推荐厂家
暂无
暂无
有一个问题想跟大家讨论一下。我们实验室有一台varian 1200 的MS/MS. 在设定二级质谱参数时,有两个选项可以调节,从而改善方法。一个是反应室氩气的气压(单位是mTorr),一个是在方法里面改变碰撞能量 (单位是eV). 我理解氩气气压高但是不一定碰撞能量强。但是氩气气压高的话通过一级质谱的离子发生碰撞的几率就大,从而更有可能被打成碎片。这个跟提高碰撞能量感觉上有相似的效果。所以我想知道有没有哪位大侠有更好的理解。谢谢!
[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相色谱[/color][/url]-质谱联用和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相色谱[/color][/url]质谱联用由于离子源不同(EI,CI,ESI,APCI等),参数有所不同,质量分析器不同(离子阱,三重四级杆,TOF),也有些不同,举几个例子吧三重四级杆[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url]/MS:电喷雾正离子化(ESI+或-)检测,扫描范围为m/z100-m/z 500,喷雾电压5000V,雾化气压45psi,辅助气压力10psi辅助气压,毛细管温度350℃;二级质谱扫描子离子模式,碰撞气氩气压力1.3mTorr,碰撞能量15~20eV;LC-TOF: 电喷雾正离子化(ESI+)检测,扫描范围为m/z 100 - m/z 1200干燥气温度350 °C, 干燥气流速10 L/min,辅助气压力50 psi,毛细管电压4000 V。参比离子m/z 121.050873 和922.009798。以上2个都是[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url],ESI离子源的,APCI源还有discharge current还有就是不同厂家的仪器在一些不是很重要的参数上,叫法会有区别,尤其是那几个气流压力的名称不同
在用离子阱质谱做二级碰撞打碎片时,遇到一种现象就是:有些化合物设定不同的Iso Width,碰撞后的响应是不同的。我想知道Iso Width(m/z)到底是什么参数,有什么意义,与什么有关?请各位帮忙,谢谢大家