m,竖直(Z)范围5.0µ mPF50：横向(X-Y)范围40µ m× 40µ m,竖直(Z)范围20µ m2. 噪声：垂直(Z)方向上的RMS值＜0.3埃 （带防震系统的测量值）3. 样品大小：直径&le 15mm, 厚度&le 5mm4. 针尖/悬臂支架： 空气中轻敲模式/接触模式(标准) 液体中轻敲模式/力调制(可选) 空气中力调制(可选)；电场模式(可选) 扫描热(可选-需要大的光学头或者外加的应用组件) STM转换器(可选) 低电流STM转换器(可选)；接触模式液体池(可选) 电化学AFM或STM液体池(可选) 扭转共振模式(可选)5. 防震和隔音： 硅胶共振模式(可选) 防震三脚架(可选) ；防震台(可选) 集成的防震台和隔音罩(可选)主要特点：1. 世界上最高的分辨率2. 出众的扫描能力3. 优异的可操作性4. 非凡的灵活性与功能性5. 无限的应用扩展性Multimode可以实现全面的SPM表面表征技术，包括： 轻敲模式(Tapping Mode AFM) 接触模式(Contact Mode AFM) 自动成像模式(ScanAsyst) 相位成像模式(Phase Imaging) 横向力术模式(laterial Force Microscopy, LFM) 磁场力显微术(Magnetic Force Microscopy, MFM) 扫描隧道显微术(Scanning Tunneling Microscopy, STM) 力调制(Force Modulation) 电场力显微术(Electric Force Microscopy, EFM) 扫描电容扫描术(Scanning Capacitance Mcroscopy, SCM) 表面电势显微术(Surface Potential Microscopy) 力曲线和力阵列测量(Force-Distance and Force Volume Measurement) 纳米压痕/划痕(Nanoindenting/Scratching) 电化学显微术(Electrochemical Microscopy, ECSTM and ECAFM) 皮牛力谱(PicoForce Force Spectroscopy) 隧道原子力显微术(Tunneling AFM, TUNA) 导电原子力显微术(Conductive AFM, CAFM) 扫描扩散电阻显微术(Scanning Spreading Resistance Microscopy, SSRM) 扭转共振模式(Torsional Resonance mode, TR mode) 压电响应模式(Piezo Respnance mode, PR mode) 其他更多模式.... 布鲁克纳米表面仪器部开通优酷视频专辑Bruker Nano Surfaces YouKu Channel &mdash 欢迎订阅优酷上Bruker Nano Surfaces的相关视频，观看最新的AFM产品和相关技术进展，以及历届网络研讨会和培训资料，精彩内容持续更新中！布鲁克纳米表面仪器部 Bruker Nano Surfaces 北京办公室 北京市海淀区中关村南大街 11号光大国信大厦6层 6218室上海办公室 上海市徐汇区漕河泾开发区桂平路 418号新园科技广场 19楼E-mail： 产品咨询热线：
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    厂商： 布鲁克纳米表面仪器部(Bruker Nano Surfaces)
    品牌： 布鲁克/Bruker
    型号： MultiMode 8
    价格： 150万 - 200万元
  • 日立AFM100系列多功能扫描探针显微镜 400-803-2799
    多功能扫描探针显微镜AFM100 Plus/AFM100系统 AFM100 Plus/AFM100系统是以在研发、生产、教育等各种场合普及AFM应用为目的，并追求操作性、可靠性及高效率观察的通用型高分辨扫描探针显微镜系统。 预装探针系统实现可靠的探针更换 一键自动测量/处理/分析 利用AFM标记功能实现同视野的AFM－SEM－EDS观察分析
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    厂商： 日立科学仪器（北京）有限公司
    品牌： 日立/Hitachi
    型号： AFM100
    价格： 100万 - 150万元
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扫描探针光刻系统相关的资讯

  • 热扫描探针光刻技术消除二维半导体材料-金属肖特基势垒——不止于操作便捷，更在于特性提升
    二维半导体材料，比如二硫化钼（MoS2），表现出了诸多新奇的特性，从而使其具有应用于新型电子器件领域的潜力。目前，研究人员常用电子束光刻的方法，在此类仅若干原子层厚的材料表面定域制备图形化电，从而研究其电学特性。然而，采用此类方法常遇到的问题之一是二维半导体材料与金属电之间为非欧姆接触，且具有较高的肖特基势垒。近期，刊载在Nature Electronics上的Patterning metal contacts on monolayer MoS2 with vanishing Schottky barriers using thermal nanolithography一文（Nature Electronics volume 2, pages17–25 (2019)），针对以上问题展开了研究。文中，Zheng等人采用热扫描探针光刻（thermal scanning probe lithography，t-SPL）的方法，在二维原子晶体表面成功制备了图形化电。此方法具有高的可重复性，并且具有小于10 nm的分辨率，以及可观的产率（单根针达到105?μm2?h?1）。相较于电子束光刻方法而言，此方法可以同时进行图形化工艺并原位对图形化工艺后的结果进行成像表征，而且不需要真空腔体以及高能电子束。采用这一技术方案，Zheng等人在单层MoS2上制备了具有栅和背栅结构的场效应晶体管。在未采用负电容或异质堆叠等方案的前提下，Zheng等人制备的器件中的二维半导体材料与金属电之间的肖特基势垒趋于0 meV，开关比达到1010，且亚阈值摆幅低至64 mV/dec，大大优于此前诸多其他方案所制得的类似器件的电学特性。 图1 器件制备流程及主要步骤后的样品形貌表征表1 采用两种不同方法（热扫描探针光刻与电子束光刻）制备的基于MoS2的FET的电学特性对比 值得指出的是，文中Zheng等人实现图形化掩膜制备所用的设备，是由瑞士Swisslitho公司所研发的NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机，该系统实现图形化工艺主要是基于前文所述的热扫描探针光刻技术。热扫描探针光刻技术的核心，是利用高温纳米针与一种热解胶（PPA）作用，热解胶在高温作用下会挥发，从而使热针“画”过的区域没有热解胶而热针没有“画”过的区域留存有热解胶，从而实现对热解胶的图形化处理。工艺过程中，图形的刻写精度与针的曲率半径以及针的温度控制水平息息相关。依托成熟的微加工工艺以及微系统设计经验，Swisslitho设计并制备了具有纳米曲率半径的针的悬臂梁，并且在悬臂梁上集成了用于控制及反馈针温度的电学系统，可以在室温至1100 ℃的范围内对针的温度进行准确地控制及监测，从而使得NanoFrazor的图形加工精度可以达到10 nm量的水平，且工艺具有佳的稳定性和重复性。图2 针处于加热状态下的悬臂梁图像另一方面，从工作原理不难看出，热扫描探针光刻不需要额外的显影操作。只要是用高温纳米探针在热解胶表面一“画”，热解胶表面相应区域就会挥发掉，从而在表面留下痕迹。着眼于这一特点，Swisslitho的研发人员巧妙地在悬臂梁上集成了轮廓探测器，可以原位对热解胶表面留下的痕迹进行形貌表征，从而实现闭环图形加工功能。NanoFrazor使用户可以实时了解图形加工的情况，并进行修正，大大缩减了图形化工艺所用的时间，提升了效率。 此外，由于NanoFrazor特殊的结构特点，使得NanoFrazor在进行套刻工艺时，可以方便快捷地直接定位到样品表面的目标区域并进行套刻工艺，无须预先在样品表面制备对准标记，亦可省去进行传统光学光刻或电子束光刻对准过程中的繁琐步骤。 为重要的是，由于工艺过程中用针的热与热解胶作用替代了电子束或光束与光刻胶作用，可以有效减少图形化工艺过程中对样品中介质材料的电荷注入所引起的损伤，从而提升微纳结构电学特性的可靠性，亦可有效提升器件的电学特性。
    时间： 2019-01-29
    作者： QUANTUM量子科学
  • Nanoscribe微纳3D打印系统助力扫描探针成像系统技术突破
    研究背景为了探索待测物微纳米表面形貌，探针扫描成像技术一直是理论研究和实验项目。然而，由于扫描探针受限于传统加工工艺，在组成材料和几何构造等方面在过去几十年中没有显著的研究进展，这也限制了基于力传感反馈的测量性能。 如何减少甚至避免因此带来的柔软样品表面的形变，以实现对原始表面的精确成像一直是一个重要议题。 Nanoscribe设备加工的“减震器“纳米探针近日，东南大学生物科学与医学工程学院、生物电子学国家重点实验室顾忠泽教授和赵祥伟教授等人在Nature热门子刊Nature Communications上报道了一种新的扫描探针设计和加工方案，使用德国Nanoscribe公司的微纳3D打印系统制作一种基于层次堆叠单元的低密度三维微纳结构，旨在利用谭政自身机械特性来减少探针-样品的过度机械作用。在该工作中，研究人员借鉴生物组织的多孔结构在能量吸收，传导和缓释的有效作用，提出了低密度的结构可控机械材料（Materials with Controlled Microstructural Architecture, MCMA）, 作为探针本体的构筑设计，并且通过 Nanoscribe公司先进的微纳米增材技术进行激光直写制备。微结构缓冲材料与扫描成像系统的创新集成为尖端成像方案开辟了林一条道路，促进了基于3D激光直写制备的多功能扫描探针成像系统的发展。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统，双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印最有效的技术，其打印物体的最小特征尺寸可达亚微米级，并可达到光学质量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及广泛的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。了解更多双光子微纳3D打印技术和产品信息请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技（上海）有限公司Photonic Professional GT2 双光子微纳3D打印设备Quantum X 灰度光刻微纳打印设备
    时间： 2020-12-18
    作者： 纳糯三维科技
  • Nature子刊带大家进入热扫描探针构筑的奇妙纳米世界
    上世纪五十年代末期，诺奖得主、物理学鬼才理查德费曼在加州理工学院的物理年会上，作了题为《There' s Plenty of Room at the Bottom》的报告，具前瞻性地提出了他对于纳米尺度操作及控制的框架性想法，并由此开启了无数科研工作者在纳米尺度上探究物质奥秘并通过相关的纳米技术来改变、造福人类的道路。同样是在上世纪五六十年代，采用平面处理工艺批量制备晶体管的策略出现，由此开启了集成电路产业的飞速发展。摩尔博士在六十年代中期提出了著名的摩尔定律“当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍”。而其中元器件数量的增多，是通过不断缩小元器件的关键尺寸来实现的。不论是在纳米尺度上进行探索，或是与人们生活息息相关的集成电路产业发展，都需要制备各种各样的纳米结构、纳米功能单元或纳米器件。而在制备各类纳米结构的过程中，为重要的操作就是通过光刻来实现在不同的材料上定义图案区域。目前，在工业上，先进的EUV光刻机具备7 nm技术节点的制备工艺中所需的图形加工能力，但其单值高，比一架F-35战斗机的价格还会高出不少。对于科研工作者来说，目前通常采用的基于光学曝光原理的科研光刻设备（科研的无掩模曝光系统、掩模对准式曝光系统等），能够实现的图形加工分辨率一般在微米尺度或亚微米尺度。而随着研究对象尺度的不断减小，对纳米尺度结构构筑的需求，上述基于光学曝光原理的科研光刻系统显然是不能够完全满足的。基于聚焦电子束、离子束的各类图案化加工设备，比如电子束光刻系统、聚焦离子束系统等，能够有效满足科研中对于纳米尺寸的图形加工需求。然而，由于电子束流和离子束流需要聚焦，这类设备通常由较为复杂的电子光学系统构成，因此价格相较于上述科研光学光刻设备要高出很多（即使是科研的电子束曝光系统，其单值也远超科研的光学曝光设备）。另一方面，聚焦电子束、离子束系统的复杂性也对操作人员和设备维护人员提出了较高的要求。 图1 热扫描探针光刻系统诱导材料局部变化的三种机制 在科研领域中，扫描探针光刻（thermal scanning probe lithography）是另一种颇受关注的图案化工艺方案，能够实现纳米（甚至原子的）图案制备的需求，其核心思路是通过纳米针诱导材料表面局部的改性来实现图案化。纳米针诱导材料表面改性的机制有很多种，包括力学、电学、热学、扩散等等，也由此产生了许多不同的扫描探针光刻技术。在诸多的扫描探针光刻技术中，热扫描探针光刻技术（thermal scanning probe lithography，t-SPL）是近年来发展起来的一种可快速、可靠、高精度地实现纳米图案化工艺，其技术核心是利用加热针的热能来诱导局部材料的改性。通常，热是材料转化中较为普遍的驱动因素，在很多材料中能诱导结晶、蒸发、熔化等改性现象。在纳米尺度上，由于只有很小的体积被加热，所以材料改性的特征时间是以纳秒量来计算的。因此，加热几微秒就足以改变针下的材料。对于刻写速度而言，悬臂梁的机械扫描运动成为图案化工艺速度方面的主要限制。然而，凭借扫描探针领域良好的技术积累，目前可以实现高达20 mm/s的刻写速度，能够满足大多数科研上的图案化制备工艺需求。同时在微纳图案结构的加工精度及分辨率方面，热扫描探针光刻技术可以实现特征线宽在10 nm以下的微纳结构的制备。图2 利用热扫描探针光刻进行热敏抗刻蚀剂的图案化工艺后，结合各类工艺实现的微纳结构及器件案例 作为一种高精度图案化工艺设备，近些年来热扫描探针光刻技术得到飞速发展，然而很多研究人员还比较陌生。着眼于此，洛桑联邦理工的S. T. Howell博士以及瑞士Swisslitho的F. Holzner博士撰写了综述《Thermal scanning probe lithography—a review》（已于2020年4月6日刊载在NPG旗下期刊Microsystems & Nanoengineering，详细信息可参考链接https://doi.org/10.1038/s41378-019-0124-8），Howell等人向大家详细介绍了热扫描探针光刻的历史、原理、图案转移工艺以及在基于新型低维材料的微纳电子器件、自旋电子器件、光子学微纳结构、微纳流控、微纳机电等领域的应用案例。图3 利用热扫描探针光刻进行定域材料转换的应用案例 另一方面，不同于很多新型光刻策略还停留在实验室中，瑞士Swisslitho公司已经成功将热扫描探针光刻技术商品化，名为NanoFrazor。在国内外的诸多用户当中，已有不少基于NanoFrazor制备的结构而开展的研究，相关结果也都发表在了Science、Nature、PRL、等高水平期刊上。图4 热扫描探针诱导的增材工艺的应用案例
    时间： 2020-04-26
    作者： QUANTUM量子科学
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  • 扫描探针显微镜一套

    山东大学从美国维柯公司DI分部购进扫描探针显微镜一套,该设备是属于多功能配套设备。它包含如下功能:①原子力显微镜;②隧道力显微镜;③电力显微镜;④磁力显微镜;⑤摩擦力显微镜。工作模式可分为:接触式,非接触式,敲打式,力调制等。功能之全是国际上一流的。为此,山东大学于2001年9月9日派遣任可、刘宜华、孙大亮三人赴美国圣巴巴拉市维柯公司DI分部接受培训(扫描探针显微镜生产厂家为美国、、、、、、、

  • 【注意】扫描探针显微镜版讨论范围（发贴有惊喜哦！）

    扫描探针显微镜同其它的显微镜相比，历史比较短，只有20年的时间，大家了解的少一些，这个版也相对冷清了一些，但是发展相当迅速，大有取代SEM的趋势（大胆！^_^）。希望大家多发贴，发贴的内容主要集中在以下方面：1. 扫描隧道显微镜（STM）的构造、原理；2. 原子力显微镜（AFM）的构造、原理；3. 其它扫描探针显微镜，如MFM，EFM，LFM等的结构和原理；4．扫描探针显微镜的各种成像模式：如接触模式，轻敲模式，非接触模式以及相位成像模式等等；5．扫描探针显微镜的各种模式的技巧；6．各类扫描探针显微镜在各个方面的应用：物理，化学，材料，生物等等，包括各种制样技术；7．纳米蚀刻，纳米操纵等等；8．扫描探针显微镜的发展方向。 欢迎补充！欢迎交流！[em61] [em61] [em61] [em61] [em61]

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  • 单点开尔文扫描探针系统配件
    单点开尔文探针系统配件是全球首款用于室温条件和普通实验室条件下的系统，具有极为紧凑结构，可安放到各种环境箱或防尘罩中，探针头与振荡薄膜一起使用，预放大器集成到探针头中，方便更换。 单点开尔文扫描探针系统配件参数 探针与样品表面之间采用电动控制调节距离 Z轴定位分辨率: 5 μm 功函分辨率: 1 meV with 1.4 mm tip diameter on metals 最小的探针直径: 0.1 mm 集成法拉第防护功能 开尔文探针头采用纯金工艺，底板表面镀金 样品架磁性固定到底板上 样品架直径：40mm 带有 3 mm 孔用于标准SEM样品架子 最大可测样品尺寸: 100 mm x 100 mm (mounted on Base plate) 振动隔离腿设计 包括参考样品材料: HOPG, Au on Si 配备汤姆森控制器和计算机 可选配温度和湿度传感器
    供应商： 孚光精仪（中国）有限公司
    品牌： 孚光精仪
    价格： 面议
  • 高分辨率扫描探针显微镜配件
    高分辨率扫描探针显微镜配件是欧盟革命性的高分辨率扫描探针显微镜，SPM显微镜， 它具有目前世界上最为紧凑的机构构成，同时可作为扫描探针显微镜和原子力显微镜使用。高分辨率扫描探针显微镜配件有不同类型的纳米定位平台，包括各种扫描位移台，以确保用户大面积扫描样品，扫描探针显微镜具有最佳的多功能性，可提供EFM, MFM, STM, Phase Imaging, CAFM, KPM 等诸多模式供用户使用。 高分辨率扫描探针显微镜配件特色双光学样品观察（正置和倒置）扫描尺度高达 250 μm全自动样品拾取X-Y 扫描尺寸100 x 100μm (高压模式) 10 x 10 μm (低压模式)高电压模式闭环分辨率: 2 nm高电压模式开环分辨率: 0.2 nm闭环线性： 0.1%.Z 方向扫描尺寸:10 μm (高压模式)1 μm (l低压模式)分辨率: 0.16 nm (高压模式), 0.02 nm (低压模式)高分辨率扫描探针显微镜配件特色 适合样品大小: 可容纳不同结构的直径最高达到30mm的样品。扫描探针显微镜控制系统： 数字控制器和模拟反馈系统，具有高分辨率和低噪音的特点。扫描探针显微镜,SPM显微镜采集软多窗口应用的基于Windows 系统开发的软件，控制所有的硬件工作。
    供应商： 孚光精仪（中国）有限公司
    品牌： 孚光精仪
    价格： 面议
  • 大面积扫描开尔文探针系统配件
    大面积扫描开尔文探针系统配件能够在垂直方向移动开尔文探针实现电动控制开尔文探针与样品的距离。 样品安装到真空吸盘上，真空吸盘可带着样品移动150x150mm位移，从而实现开尔文扫描探针系统大面积扫描样品表面。大面积扫描开尔文探针系统配件特色: 电动控制开尔文探针与样品的距离 电动控制样品XY移动范围150 mm x 150 mm 具有编码器的主动定位定位追踪系统 Z方向步进大小: 625 nm X - and Y-方向: 5 μm / microstep 功函分辨率:: 1 meV with 1.4 mm tip diameter on metals 最小的探针直径: 0.1 mm 集成法拉第防护功能 框架表面镀金 开尔文探针头采用纯金工艺 最大外形尺寸: 50 cm (W) x 60 cm (D) x 25 cm (H) 最大样品尺寸: 150 mm x 150 mm 真空样品吸盘 包含参考样品标准: HOPG, Au on Si, Al/Au-edge, Potential Check 可选配温度和湿度传感器
    供应商： 孚光精仪（中国）有限公司
    品牌： 孚光精仪
    价格： 面议
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