全自动等离子刻蚀机

仪器信息网全自动等离子刻蚀机专题为您提供2024年最新全自动等离子刻蚀机价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括全自动等离子刻蚀机参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的全自动等离子刻蚀机您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合全自动等离子刻蚀机相关的耗材配件、试剂标物,还有全自动等离子刻蚀机相关的最新资讯、资料,以及全自动等离子刻蚀机相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

全自动等离子刻蚀机相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
    留言咨询
  • 中国博友纳米集团有限公司成立于2010年, 是一家集研发,设计,生产,销售及提供全面的售后服务为一体的高新技术环保纳米等离子喷涂设备、材料、技术公司。公司总部在湖南省,在北京顺义、江苏常州、浙江东阳、福建泉州、广东东莞建有分公司,印度和越南的分公司在2019年正式开张,公司已在中国贵州省黔东南州筹建10万平米以上研发生产和营销中心售后服务总基地及后续准备在贵州上市,海外其它国家的销售及技术服务分公司也在筹划中。我们的市场覆盖全球范围内的工艺品,塑料、塑胶、五金、玻璃、木材、陶瓷、家具,灯饰,汽车,装饰,电子电器等等各行各业领域任何需要喷涂效果的产品, 投入小,回报大,高新的技术和全面的技术支持和售后服务让我们的市场和业绩一直超高速的在增长。
    留言咨询
  • 留言咨询

全自动等离子刻蚀机相关的仪器

  • Plasma Etcher等离子刻蚀机NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。 NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机产品特点紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持8个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机应用:有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机Features:Stand Alone SystemAuto wafer Load/Unload with load lockStainless Steel, Aluminum or Bell Jar ChambersClass 100 Clean Room CompatibleShower Head, ICP or Microwave Plasma SourcesRotating PlatenRF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled PlatenFully Automated or Manual RF tuningUp to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas LinesPC Controlled Pneumatic ValvesMultiple Levels of Access with Password ProtectionPC Controlled with LabVIEWMechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 250 l/sec Turbomolecular Pump5x10-7 Torr Base PressureFully Safety InterlockedNPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机Applications:Removal of Organic and Inorganic Materials without ResiduesPhotoresist Stripping or AshingDesmearing and Etch Back Applications Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead FramesAdhesion Promotion, Elimination of Bonding Problemsurface Modification of Plastics: O2 Treatment for PaintabilityProducing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces
    留言咨询
  • Plasma Etcher等离子刻蚀机NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。 NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机产品特点紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持5个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机应用:有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机Features:Stand Alone SystemAuto wafer Load/Unload with load lockStainless Steel, Aluminum or Bell Jar ChambersClass 100 Clean Room CompatibleShower Head, ICP or Microwave Plasma SourcesRotating PlatenRF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled PlatenFully Automated or Manual RF tuningUp to 5 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas LinesPC Controlled Pneumatic ValvesMultiple Levels of Access with Password ProtectionPC Controlled with LabVIEWMechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 250 l/sec Turbomolecular Pump5x10-7 Torr Base PressureFully Safety InterlockedNPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机Applications:Removal of Organic and Inorganic Materials without ResiduesPhotoresist Stripping or AshingDesmearing and Etch Back Applications Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead FramesAdhesion Promotion, Elimination of Bonding Problemsurface Modification of Plastics: O2 Treatment for PaintabilityProducing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces
    留言咨询
  • 全自动离子刻蚀机 MEL 3100伯东公司日本原装进口全自动离子刻蚀机 MEL 3100, 蚀刻速率 10(nm/min), 均匀性 ≤±5%, 全自动化系统减少人工操作, 保证产品高稳定性和高质量. 有效减少因人工操作带来的损失!全自动离子刻蚀机 MEL 3100 特性 全自动化系统 清洁: 钛用于经常暴露于离子束的零件, 以产生低粒子. 晶圆输送盒采用高效空气过滤器.占地面积小, 方便维护10.4英寸触摸屏 配置美国 KRI 考夫曼离子源和德国 Pfeiffer 分子泵.全自动离子刻蚀机 MEL 3100 技术规格.型号MEL 3100样品数量尺寸3”φ-6”φ,1片晶圆输送盒1个, 25 片晶圆极限真空8x10-5 Pa均匀性≤±5%蚀刻速率10(nm/min) @SiO2Hakuto 日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!伯东公司超过 50年的刻蚀 IBE 市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术! 若您需要进一步的了解离子蚀刻机详细信息, 请联络上海伯东叶女士
    留言咨询

全自动等离子刻蚀机相关的资讯

  • 生物分析研究必备神器:XelPleX全自动表面等离子体共振成像仪
    从事生物研究的科研工作者们,你们在实验中是否遇到过类似的疑惑?用于分析研究的工具还是一台陈旧的已然跟不上时代发展的“老人机”。实验中,检测筛选、出结果时间长不说,还提高了试剂成本;只能检测小范围的样品溶液不说,每年维护还需要不少费用;手动不环保不说,还不稳定......horiba 科学仪器事业部近来推出新品:xelplex全自动表面等离子体共振成像仪(生物大分子相互作用仪)是一款免标记、多通道生物分析和研究的理想工具。它与传统的spri表面等离子体共振成像仪相比,该系统自动化程度高,设计精巧,可实时监测数百个相互作用并获得动力学参数;适用于实时物理化学相互作用研究和动力学研究;高度自动化的表面等离子体共振成像系统,适用于多种应用要求。另外,高精度温度控制系统和自动脱气装置确保低背景噪音和低信号漂移,可便捷地获取在不同温度下的分子相互作用及反应的亲和力和动力学数据。 如此多的优点,作为生物学科研者,你们还用为实验效率不高,实验结果受外界影响严重,而担忧吗?不仅如此,下面还有更多优异的功能,可以直接秒杀实验过程中遇到的种种难题~1阵列式检测,同一芯片可同时获得多达400种相互作用创新的阵列式芯片设计,同一芯片可同时分析超过400组相互作用,与传统的通道-技术相比,所需时间缩短百倍,并节约试剂和人力成本,特别适用于快速筛选。2无标记,实时生物分子相互作用分析与成像基于spr技术、新型的生物传感技术,实时跟踪分子间结合和解离的过程,每秒可采集芯片表面5幅图像,提供完整动力学信息。成像技术,提供时空分布信息,直观判断相互作用是否发生;辅助解释动力学数据。3适应复杂样品优流体系统设计,全芯片表面检测,可直接注入复杂样品,不易堵塞,并耐受有机溶剂,拓展传统spr应用范围,适用蛋白质、dna、多糖、细胞、血清和培养基等多种粘稠样品以及纳米材料溶液。每年节约数万维护费用。 4智能全自动,48h无人看守实验全新超级软件,可以同时监测几百对相互作用,定量及统计分析,便于筛选和排序。5原位质谱联用,无需洗脱和浓缩独特芯片设计-质谱直接联用,无需洗脱和浓缩,同一芯片即可实现spr分析和质谱检测。进而实现动力学分析和物质鉴别。 6引导式软件设计,易于统计分析多功能软件包,全程引导式操作,批量处理数据及快速分类,方便调用实验模板及数据处理模板。7自动化样品回收与循环,环保节能自动化样品回收技术,节约珍贵样品,回收样品可用于交叉验证等实验。独特的样品循环技术,可检测低样品浓度,并维持动态平衡。 以下是xelplex全自动表面等离子体共振成像仪的主要技术参数,可以帮助大家更详尽的了解这款产品。技术参数 检测技术:耦合棱镜的表面等离子体共振成像 通道数:可以同时监测400组相互作用过程 样品体积:120μl-820μl 流速控制范围:1-3000μl/min 流通池温控范围:10-50°c 检测下限:3pg/mm2另外,附上与xelplex相匹配的核心附件,让xelplex展现出优的性能,发挥出大作用。可选附件 spri-cfm连续流动微量点样仪 spri-array快速台式点样仪 spri-biochips™ 生物芯片(cs/co/cse/coe/ctg/ch功能化)
  • 科众精密-全自动晶圆接触角测量仪,测量等离子处理镀膜后的接触角
    半导体晶圆表面的接触角测试是半导体制造中常见的一项表面质量评估方法,其重要性在以下几个方面:1、粗糙度评估:半导体晶圆表面的粗糙度会对接触角产生影响,接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度,从而评估其表面质量。表面清洁评估:半导体晶圆表面的杂质和污染物会影响接触角的测量结果,接触角测试可以用来评估晶圆表面的清洁程度。2、表面处理评估:半导体晶圆表面的各种表面处理,如刻蚀、沉积、退火等会影响接触角的测量结果,接触角测试可以用来评估这些表面处理对晶圆表面性质的影响。3、界面张力评估:在半导体制造中,各种材料的粘附和分离过程都涉及到界面张力的变化,接触角测试可以用来评估晶圆表面和各种材料之间的界面张力。综上所述,半导体晶圆表面的接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度、清洁程度、表面处理效果和界面张力等方面的性质,对半导体制造过程中的表面质量控制具有重要的意义。晶圆全自动接触角测量仪详细参数:技术参数KZS-50图片硬件外观接触角平台长12寸圆平台(6寸、8寸、12寸(通用)扩展升级整体扩展升级接触角设备尺寸670x690x730mm(长*宽*高)重量35KG样品台样品平台放置方式水平放置 样品平台工作方式三维移动样品平台样品承重0.1-10公斤仪器平台扩展可添加手动,自动倾斜平台,全自动旋转平台,温控平台,旋转平台,真空吸附平台调节范围Y轴手动行程400mm,精度0.1mmX轴手动,360°自动旋转,精度0.1mm测试范围0-180°测量精度高达0.01°测量面水平放置样品平台旋转全自动旋转平台仪器水平控制角位台可调,镜头可调,样品平台可调滴液滴液系统软件控制自动滴液,精度0.1微升,自动接液测试注射器高精密石英注射器,容量500ul针头直径0.51mm,1.6mm表面张力测试滴液移动范围X轴手动调节80mm,精度0.01mmZ轴自动调节100mm,精度0.01mm滴液系统软件控制自动滴液泵滴液模组金属丝杆滑台模组镜头/光源光源系统单波冷光源带聚光环保护罩,寿命60000小时以上光源调节软硬共控镜头可移动范围滑台可调100mm镜头远心变倍变焦定制镜头镜头倾斜度±10°,精度0.5°相机帧率/像素300fps(可选配更高帧率)/300万像索电源电源电压220V,功率60W,频率60HZ漏电装置带漏电装置保护软件部分软件算法分辨率拟合法、弧面法、θ/2、切线法、量角法、宽高法、L-Y法、圆法、椭圆法、斜椭圆法测量方式全自动、半自动、手动拟合方式 分辨率点位拟合,根据实际成像像素点完全贴合图像拍摄支持多种拍摄方式,可单张、可连续拍摄,支持视频拍摄,并一键测量。左右接触角区分支持分析方法座滴法、纤维法、动态润湿法、悬滴法、倒置悬滴法、附着滴法、插针法、3D形貌法、气泡捕获法分析方式 润湿性分析、静态分析、实时动态分析、拍照分析、视频分析、前进后退角分析保存模式Word、EXCEL、谱图、照片、视频总结1、晶圆接触角测量可以订制,适用于各种半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量:可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角,具有高度的重复性和准确性。3、多功能性:晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式,可以测量不同类型的表面处理,如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响,可以提供全面的表面质量评估。4、高效性:晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量,提高了实验的效率。5、自动化程度高:晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统,可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理,减少了实验人员的工作量和误差。晶圆接触角测量仪是一种专门用于测量半导体晶圆表面接触角的仪器。相比传统的接触角测量仪,它具有以下优势:1、适用于大尺寸晶圆:晶圆接触角测量仪通常具有较大的测试平台,能够容纳大尺寸的晶圆,适用于半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量:晶圆接触角测量仪使用高精度的光学传感器和计算算法,可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角,具有高度的重复性和准确性。多功能性:晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式,可以测量不同类型的表面处理,如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响,可以提供更全面的表面质量评估。3、高效性:晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量,提高了实验的效率。4、自动化程度高:晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统,可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理,减少了实验人员的工作量和误差。综上所述,晶圆接触角测量仪具有高效、高精度、多功能等优点,在半导体晶圆表面处理和质量控制中具有广泛的应用前景。
  • 牛津最新等离子技术App可用于等离子体刻蚀和沉积
    牛津仪器等离子技术最近更新的App包括一个明确和互动的元素周期表、详细的等离子体、离子束和原子层沉积工艺信息。它允许iPhone和iPad用户查阅工艺化学的相关信息,可以通过简单的周期表界面实现任何材料的刻蚀和沉积。   这个周期表App可以免费下载,将吸引大量的工业和学术界的用户。同时,它也是一个优秀的教学设备,可以展示单个元素属性和电子构型。

全自动等离子刻蚀机相关的方案

全自动等离子刻蚀机相关的资料

全自动等离子刻蚀机相关的试剂

全自动等离子刻蚀机相关的论坛

  • 【分享】HC-800全自动离子分析仪与其它产品比较

    《生活饮用水卫生标准》(GB 5749—2006) 饮用水水质指标106项,其中42项为常规指标,这42项常规指标包括了氟、硝酸根、水硬度、氯化物、pH等项目。虽然离子计、离子色谱仪和HC-800全自动离子分析仪都是分析离子性物质的方法,但它们有很大的区别。一、HC-800全自动离子分析仪与离子色谱仪1. 离子色谱仪对检测样品要求高,要进行复杂预处理。对水样品要求电阻18 MQ,无颗粒,用0.45um滤膜过滤。水质不好则结果肯定不好,还可能对仪器和分离柱造成损坏。HC-800全自动离子分析仪对样品适应性比较强,无需过滤,水样混浊、有颜色时也可测定。2. 离子色谱仪目前不能在线实时监测,只能在检测室里检测使用。HC-800全自动离子分析仪有检测室里检测和在线监测两种方式任选。在线监测,可以实现水质的实时连续监测,实时掌握水质的变化。3. 离子色谱仪对所有试剂都应当是分析纯以上,最好是优级纯。淋洗液使用要求更高。淋洗液使用前应过滤、脱气, 以去除其中的颗粒物及气泡。离子色谱经常使用强酸、强碱作为流动相,易对人和环境产生危害。HC-800全自动离子分析仪只要求试剂为分析纯,只有A、B两种标准液,很安全。4. 离子色谱仪对水样中各种离子区分比较复杂(定性),对每种离子波峰留出时间和峰形要与每种离子标准液作比对,才能确认每种离子。HC-800全自动离子分析仪组装各种电极,就可识别离子并同时定量分析。5.离子色谱仪20分钟以内能得到7个常见离子阴离子:F-, Cl-, Br-, NO2-, PO43-, NO3-, SO42-的结果,但对阳离子检测不理想,因为阳离子柱质量不过关。HC-800全自动离子分析仪不但能检测7个常见离子阴离子,而且能检测阳离子Na+, NH4+, K+, Ca2+, Mg2+,只要3分钟能检出3到8种离子的结果。6.离子色谱仪价格较高,动辄十几万到二十几万。结构比较复杂,操作难度大,使用耗材维护费用高,普及程度不高等。HC-800全自动离子分析仪只需几万元,适合普及,定标、进样、测量、冲洗全程自动化,无需人工清洗与维护 。使用耗材费用低廉。二、HC-800全自动离子分析仪与离子计1. 离子计是比较传统的实验室测定离子方法,采用离子选择电极法。手工标定,在测定样品前,先配制7种标准液,分别测定每种标准液电位,人工绘制标准曲线。最后测水样,在标准曲线查找相应的点,查找计算得出水样中某种离子浓度。整个过程耗时耗人力。HC-800全自动离子分析仪A、B装好各种电极和两种标准液,开机,自动标定,自动进样,自动测量,自动出结果,只需3分钟。2. 离子计一次只能测一种离子,只能大概定量。HC-800全自动离子分析仪,装几种电极,一次就能出几种离子的结果。由高性能微处理器处理,能精密定量(0.1级),打印与计算机通讯一并完成。

全自动等离子刻蚀机相关的耗材

  • 全自动环保除湿机
    森井除湿机[美国森井除湿机][台湾森井除湿机生产]美国WGI公司作为一家致力于以科技产品服务人类社会的公司,拥有先进的专业技术和丰富的制造经验。凭借对日新月异的现代科技与用户需求的密切关注与精准把握,产品推陈出新,品质卓越,在市场上享有盛誉。 SEN森井 是美国WGI 公司人工环境设备的著名品牌之一。自90年代开始,SEN森井 品牌的全自动环保除湿机、专业高效空气净化器、多功能红外温度计以及数字安全监控系统等产品相继进入中国市场。经过长期不懈的努力,SEN森井产品经受了幅员辽阔的大中华地区千差万别的地理环境和使用方式的考验,以其优越的性能,可靠的质量,完善的服务,成为广受消费者喜爱和信赖的产品。 SEN森井 品牌产品全部通过了中国国家级的认证及检测,更荣获中国电子电器行业&ldquo 国家质量稳定合格产品&rdquo 、中国中轻产品&ldquo 质量、服务、信誉AAA品牌&rdquo 。这是产品的荣誉,也是对消费者最实在的保证。 · 除湿量:36L/d(30℃,80%RH) · 单位输入功率除湿量高于国家标准16% · 微电脑设定四种功能 · 智能化操作、全程控湿 · 银离子空气过滤网 · 压缩机保护装置 · 自动除霜装置 · 7公升超大水箱 · 水满报警自动停机 · 连续除湿自动排水接口 · 万向转轮 · 低温适用:5 ~ 35℃ 森井除湿机(转轮式)CH100D(10L/D) (适用15~50m2,功率380W) 森井除湿机(转轮式)CH150D(15L/D) (适用20~60m2,功率440W) 森井除湿机CH918RB(18L/D) (适用15~40m2,功率400W) 森井除湿机CH928B(28L/D) (适用20~60m2,功率450W) 森井除湿机CH936B(36L/D) (适用50~80m2,功率720W) 森井除湿机CH948B(48L/D) (适用60~100m2,功率790W) 森井除湿机CH1800RB(180L/D) (适用200~320m2,功率2600W) SEN森井全自动环保除湿机系列产品严格按照国际电工委员会(IEC)及中国国家标准,以专业技术及精湛工艺制造,高效、环保、节能,是国际上最先进的移动式除湿机。 SEN森井全自动环保除湿机系列产品广泛应用于家居、办公、科研、生产、仓储等场所,深受用户青睐,在市场上享有盛誉。
  • 过氧化氢低温等离子灭菌剂
    三强低温等离子灭菌器适用于医院手术室、消毒供应中心各类医用手术器械做快速灭菌处理。微电脑控制,触控操作,全自动升降门。  三强低温等离子灭菌器是在低温、真空状态下,在消毒室中通过高频电场作用产生等离子体,其中活性物质与微生物体内的蛋白质和核酸发生化学反应,摧毁微生物和扰乱微生物的生存功能,再以H2O2为媒质,作用于微生物细胞,进一步对微生物实施灭杀。  可以灭面的物品和材质  宫腔镜、腹腔镜、喉镜、探头、硬性内窥镜、软管内窥镜镜片、纤维光缆、颅压传感器、冷疗探子切除器、食管扩张器、电灼器械、除颤电机、激光机头、金属类、玻璃类、硅胶类、橡胶类等  耗材灭菌剂、等离子生物指标剂、等离子化学指示卡(标签)、等离子指标胶带、无纺布、等离子医用包装袋等。
  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4, 单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机; 7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制