椭圆偏光膜厚测量仪

半导体晶圆表面的接触角测试是半导体制造中常见的一项表面质量评估方法，其重要性在以下几个方面：1、粗糙度评估：半导体晶圆表面的粗糙度会对接触角产生影响，接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度，从而评估其表面质量。表面清洁评估：半导体晶圆表面的杂质和污染物会影响接触角的测量结果，接触角测试可以用来评估晶圆表面的清洁程度。2、表面处理评估：半导体晶圆表面的各种表面处理，如刻蚀、沉积、退火等会影响接触角的测量结果，接触角测试可以用来评估这些表面处理对晶圆表面性质的影响。3、界面张力评估：在半导体制造中，各种材料的粘附和分离过程都涉及到界面张力的变化，接触角测试可以用来评估晶圆表面和各种材料之间的界面张力。综上所述，半导体晶圆表面的接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度、清洁程度、表面处理效果和界面张力等方面的性质，对半导体制造过程中的表面质量控制具有重要的意义。晶圆全自动接触角测量仪详细参数：技术参数KZS-50图片硬件外观接触角平台长12寸圆平台（6寸、8寸、12寸（通用）扩展升级整体扩展升级接触角设备尺寸670x690x730mm（长*宽*高）重量35KG样品台样品平台放置方式水平放置 样品平台工作方式三维移动样品平台样品承重0.1-10公斤仪器平台扩展可添加手动，自动倾斜平台，全自动旋转平台，温控平台，旋转平台，真空吸附平台调节范围Y轴手动行程400mm，精度0.1mmX轴手动，360°自动旋转，精度0.1mm测试范围0-180°测量精度高达0.01°测量面水平放置样品平台旋转全自动旋转平台仪器水平控制角位台可调，镜头可调，样品平台可调滴液滴液系统软件控制自动滴液，精度0.1微升，自动接液测试注射器高精密石英注射器，容量500ul针头直径0.51mm，1.6mm表面张力测试滴液移动范围X轴手动调节80mm，精度0.01mmZ轴自动调节100mm，精度0.01mm滴液系统软件控制自动滴液泵滴液模组金属丝杆滑台模组镜头/光源光源系统单波冷光源带聚光环保护罩，寿命60000小时以上光源调节软硬共控镜头可移动范围滑台可调100mm镜头远心变倍变焦定制镜头镜头倾斜度±10°，精度0.5°相机帧率/像素300fps（可选配更高帧率）/300万像索电源电源电压220V，功率60W，频率60HZ漏电装置带漏电装置保护软件部分软件算法分辨率拟合法、弧面法、θ/2、切线法、量角法、宽高法、L-Y法、圆法、椭圆法、斜椭圆法测量方式全自动、半自动、手动拟合方式 分辨率点位拟合，根据实际成像像素点完全贴合图像拍摄支持多种拍摄方式，可单张、可连续拍摄，支持视频拍摄，并一键测量。左右接触角区分支持分析方法座滴法、纤维法、动态润湿法、悬滴法、倒置悬滴法、附着滴法、插针法、3D形貌法、气泡捕获法分析方式 润湿性分析、静态分析、实时动态分析、拍照分析、视频分析、前进后退角分析保存模式Word、EXCEL、谱图、照片、视频总结1、晶圆接触角测量可以订制，适用于各种半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量：可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角，具有高度的重复性和准确性。3、多功能性：晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式，可以测量不同类型的表面处理，如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响，可以提供全面的表面质量评估。4、高效性：晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量，提高了实验的效率。5、自动化程度高：晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统，可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理，减少了实验人员的工作量和误差。晶圆接触角测量仪是一种专门用于测量半导体晶圆表面接触角的仪器。相比传统的接触角测量仪，它具有以下优势：1、适用于大尺寸晶圆：晶圆接触角测量仪通常具有较大的测试平台，能够容纳大尺寸的晶圆，适用于半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量：晶圆接触角测量仪使用高精度的光学传感器和计算算法，可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角，具有高度的重复性和准确性。多功能性：晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式，可以测量不同类型的表面处理，如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响，可以提供更全面的表面质量评估。3、高效性：晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量，提高了实验的效率。4、自动化程度高：晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统，可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理，减少了实验人员的工作量和误差。综上所述，晶圆接触角测量仪具有高效、高精度、多功能等优点，在半导体晶圆表面处理和质量控制中具有广泛的应用前景。

使用光谱仪器时，如何巧妙制样？针对不同的样品，测试方法有哪些区别？仪器测试结果如何分析解读…11月13日，HORIBA的资深工程师们，就拉曼、荧光、椭圆偏正光谱仪器日常使用技巧，为大家分享了自己多年的宝贵（xue）经（lei）验（shi）。分享过程中，同学们也纷纷提出自己的问题，不知道是否也有你的困惑，我们一起看看吧：荧光光谱1.为什么样品信号之前的背景光平台不是平的？在进行磷光寿命测试时，前端的小段曲线是由光源产生的，即激发光还没有完全消失，就开始了样品信号采集，后边部分属于光源消失后磷光衰减的信号，进行寿命拟合的时候只要选择后边尾部即可。2.问水拉曼峰怎么测?1）开启仪器；2）将标准盛有三重去离子水的比色皿放入样品仓；3）打开软件，选择Spectra——emmission功能；4）点击Run进行信号采集即可。参数详见如下：激发波长350nm，水拉曼峰值，峰值波长397nm。实验条件：激发波长350nm，带宽5nm，0.5nm步进，发射波长扫描范围365~450nm，带宽5nm，积分时间1s；样品要求：必须是超纯水，三重蒸馏水或去离子水，HPLC级（18.2 MΩ,5.用HORIBA的荧光光谱仪测荧光寿命，是用上升沿还是下降沿拟合寿命的?对于荧光寿命，拟合时上升下降沿的信号都要用到，对于磷光寿命，仅用下降沿部分拟合即可。具体拟合步骤及要点可与工程师联系。椭圆偏振1.请问老师，这个可以测量颗粒物表层吸附物质的厚度吗？纳米级别，烟尘颗粒由于椭偏光斑在微米至毫米尺度，无法分析离散态的纳米级别颗粒表层2.老师您好，请问衬底是石英片，可以测膜的厚度吗？可以，只要薄膜光学透明即可使用椭偏测试拉曼光谱1.CLS那个没看懂？简单的来说，CLS是数据统计的分析方法。夹峰法是以单个谱峰的峰强、峰面积、峰位的特性为拉曼成像依据。而CLS是以整张光谱或者某段光谱为依据，赋予不同的颜色。适用于已知混合物的拉曼成像。2.细胞的那个是这么做的呀？详细请见文章ACS Appl. Mater. Interfaces, 2017, 9 (7), pp 5828–5837，文章的拉曼部分在北京DEMO实验中心完成的，欢迎讨论。3.用JobinYvonLabRam HR800仪器，325 nm 的激光测薄膜光致发光，有时PL谱的曲线有波动，就是线一抖一抖的，请问能怎么改善呢？能测到发光峰，但是曲线上有很多小的正弦波。两个方面：一个需要标准样品测试，检验仪器本身是否有问题。另一个方面，考虑薄膜的厚度问题，是否刚好发生多次反射。之前有经历，特定的玻璃片上测样品，也有小正弦波，更换玻璃片之后就没有了。4.那请问如果是贴壁细胞呢 直接光斑扫描？贴壁细胞，做完封片，可以直接通过平台移动实现细胞成像。5.指甲油有要求吗？指甲油不要涂到样品上？指甲油本身有很好的拉曼信号，不能直接涂到样品上，建议选择亮色，这样能够看清楚指甲油的本身分布。若样品量比较大，建议选择大号的盖玻片，操作相对简单。6.请问G/D的物理意义G峰为石墨烯的特征峰，归属于sp2碳原子的面内振动，出现在1580 cm-1附近，该峰能够表征石墨烯的层数。D峰为石墨烯的无序振动峰，出现在1350 cm-1附近处，表征石墨烯中的结构缺陷或边缘。所以G/D峰，可以反映石墨烯的层数和缺陷分布。7.测细胞必须要涂指甲油吗？不是必须，封片的好处是减缓水份蒸发。8.老师，做矿物的话激光波长用多少合适大多数矿物532 nm激光比较合适，对于有荧光背景的，考虑红光激发。9.半導體異物量測方式?測試過532,633,785 laser量測都只有螢光訊號,異物大小約1~3um若异物在表层，可以考虑325 nm尝试下。若还是不行是否可以考虑用PL成像来区别异物。10.如何衡量石墨烯条带的边缘质量？见问题6，G/D比值成像及D峰成像都是不错的选择。11.鲁老师，请问罗丹明溶液633直接测拉曼，如何计算光斑内有效分子数？影响影子的计算方法我们在上一次的报告中有提到。详细可参见Phys. Chem. Chem. Phys., 2015,17, 21149-21157。文章是用XploRA仪器实现的，欢迎讨论。12.样品中有水，可以用3D得到水分布吗样品若是半透明的，可以实现水的分布的3D. 常见的地质样品，包裹体中的水分可以用3D表征。这是一篇文章，里面用拉曼证明了油水凝胶中的水分分布，你可以参考下。Nature Communications 8, Article number: 15911 (2017) doi:10.1038/ncomms15911。文章的拉曼部分在北京DEMO实验室完成的，欢迎讨论。13.请问测拉曼时荧光效应太强，背底太高可以怎么改善？一般是某些样品会出现，跟样品有关系，可是又需要样品的拉曼数据抑制荧光背景的方法：更换不同的激发波长；长时间激光照射光漂白；数值处理等。目前有效的是更换不同的激发波长测试。14.请介绍一下实时在线原位拉曼技术？在线原位技术是一个比较宽泛的命题，常见的有有机化学合成在线检测，高温高压在线检测，锂电池在线检测，电化学在线检测。若大家都有兴趣，我们可以专门利用一次讲座交流。HORIBA科学仪器事业部结合旗下具有近 200 多年发展历史的 Jobin Yvon 光学光谱技术，HORIBA Scientific 致力于为科研及工业用户提供先进的检测和分析工具及解决方案。如：光学光谱、分子光谱、元素分析、材料表征及表面分析等先进检测技术。今天HORIBA 的高品质科学仪器已经成为全球科研、各行业研发及质量控制的首选。

2010 年 5 月 23 日- 28 日，第五届椭圆偏振光谱国际会议(ICSE-V,International Conference on Spectroscopic Ellipsometry)将在美国纽约州奥尔巴尼市（Albany）奥尔巴尼大学纳米科技与工程学院(CNSE)举办。 和历届会议一样，为椭圆偏光术和相关测量技术领域的科学家和工程师提供国际交流的平台。ICSE-V 会议将为您展示椭圆偏振光谱技术和应用的新研究进展，包括涉及偏振技术开发的相关光谱分析技术等。 更多信息: http://www.icse-v.org/web/index.php 向世界同行展示您的工作！ HORIBA Scientific（Jobin Yvon 光谱技术）诚邀 Jobvin Yvon 椭偏仪用户提交会议摘要并参加第五届椭圆偏振光谱国际会议(ICSE-V)！ 摘要提交起讫时间: Oct.19&mdash Dec.6, 2009 HORIBA Jobin Yvon 赞助 HORIBA Scientific 承诺赞助参与展板展示（poster presentation）或口头报告（oral presentation）的 Jobvin Yvon 用户。 申请赞助，请联系 ：tfd-marketing.sci@horiba.com 应用支持，请联系： tfd-sales-sci.fr@horiba.com