赛默场发射扫描电镜

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赛默场发射扫描电镜相关的厂商

  • 原FEI公司,2016年被赛默飞世尔科技收购,成为赛默飞材料与结构分析(MSD) 电镜事业部,是显微镜和微量分析解决方案的创新者和供应商。 我们提供扫描电子显微镜SEM,透射电子显微镜TEM和双束-扫描电子显微镜DualBeam?FIB-SEM,结合先进的软件套件,运用最广泛的样本类型,通过将高分辨率成像与物理、元素、化学和电学分析相结合,使客户的问题变成有效可用的数据。更多信息可在公司官网上找到:http://thermofisher.com/EM 或扫描二维码,关注我们的微信公众号
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  • 欧波同集团成立于2003年,是一家材料分析数字化解决方案服务商。旗下拥有科学仪器、智慧实验室、第三方检测、技术服务等业务板块。欧波同坚持“让实验更简单”的发展主线,充分掌握计算机视觉和图像识别技术,实现AI技术和工业分析技术的跨界融合,帮助中国企业在世界级竞争中取得成功。为世界材料分析贡献中国力量!SEM扫描电子显微镜、双束聚焦离子束显微镜、赛默飞扫描电镜、场发射扫描电镜、聚焦离子束电镜、赛默飞双束电镜、台式扫描电镜、FEI扫描电镜、FIB扫描电镜、FIB双束电镜、TEM透射电镜、球差电镜、工业三维扫描仪、氩离子抛光测试及制样设备中国区授权代理商,旗下拥有国际贸易、行业解决方案研发、第三方技术服务、融资租赁等业务板块。
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  • 400-895-5638
    惠然科技有限公司(WellRun Technology Co.,Ltd)总部位于北京,是以电子光学技术为核心,在科学研究及产业领域,提供高端场发射扫描电镜及其衍生设备。 扫描电镜是利用电子束进行检测与分析的科学仪器和工业设备,可用于在纳米至亚纳米级别的生命科学、材料科学、纳米科技、医疗诊断等多个领域的研究与应用,是2020年初中国科技部公布的35项“卡脖子”工程关键设备与关键技术之一。 惠然科技汇聚国内外专家及高级工程师,期望努力成为电子光学领域科学仪器和工业级检测设备解决方案的领先企业!
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赛默场发射扫描电镜相关的仪器

  • 日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面,向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司(以下简称:日立高新)8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000",搭载了全新的用户界面和"EM Wizard",无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升,以及用户群体的不断扩大,使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且,由于观察对象的样品的不断多样化,对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求,通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升,对于用户来说,再也不用去讨论该用什么条件进行观察,只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外,使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件,按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说,它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来;对使用经验丰富的客户来说,开放了丰富的可设置选项,会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度,更使视野再现性得到大大提高。并且,为了能适应各种分析的需求,最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等,都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis",9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014",9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*:肖特基式场发射电子显微镜:高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV(*1)、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式(*2)放大倍率底片倍率:10~600000倍、显示倍率:18~1000000倍5轴马达台X:0~100mm、Y:0~50mm、Z:3~65mm、T:-20~90°、R:360° *1:减速模式是选配项 *2:低真空模式是选配项 2014年,日立高新技术公司(以下简称:日立高新) 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。
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  • Quattro-环境扫描场发射电镜Quattro SEM为具有独特环境真空功能的极灵活、多功能高分辨率扫描电镜,可以将成像和分析全面性能与环境模式(ESEM)相结合,使得样品研究得以在自然状态下进行。Quattro的场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示,使得单次扫描即可获得样品信息,从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统极具灵活性,可以容纳最广泛的样品类型,无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下,均可获得可靠的分析结果。Quattro独特的硬件有用户向导支持,不仅可以指导操作者,还可以直接进行交换,轻松缩短结果获取时间。金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料陶瓷、复合材料、塑料薄膜/涂层地质样品断面、矿物软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料颗粒、多孔材料、纤维水合/脱水/湿润/接触角分析结晶/相变氧化/催化材料生成拉伸(伴随加热或冷却)产品参数发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率:型号Quattro CQuattro S高真空30 kV(STEM)0.8 nm30 kV(SE)1.0 nm1 kV(SE)3.0 nm高真空下减速模式1 kV(BD+BSED)3.0 nm1 kV(BD+ICD)2.1 nm200 V(BD+ICD)3.1 nm低真空30 kV(SE)1.3 nm3 kV(SE)3.0 nm30 kV(BSE)2.5 nm环境扫描模式30 kV(SE)1.3 nm 放大倍率:6 ~ 2,500,000×加速电压范围:200 V ~ 30 kV 着陆电压:20 eV~30 keV,电子束减速可选探针电流范围:1 pA ~ 200 nA,连续可调X-Ray工作距离:10 mm,EDS检出角35°样品室:从左至右为340 mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置),通用9针电气接口样品台和样品:型号Quattro CQuattro S类型优中心测角台,5轴电动X Y轴55×55 mm110×110 mm重复精度3.0 μm(0°倾斜时)电动Z轴65 mm旋转N×360°,连续倾斜-15°/+90°最大样品高度与优中心点(10 mm)间隔85 mm最大样品重量0°倾斜时,最大为5 kg最大样品尺寸可沿X、Y轴完全旋转时的直径为122 mm探测器系统: 同步检测多达四种信号,包括 样品室高真空二次电子探测器ETD 低真空二次电子探测器LVD气体SED(GSED,用于环境扫描模式)样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度) 样品导航彩色光学相机Nav-Cam™ 珀尔帖台集成式STEM,用于观察湿薄样品- WetSTEM™ 控制系统: 操作系统:64位GUI(Windows 7)、键盘、光学鼠标 图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200定制化的图像用户界面,可同时激活多达四个视图导航蒙太奇 软件支持Undo和Redo功能可选Joystick操纵杆 可选多功能控制板
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  • Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统,实现灰色区域解析,让您不再忧心显微镜性能,更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能,即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上,进一步优化了超高分辨成像能力,并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign(智能对中)技术,不再需要用户手动进行调整操作,而且,FLASH(闪调)自动执行精细调节工作,只需移动鼠标几次,就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外,Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM,长工作距离不再意味着低分辨成像,有了Apreo 2 SEM,任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能,适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料; 极佳的灵活性非常灵活的处理范围,样品类型广泛,包括绝缘体、敏感材料和磁性样品,收集最重要的数据; SmartAlign技术使用SmartAlign(智能对中)技术,实现光学系统自动调整,减少维护时间; 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH(闪调)技术; 实时定量EDS元素信息触手可及,利用ColorSEM技术,提供实时元素面分布成像定量分析,结果获取更加快速、简便; 长工作距离唯一在长工作距离(10 mm)具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率: 型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm 0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V 1.2nm0.8nm加速电压范围:200 V ~ 30 kV 着陆电压范围:200 eV ~ 30 keV探针电流范围:1 pA ~ 50 nA,连续可调(可选配400 nA)最大水平视场宽度:10 mm WD时为3 mm(相当于最低放大倍率29倍)X-Ray工作距离:10 mm,EDS检出角35°样品室:从左至右为 340 mm 宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3 个(其中2个处于180° 对角位置)样品台:五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o (连续旋转)多用途SEM样品安装载物台,可同时放置 18 个标准样品座(φ12 mm)最大样品尺寸,直径122 mm,可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度,到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统:样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3(选配)样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器(选配)可伸缩透镜下背散射探测器(选配)控制系统: 操作系统:Windows 10图像显示:24寸LCD显示器,最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI,可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能
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赛默场发射扫描电镜相关的资讯

  • 场发射扫描电镜SEM5000在锂电隔膜检测中的应用
    锂离子电池”锂离子电池是一种二次电池,主要依靠锂离子在正极和负极之间移动来工作。在充放电过程中,锂离子穿过隔膜在两个电极之间往返嵌入和脱嵌,锂离子能量的存储和释放通过电极材料的氧化还原反应实现。锂离子电池主要由正极材料、隔膜、负极材料、电解液和其他材料组成。其中,隔膜在锂离子电池中起到阻止正负极直接接触的作用,并允许电解液中的锂离子自由通过,提供锂离子传输的微孔通道。锂离子电池隔膜的孔径尺寸、多孔程度、分布均一性、厚度直接影响电解液的扩散速率和安全性,对电池的性能有很大影响。如果隔膜的孔径太小,锂离子的透过性受限,影响电池中锂离子的传输性能,使得电池内阻增大;如果孔径太大,锂枝晶的生长可能会刺穿隔膜,造成短路或爆炸等事故[1]。场发射扫描电镜在锂电隔膜检测中的应用”使用扫描电镜可以观察隔膜的孔径尺寸和分布均匀性,还可以对多层和有涂覆隔膜的截面进行观察,测量隔膜厚度。传统的商业化隔膜材料多为聚烯烃材料所制备的微孔膜,包括聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)单层膜及PP/PE/PP三层复合膜。聚烯烃类的高分子材料绝缘不导电,并且对电子束非常敏感,高压下观察会导致荷电效应,高分子隔膜的精细结构也会被电子束损伤。国仪量子自主研发的SEM5000型场发射扫描电镜,具备低压高分辨的能力,可以在低压下直接观察隔膜表面的精细结构,并且不会对隔膜产生损伤。隔膜的制备工艺主要分为干法和湿法两类[2]。干法即熔融拉伸法,包括单向拉伸工艺和双向拉伸工艺,工艺过程简单,制造成本低,是锂离子电池隔膜生产的常用方法。干法制备的隔膜具有扁长状微孔(图1),但制备的隔膜较厚,且微孔均匀性差、孔径和孔隙率较难控制,组装后的电池能量密度低,主要应用于中低端锂离子电池。场发射扫描电镜在锂电隔膜检测中的应用”图1 干法拉伸隔膜/0.5KV/Inlens湿法即热致相分离法,将聚合物与高沸点溶剂等混合熔融,经过降温相分离、拉伸、萃取干燥、热处理定型等工艺制得微孔膜。与干法工艺相比较,湿法工艺稳定可控,制得的隔膜厚度薄、力学强度高、孔径分布均匀且相互贯穿(图2)。使用湿法工艺制得的隔膜虽然成本高于干法工艺,但组装后的电池能量密度高、充放电性能好,多应用于中高端的锂离子电池。结合国仪量子自主研发的孔径分析系统,可以对隔膜的孔径、孔隙率等特征进行快速自动化的分析(图3)。图2 湿法拉伸隔膜/1KV/Inlens图3 隔膜孔径分析/1KV/Inlens虽然聚烯烃类的隔膜广泛应用于锂离子电池中,但受材料本身力学性能、耐热性及表面惰性的限制,单纯的聚烯烃隔膜无法满足锂离子电池高安全性和高性能的要求。为此,需要对聚烯烃隔膜进行表面改性,以提高其力学性能、耐热性及与电解质的亲和力。其中,目前最常使用的方法就是对隔膜进行表面物理涂覆[3]。无机陶瓷材料(图4)具有耐热性好、化学稳定性高的特点,并且表面的极性官能团有利于改善聚烯烃隔膜对电解液的浸润性,故其常作为涂覆颗粒以增强隔膜的耐热性和电化学性能。图5为经无机陶瓷颗粒涂覆后隔膜的陶瓷面的表面形貌。图4 氧化铝陶瓷粉末/5KV/BSED图5 陶瓷涂覆隔膜/1KV/Inlens
  • 国产高端场发射枪扫描电镜产品首次亮相高交会
    11月15日,第二十五届中国国际高新技术成果交易会(以下简称“高交会”)在深圳开幕。  记者在中国科学院专馆看到,作为尖端科学仪器和真空技术领军者——北京中科科仪股份有限公司携其全资子公司科仪光电带来了具有自主知识产权的场发射枪扫描电子显微镜产品KYKY-EM8100。据悉,这是该产品首次在高交会亮相。中国科学院专馆  场发射枪扫描电镜是纳米技术、生物技术、医学、化学、物理学研究的重要工具,在半导体集成电路加工、微机电系统、微型传感器等信息技术支撑领域和环境保护领域也发挥着重要作用,广泛应用于金属、陶瓷、矿物、冶金、高分子、复合材料、微生物、新能源材料的表面形貌进行观察及微区的点、线、面成分分析。  同时,场发射枪扫描电镜在虫害的防治、灾害(火灾、失效分析)鉴定、刑事侦察、产品质量鉴定等方面也有广泛的应用,对于我国的基础科学研究、生产工艺控制、各分类学科的研究有着不可替代的重要地位。  针对基础科学研究和高精尖工业制造对国产场发射枪扫描电镜的迫切需求,2013年,中科科仪牵头,联合北京大学、中国科学院微电子研究所、中国科学院生物物理研究所、国家环境分析测试中心、清华大学等单位,承担国家重大科学仪器设备开发专项“场发射枪扫描电子显微镜开发和应用”,在2014年成功推出了国内首台肖特基场发射枪扫描电镜KYKY-EM8000,并在此基础上提升电子光学系统综合性能,于2017年推出了国产高端场发射枪扫描电子显微镜产品KYKY-EM8100,分辨率优于0.9nm@30kV,3nm@1kV,解决了高分辨率电子光学成像系统、系统集成调试等关键技术,成为国内首创、达到国际同类产品技术水平、具有完全自主知识产权的肖特基场发射枪扫描电子显微镜。  KYKY-EM8100场发射枪扫描电镜的技术优势主要有方面:一是自主设计制造了低像差物镜;二是突破了电子束镜筒加速技术;三是自主研制了电子光学智能化控制系统,实现了自动灯丝加热、自动偏压、自动孔径角、自动聚焦、自动亮度/对比度等电子光学智能化控制功能,还实现了图像增强、图像锐化、样品尺寸测量、形貌拟合、颗粒度分析等功能,大大提升了产品的功能性与使用便捷性,助力打好科技仪器设备国产化攻坚战。  据介绍,该款扫描电镜是北京中科科仪股份有限公司承担科技部国家重大科学仪器设备开发专项“场发射枪扫描电子显微镜开发和应用”研制成果的一部分。该设备目前已完成科技成果转化及产业化落地,并形成批量销售。
  • 《场发射扫描电镜的理论与实践》新书发布会圆满召开!
    北京师范大学测试中心研究员李永良,从事扫描电镜的教学和测试工作30多年,从最初的钨灯丝扫描电镜到现在的场发射扫描电镜,深刻感受到扫描电镜技术进步带来的巨大变化。很多新技术的出现,如新型场发射电子枪、浸没式物镜、穿镜二次电子探测器、模拟背散射等,大大提高了扫描电镜整体性能,但目前在国内论述场发射扫描电镜的专著较少。因此李永良老师撰写了《场发射扫描电镜的理论与实践》,希望为读者正确理解扫描电镜提供帮助。4月29日,仪器信息网联合北京师范大学测试中心研究员李永良召开了《场发射扫描电镜的理论与实践》新书发布会,近4000名来自行业内的相关专家和学者线上参与了此次会议,共同探讨了场发射扫描电镜的前沿技术与应用,总观看人数超过了6000次,会议氛围热烈。北京师范大学测试中心 研究员 李永良《场发射扫描电镜的理论与实践——理论部分》场发射扫描电镜的出现,标志者扫描电镜进入一个崭新的时代,扫描电镜取得的巨大进步:新型电子枪、浸没式物镜、穿镜二次电子探测器、模拟背散射、E×B和电子束减速等新技术的应用,极大地提高了扫描电镜的性能,场发射扫描电镜已经成为各类分析测试实验室必备的仪器。系统地论述了扫描电镜中电子束和样品的相互作用、场发射扫描电镜的结构和成像原理,通过实操案例详细地介绍了场发射扫描电镜的调试过程和工作参数的选择,重点介绍了样品制备及场发射扫描电镜在生物、环境和材料等领域的应用。燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室 高级实验师 张兵《电子背散射衍射技术及其新进展》电子背散射衍射是利用装配在扫描电镜上的附件对晶体材料的微区取向以及结构进行分析的一种表征手段。日前,电子背散射衍射技术有了新进展,不仅涵盖了测试方式、硬件设备以及标定算法的变化,更拓宽了其应用范围广泛应用于多个领域,包括织构、取向分析;晶粒尺寸和形状分析;晶界、亚晶及孪晶性质的分析;局部应力分析;变形行为及方式分析;材料失效分析;物相分析及鉴定等,可见电子背散射衍射技术将在材料科学领域发挥更加重要的作用。布鲁克(北京)科技有限公司 应用科学家 陈剑锋《拓展电镜的检测领域——微纳尺度里高端元素分析及表征技术》主要介绍了布鲁克的纳米分析仪器的技术特色及应用领域。其中,XFlash7具备一系列技术特色,、包括Slim-line技术、最大化探测器立体角、高达1000kcps的输出计数率、无与伦比的信号处理速度、可视化谱峰剥离、EDS空间分辨率估算等,可广泛应用于多个领域。北京师范大学测试中心 研究员 李永良《场发射扫描电镜的理论与实践——实践部分》首先详细讲解了扫描电镜的新技术:新型电子枪、浸没式物镜、穿镜二次电子探测器、模拟背散射、E×B和电子束减速。接着指导了读者如何进行像散校准,要仔细调试电子束电磁对中、找出消像散时的初始位置、一边消像散,一边微调聚焦,时刻保持图像清楚。在校正像散过程中从2万倍开始(如像散太大,还要降低倍数),再校正5万、10万、15万和20万像散。当聚集时图像不会出现拉长现象,只会在模糊和清晰之间来回变化,就表示像散校准完成。最后介绍了场发射扫描电镜在植物花粉、纳米材料、PM2.5、建材、沉积膜、磁性粉末和纳米催化剂等方面的应用。各位专家的精彩讲解视频将实时同步至会议页面:https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/fesem240429/ ,一旦视频回放上线,我们将第一时间通过会议平台及官方渠道告知各位。您也可以通过仪器信息网-视频号观看回放,随时回顾专家的精彩见解。

赛默场发射扫描电镜相关的方案

赛默场发射扫描电镜相关的资料

赛默场发射扫描电镜相关的论坛

  • 场发射扫描电镜和热发射扫描电镜电子枪性能问题

    场发射扫描电镜和热发射扫描电镜电子枪性能问题

    扫描电镜高质量应用,意味着高分辨高信噪比,在一定扫描电镜时间内,追求小束斑大电流,对于钨灯丝和六硼化X阴极材料的热发射枪扫描电镜,束斑尺寸增加,束斑电流增大,图像信噪比提高,但分辨率降低。束斑尺寸和束斑电流关系如下图LaB6和W,二者呈线性关系,很好理解。但场发射枪扫描电镜,高分辨范围内,在束斑尺寸也就是分辨率变化很小情况下,束斑电流变化两个数量级,接近100倍,这是什么原因呢? 见下图 Feild Emssion Gun 曲线小驰请有操作经验的兄弟姐妹解惑,谢谢!http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/03/201703161732_01_3123849_3.jpg

  • 场发射扫描电镜

    请问场发射扫描电镜(FE-SEM)的原理是什么,比钨丝灯的优势在哪儿?

赛默场发射扫描电镜相关的耗材

  • 扫描电镜专用场发射电子源9215736
    场发射电子源921 5736 ,这个型号的场发射灯丝,适用于原厂H机型。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种,扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点:1、有较高的放大倍数,20-30万倍之间连续可调;2、有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;3、试样制备简单,目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪(EDS)装置,这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 扫描电镜专用场发射电子源9213915
    场发射电子源9213915/9217251,这两个灯丝的外形一样,适用的扫描电镜型号不同,需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种,扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点:1、有较高的放大倍数,20-30万倍之间连续可调;2、有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;3、试样制备简单,目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪(EDS)装置,这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 扫描电镜X射线源
    这款扫描电镜X射线源专门用于电子显微镜设计的X射线源,非常适合扫描电镜的XRF光谱分析,是理想的XRF射线源和X射线荧光光谱仪X射线源。 扫描电镜X射线源具有紧凑的设计和滑动安装功能,允许与样品非常接近。 取向在样品表面的小到大的激发区域产生高“通量”(x射线)。 扫描电镜X射线源?XSEMTM提供500μ至25mm的激发区域。 集成的高压电源最大功率为10瓦(35千伏和0.1毫安,取决于阳极材料)。 紧密耦合提供与传统“台式”或“独立”单元相当的XRF分析结果。扫描电镜X射线源?X SEMTM设计使其不影响电子显微镜的正常工作,包括在同一样品上使用电子束,同时同时收集所有元素。不需要特殊的冷却。 电子束(来自扫描电子显微镜)产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用扫描电镜X射线源?XSEMTM可以轻松识别,量化,甚至生成痕量X射线图,以查看样品中微量元素的元素分布。 应用: 艺术与考古 石油EDXRF 化学 药物应用 涂料和薄膜 塑料,聚合物和橡胶 化妆品 电镀和电镀浴 环境 木材处理应用 食品应用 其他应用 取证 金属和矿石 矿产和矿产品 ?X 规格 阳极类型 端窗传输 目标材料 Ag,Mo&W 加速电压 10-35kV 光束电流 0-100μA 阳极点尺寸 500μm 准直器尺寸 200μm,500μm,1000μm(其他可选) 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 传导冷却,不需要风扇 控制/安全 可变控制kV /μA,X射线开/关按钮,kV /μA显示。 连接到SEM,键控上电开关,集成高压电源,HV-On灯,警示灯
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