桌面级溅射镀膜系统

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    创谱仪器基于数十年同步辐射线站光学及谱学设备设计、研发、交付的技术和经验积累,聚焦于X射线到真空紫外波段的核心器件、模组和分析测试系统,致力于为大科学装置、物理/化学/材料等前沿科学研究以及半导体与集成电路、新能源与储能技术、新材料、化学化工与生物医药等产业领域提供短波光学和短波光谱学解决方案。根植于科技前沿 - 我们的技术源于国家同步辐射实验室,具备提供全套Turnkey解决方案(设计-开发-调试-维护)的能力。已在合肥光源、上海光源、北京同步辐射等大科学装置运行使用,并通过用户及机构的专业验证。立足于中国制造 - 我们自主研发关键光学部件,可根据不同用户需求进行定制解决方案,已实现国内光子科学装置的全面覆盖,完成了包括同步辐射、自由电子激光、高能激光装置、磁约束等离子体装置等线站项目建设。放眼于世界水平 - 创谱仪器拥有专业全面的博士创新团队,专注于高端科学仪器“卡脖子”难题,与世界一流大学及科研机构合作,致力于先进科学仪器开发。产品板块短波光学定制解决方案:我们为大科学装置提供短波光学解决方案,包括弯晶光学系统、大型光束传输系统、科研级单色器/光谱仪以及系统的设计、安装调试、改造升级等。精密光学机械设备:为光学平台提供机械运动机构及相应设备如:静力水准仪、精密可调狭缝、精密位移台、光谱采集望远镜等。VUV/EUV谱仪:适用于EUV光刻、高次谐波系统、等离子体诊断等领域。桌面式X射线吸收精细结构(XAFS)谱仪:自主研发桌面式XAFS谱仪,其测量谱图与同步辐射高度一致,在实验室中即可完成元素结构、价态、配位情况、分子轨道、键长、能带结构等的测量表征。广泛用于化学催化领域、材料科学及新能源领域、环境科学领域、生物大分子研究等,助您实现“想测就测、随时可测”的XAFS自由。
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    北京博远微纳科技有限公司(Vision Precision Instruments)又名北京意力博通技术发展有限公司 创立于2002年,是中国区第一家专注于研发、生产、销售溅射仪及扫描电镜的高新技术企业。公司集溅射仪,镀膜仪,扫描电镜,维护改造四位一体,拥有一支专业的工程师团队,并将溅射仪、镀膜仪系列产品的质量和性能提高到国际一流的水准。秉着为客户创造价值为核心理念,把客户的需求作为我们研发的起点。在过去的10多年间,博远微纳单在中国区已销售、服务超过1000位商业客户,累积销售近千台溅射仪、镀膜仪和扫描电镜等配套服务。 自主开发或合作开发的产品有: 1、小型离子溅射仪(喷金仪) 2、热蒸发镀膜机 3、扫描电子显微镜图像系统改造 4、扫描电声显微镜 5、溅射蒸碳仪 主要提供以下服务: 生产研发溅射仪,蒸碳仪。 维修或改造所有类型任何品牌的扫描电子显微镜(SEM)、数字图像和Si(Li)探测器。提供国产化能谱仪及改造X射线能谱仪等。
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  • 紧凑型桌面镀膜系统 400-860-5168转4567
    真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统 DCR DCT真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 DCTDCT涡轮泵送碳涂层系统 SEM/TEM制备碳涂层器,低真空和高真空系统台式紧凑型碳纤维镀膜系统,适用于扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线分析(EDX)中使用的样品制备。此设备有两种模式:DCR是一种旋转泵送碳涂层机,适用于SEM样品制备、EDS/WDS和薄膜应用。DCT是一种涡轮泵送碳涂层机,非常适合FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSD和薄膜应用。这种高真空镀膜机提供了具有精细晶粒尺寸的高质量均匀碳膜,适用于需要高分辨率和高质量表征的样品。 使用碳涂层制备样品是非导电和低导电样品或样品的公认方法。Vac-Techniche DCT系统是一种多功能碳蒸发器,用于制备电子显微镜或EDXA分析样品。它被设计成一种能够蒸发碳棒和碳纤维的大电流电源。换句话说,它可以将碳涂覆在不同类型的基材上进行X射线分析,并涂覆导电碳纤维和棒进行SEM分析。该系统的卓越设计使用户能够轻松装载和卸载样品,并快速更换碳纤维/棒。该系统配备了薄膜厚度监测器(FTM),该监测器以1nm的精度测量安装在真空室中的石英晶体上的涂层厚度。当达到所需的厚度或时间时,该系统可以自动终止涂层循环。。紧凑且易于使用的碳涂层机,可以选择使用现有的泵或随泵提供。对于外部泵送,车载计算机控制泵或泵送设备。我们增加的真空室DCR-L和DCT-L系统可以容纳更大的样本碳涂层由于其优异的透明度和良好的导电性,沉积的碳薄膜被广泛用于电子显微镜(EM)或X射线显微分析应用,例如:&bull 用于TEM(高真空(HV)蒸发)的支撑膜&bull 用于SEM/EDS样品的导电膜(低真空蒸发)&bull 非导电微探针样品的导电表面膜(高压蒸发)&bull 非导电EBSD样品的导电表面膜(高压蒸发)&bull 非导电FESEM样品的导电表面膜(高压蒸发)&bull 非导电FIB样品的导电表面膜(高压蒸发)我们的板机集成使台式溅射镀膜机成为扫描电子显微镜(SEM)和隧道电子显微镜分析(TEM)的理想实验室和研究工具。约5纳米(50&angst )的薄膜用于粒子支撑和放射自显影中的隔离层。较厚的薄膜也用于扫描电镜和X射线显微分析。一般来说,沉积的薄膜应该是均匀的,具有精细的晶粒尺寸和可重复的膜厚度。碳棒和碳纤维是世界各地实验室中广泛使用的两种碳蒸发源。它们每个都有自己的功能,这使得它们对用户具有特定的兴趣。为了更好地理解,这些功能的进一步细节将在以下部分中介绍。碳棒与碳纤维蒸发蒸发碳线或预成型碳棒都是蒸发碳的常用方法。使用具有正确控制系统(脉冲、连续和自动)的预成型棒可以提供高质量的碳层,还可以很好地控制碳层的厚度。然而,一些用户更喜欢使用碳纤维,因为与碳棒相比,碳纤维的工艺更快、更简单。
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  • 桌面镀膜系统 400-860-5168转4567
    英国VacTechniche,真空镀膜系统,SEM 镀膜机,涡轮泵溅射镀膜机 DST1-170涡轮泵溅射镀膜机 DST1-170SEM 镀膜机 |溅射镀膜机SEM/TEM 样品制备 Vac Techniche 介绍 DST1-170,这是一款先进的高真空磁控管台式溅射镀膜机。这种紧凑的涂层系统以其多功能性而著称,能够有效地涂覆氧化性和非氧化性金属。DST1-170 是短期沉积需求的理想选择,擅长快速生产具有细晶粒纹理的均匀薄膜。通过这种创新解决方案体验快速而精确的涂层周期。vac Coat DST1-170 具有最小的台式占地面积之一,可为高分辨率 SEM 和 TEM 样品制备提供直流溅射。台式溅射镀膜机 |DSR1 系列 台式磁控溅射镀膜机 (DSR1) 是一种高效的工具,以在全自动系统中提供一致且高度可重复的结果而闻名。DSR1 SEM 镀膜系统采用符合人体工程学的设计和较小的占地面积,易于使用。由于自动过程控制,可提供具有可重复结果的高分辨率清晰度涂层,从而轻松设置和操作。DST1-170 也可用于光学和薄膜镀膜的一般金属溅射。 样品旋转是标准配置,大多数应用都可以调整倾斜和高度。 Vac Techniche 还有一系列更大的涡轮泵浦溅射镀膜机,可选择 1 至 3 英寸、2 英寸磁控管、射频和直流、样品加热,该系列是 DST1-300 系列。DST1-170 也可用于光学和薄膜镀膜的一般金属溅射。 DST1-170 可配备水冷阴极,使其适合长时间沉积。此模型中基板的最大尺寸可以是 4 英寸。DST1 可以配备水冷阴极,使其适合长时间沉积。此模型中基板的最大尺寸可以是 4 英寸。 DST1-170 洁净真空脉冲碳纤维升级选项真空室是圆柱形 Pyrex。DST1-170 配有一个内部安装的 90 L/s 涡轮分子泵,由一个 6 m3/h 的两级旋片泵提供支持。它引入了普通扩散泵通常存在的无油污染的清洁真空。DST1-170 蒸发脉冲碳纤维升级选项 紧凑的台式真空溅射和碳镀膜机专为小腔室设计,具有令人印象深刻的脉冲碳纤维蒸发能力。在此过程中使用短脉冲可以在沉积过程中实现更精细的控制,并且作为一个显着的好处,可以大大减少通常与传统碳沉积方法相关的碎屑的产生。这一进步不仅提高了涂层精度,还大大减轻了碎屑带来的挑战,使其成为各个领域的研究人员和专业人士的宝贵工具。
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  • SSP1000桌面型磁控溅射系统是一种台式紧凑系统,能够以低成本实现高沉积性能。 其独特的设计允许改变沉积方向(向上,侧向和向下),因此可以在一个简单的装置内进行三个方向的实验。 由于配备了RF电源,不仅可以溅射金属靶,而且可以溅射诸如Al2O3或SiO2等陶瓷靶材。这种系统设计紧凑,成本低,可用于各种实验。-多样性- 由于采用立方体设计,通过简单变化即可选择溅射方向。 也可以使用磁性靶材(可选)。 标配1路工艺气体,可配置2路工艺气体。-性能- 在基板中φ100mm的区域内,膜厚度的偏差在±5%之内。 使用标准RF电源提供的脉冲模式,也可以溅射陶瓷类靶材。 在沉积期间,基底支架可旋转或静止。-易于使用- 紧凑的台式设备,易于安装。 腔室内安装有一个观察口。 配备阴极保护板以防止在预关闭期间基板的污染。 与阴极保护板一起工作的溅射计时器用于厚度控制。
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  • 桌面高能X射线光源系统问世
    据美国物理学家组织网10月25日(北京时间)报道,一国际研究小组开发出一种微型同步加速高能X射线光源系统,其能效和质量可与世界上某些最大的X光源设备媲美,这种微型化的廉价高质量X射线光源将有着广泛应用前景。相关研究论文刊登在10月24日的《自然物理学》杂志上。   新设备由英国伦敦帝国学院、美国密歇根州立大学和葡萄牙里斯本大学高等技术学院的科学家共同研制,能在桌面上实现当前巨大激光设备的多项功能。他们的缩微系统采用了一种微型氦气喷气机和一种高能激光,是一种只有铅笔粗细的超短波高能空间相干X射线光束。   论文第一作者、伦敦帝国学院物理系的斯蒂凡柯耐普博士说,我们在产生更加简洁廉价的高能高质X射线方面迈出了第一步。用相对简单的系统,在几毫米范围内产生的高质量X射线光束,能和几百米长的同步加速器产生的光束媲美。尽管我们的技术目前还不能与世界上少数几个大型的X射线源直接竞争,但对于当前某些难以办到的检测来说,它提供了一种重要的应用手段。   新系统产生的X射线具有极短脉冲长度。它们能从一个约1微米的空间小点产生,这会导致一个狭窄的X光束,使研究人员能清楚地看到目标物的细节。这些特性是其他X光源不具备的,超短脉冲使研究人员能以毫微微秒(千万亿分之一秒)的解析度测量原子和分子的互相反应。   新型X射线系统发出称为HERCULES的超高能激光束,进入氦气喷气机生成一个微小的等离子氦柱,激光脉冲在这个等离子内部,生成一个被带负电荷的电子包围的带正电的氦离子泡。   由于这种电荷分离,等离子泡具有强大的电场,不仅能促使等离子体重的某些电子形成能量束,还能使光速“扭动”。当电子束扭动它产生的峰值共振X射线光束时,就能够在实验中进行测量。   这一过程跟其他同步加速光源中所发生的过程相似,但是在一个微观领域内产生。整个桌面X射线源装在一个边长约1米的真空箱里,加速和X射线的产生在不足一平方厘米范围内。这种微型化导致更加廉价高质量的X射线光源,也将带来超短高耀度的属性。   研究人员称,像这样的系统有很多用途,比如使用高能X射线,它最终能极大地提高医学图像的解析度,也能更容易地检测机翼接合有没有微缝隙,还能用于开发特殊科学应用,X射线的超短脉冲可在极短时间内研究“结冰”运动。
  • 多功能桌面型快速退火炉:高效退火,精准测温
    在半导体制造中,快速热处理(RTP)被认为是半导体制程的一个重要步骤。因为半导体材料在晶体生长和制造过程中,由于各种原因会出现缺陷、杂质、位错等结构性缺陷,导致晶格不完整,施加电场后的电导率较低。需要通过RTP快速退火炉进行退火处理,可以使材料得到修复,结晶体内部重新排列,可以消除硅片中的应力,激活或迁移杂质,使沉积或生长的薄膜更加致密化,并修复硅片加工中的离子注入损伤。RTP快速退火炉通常还用于离子注入退火、ITO镀膜后快速退火、氧化物和氮化物生长等应用。桌面型快速退火炉-RTP-Table-6RTP-Table-6为桌面型6英寸晶圆快速退火炉,使用上下两层红外卤素灯管 作为热源加热,内部石英腔体保温隔热,腔体外壳为水冷铝合金,使得制品加热均匀,且表面温度低。6英寸晶圆快速退火炉采用PID控制,系统能快速调节红外卤素灯管的输出功率,控温更加精准。桌面型快速退火炉的功能特点①极快的升温速率:RTP快速退火炉的裸片升温速率是150℃/s,大大缩短了热处理时间。②精确的温度控制:配备高精度的温度传感器和控制系统,确保温度的精确性和稳定性。③多样化的气氛选项:支持多种气体气氛,如氮气、氩气等,满足不同材料的热处理需求。④紧凑的桌面式设计:适合实验室和小型生产环境,节省空间,便于移动和部署。除了以上功能特点,在半导体制造的快速热退火工艺步骤中,测量晶圆的温度是关键。如果测量不准确,可能会出现过热和温度分布不均匀的情况,这两者都会影响工艺的效果。因此,晟鼎桌面型快速退火炉配置测温系统,硅片在升温、恒温及降温过程中精确地获取晶圆表面温度数据,误差范围控制在±1℃以内。桌面型快速退火炉的应用1. 晶体结构优化:在加热阶段,高温有助于晶体结构的再排列。这可以消除晶格缺陷,提高晶体的有序性,从而改善半导体材料的电子传导性能。2. 杂质去除:高温RTP快速退火可以促使杂质从半导体晶体中扩散出去,减少杂质的浓度。这有助于提高半导体器件的电子特性,减少杂质引起的能级或电子散射。3. 衬底去除:在CMOS工艺中,快速退火炉可用于去除衬底材料,如氧化硅或氮化硅,以形成超薄SOI(硅层上绝缘体)器件。4. 应力消除:高温退火还有助于减轻半导体器件中的内部应力,从而降低了晶体缺陷的形成,提高了材料的稳定性和可靠性。
  • 260万!东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线获取售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。(3)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱:jiaoly_work@163.com 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电话:025-83792632 分机号8806; 实验室与设备管理处:刘加彬 电话:025-83792693。2.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电话:025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电话:025-84532455、025-84532452

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  • 扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决

    随着电镜技术和应用快速发展,越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

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  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 德国MN 桌面保护纸 MN 210 PE, 附PE膜, 卷装
    德国MN 桌面保护纸 MN 附PE膜 卷装MN 210 PE桌面保护纸的一面涂有聚乙烯,可用于覆盖实验室工作台,滤纸吸收溅出的液体。特别适用于同位素和细菌学实验室以及化学储藏室和橱柜。德国MN 桌面保护纸 MN 附PE膜 卷装类型: 卷状滤纸名称: MN 210 PE表面: 光滑单位重量: 140 g/m² 厚度: 0.22 mm材料: 纤维素、聚乙烯颜色: 白色特征: 表面保护尺寸: 50 m x 48 cm, 50 m x 60 cm, 100 m x 48 cm, 100 m x 60 cm包装规格: 100 张/包有害物质: 无
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