等离子体清洗机

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等离子体清洗机相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 极科是一家从事科研、生产领域的专业供应商。极科设计、制造并提供全套集成解决方案,产品和服务涉及光电子、半导体、材料科学、生物、医学等领域。极科公司音译GIK (Goals In Kudos),寓意追求极致,赢得科学领域客户的赞誉!极科与每一位追求极致的科研人员共创美好未来!极科业务范围:X射线和γ射线探测器,半导体晶圆片处理仪,匀胶旋涂仪,高通量微波消解仪,生物显微镜,离心机,蒸汽消毒柜,视频光学接触角测量仪,等离子清洗机,等离子体表面处理仪,等离子蚀刻系统,等离子光刻胶去胶系统,低温等离子体灭菌系统,等离子表面活化处理系统,色谱仪,光谱仪,医疗辅助设备,医疗器械涂层,
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  • 北京中海时代科技有限公司是专业从事中外高科技产品的进出口企业。涉及领域有航空、科研、通信、工业、医用、船舶、能源、交通等,主要客户方向:工业制造、科研院所、造船厂等企业。公司代理德国等离子发生器设备Plasma、等离子清洗机、等离子体电源、等离子体粉末涂层涂装绘图机、等离子体裂解消解废物污水环保设备、工业设备、工业电子产品、工业耗材、造船工装设备等产品。经营的主要产品有:德国常压等离子体清洗机、德国瑞龙进口常压等离子发生器Plasma、常压等离子发生器电源、德国压电冷等离子发生器、手持等离子发生器、密闭等离子发生器、plasma Implant植入式等离子体发生器、常压手持等离子发生器、Plasma Beauty等离子体美容仪、德国plasma压电等离子电离清新模块、等离子体电源、等离子体粉末涂层涂装绘图机、等离子体裂解消解废物污水环保设备、重载移动运输设备、合拢定位设备;英国 E2V电子管;英国进口MEC射频功率电容;日本 TDK/Epcos进口磁棒铁氧体磁芯;日本Hinoday进口磁棒高频加热焊棒 美国GASFLUX助焊剂;Umicore Braze Tec德国进口优美科焊膏焊粉等。公司重信用、守合同、保证产品质量,以多品种经营特色和薄利多销的原则,赢得了广大客户的信任。
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等离子体清洗机相关的仪器

  • CIF粉体等离子清洗机 400-860-5168转3726
    CIF 推出的专为处理粉体如粉末、颗粒状材料样品而设计的粉体专 用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材 料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。同时可实现 常规等离子清洗。粉体等离子清洗机原理:粉体等离子清洗机就是在常规等离子清洗机真空腔内,放置可旋转并带搅 拌的样品瓶,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离 子体,作用在样品瓶内粉体样品上,通过等离子体轰击被清洗粉体材料表面, 改变材料表面性质,优化材料表面性能。等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理、化学性质,在保持粉体材料原有性能的前提下,赋予其表面 新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在 介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。技术参数:型号CPCP3CPCP3plus舱体尺寸D200XΦ155mmD200XΦ155mm舱体容积3.8L3.8L舱体材质不锈钢或石英玻璃可选不锈钢或石英玻璃可选石英转瓶尺寸Φ75xH120mmΦ75xH120mm转瓶转速0-100rpm 可调0-100rpm 可调射频电源40KHz13.56MHz射频功率0-600W 可调0-150W 可调匹配器自动匹配自动匹配激发方式电容式或电感式电容式或电感式气体控制双浮子流量计时间设定9999 秒真空泵抽速 4m³ /h气体稳定时间1 分钟真空度100pa 以内电源AC220V 50/60Hz 666/316W产品尺寸L425xW420xH465mm包装尺寸L560xW545xH730mm整机重量32kg
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  • CIF粉体等离子清洗机CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。详细信息CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备,新材料、新工艺和新产品开发的重要方法,提高了粉体材料的附加价值,扩大了粉体材料的应用领域。CIF推出CPCP-G系列新一代带搅拌功能的专为处理粉体样品的等离子清洗机,采用质量流量计(MFC)气体输送控制。主要特点是专业、处理样品量大、快速高效、动态清洗,处理均匀、无死角、无污染、气体输入准确。 技术参数型号CPCP-GCPCP- Gplus舱体尺寸H120XΦ370mm H120XΦ370mm舱体容积12.8L12.8L石英转瓶尺寸Φ286xH88mmΦ286xH88mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-300W可调10-300W可调气体控制质量流量计(MFC)(标配单路,可选双路)产品尺寸L618xW520xH665mm
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  • plasma等离子清洗机工作原理:等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。(1)原子团等自由基与物体表面的反应(2)电子与物体表面的作用(3)离子与物体表面的作用(4)紫外线与物体表面的反应运用等离子体的特殊化学物理特性,plasma等离子清洗机的主要用途如下:1. 去除灰尘和油污、去静电;2. 提高表面浸润功能,形成活化表面;3. 提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性;4. 刻蚀物的处理作用.plasma等离子清洗机作用效果:(A)对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。(B)激活键能,交联作用等离子体中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物中大部分的键能在 0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。(C)形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。深圳市东信高科自动化设备有限公司,专注等离子表面处理工艺。网址:
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等离子体清洗机相关的资讯

  • 等离子清洗机的清洗过程指导
    等离子清洗机的清洗过程指导等离子清洗机 的清洗过程一般包括以下步骤:1. 准备工作:先将待清洗物放入等离子清洗室,并确保清洗室内没有杂物和污垢。2. 封闭清洗室:关闭清洗室的门和密封装置,确保清洗室密封。3. 抽气和抽真空:打开真空泵,将清洗室内的气体抽走,形成一定的真空度。真空度的选择根据清洗物的要求和等离子清洗机的规格来确定。4. 气体进入和等离子放电:在清洗室内引入清洗气体(如氧气、氮气等)并调整流量和压力。然后启动等离子发生器,产生等离子放电,形成气体等离子体。5. 清洗时间和功率:根据清洗物的材料和污染程度,设定适当的清洗时间和功率。清洗时间通常为几分钟到几十分钟,功率通常为几十瓦到几千瓦。6. 清洗结束和处理:清洗时间结束后,关闭等离子发生器和抽真空泵。待等离子体消失后,打开清洗室门,将清洗物取出。7. 清洗室清理和维护:清理清洗室内壁、电极和密封件,并检查设备的各种部件是否正常。需要注意的是,在进行等离子清洗时,应根据具体情况选择合适的清洗参数,如气体种类、流量、压力、功率等,在操作过程中要遵循设备使用说明书和安全操作规范,确保操作安全和清洗效果。
  • CIF发布CIF扫描电镜等离子清洗机新品
    CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护创新点:CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用双等离子清洗源设计,自动切换,一机多用,清洗快速高效、低等离子体轰击损伤,核心部件采用国际一流品牌,保证设备优异的质量和稳定性。CIF扫描电镜等离子清洗机
  • 【新品推荐】雷博等离子清洗机,解决复杂材料清洁难题!
    为进一步满足客户的实验工艺需求,雷博科仪特推出新款实验型等离子清洗机:PT13M-BE、PT13M-SE、PT13M-GE、PT40K-BE、PT40K-SE仪器介绍等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子清洗可以除去器材表面细小的油膜、锈迹或其他油类污物,而且在等离子清洗后,不会在器材表面留下残余物。工作原理等离子清洗机是一种利用等离子体技术对材料表面进行处理的设备,其工作原理主要基于等离子体中的活性粒子与材料表面发生物理和化学反应,从而达到清洁、活化、改性等目的。 应用工艺雷博科仪PT系列等离子清洗机主要应用于:亲水性处理、表面处理、疏水性处理、键合处理。亲水性处理操作 真空等离子清洗机通过高频电源产生电场能量,使得气体分子发生电离和激发,形成含有大量正离子、电子和自由基等活性物质的等离子体。这些活性物质在与材料表面发生作用时,能够去除表面的污染物和有机物,同时在材料表面引入含氧极性基团,如羟基、羧基等,这些基团的引入增加了材料的亲水性。①准备阶段:将要处理的材料放入真空等离子清洗机中,设定适当的处理参数,如处理时间、气体种类和浓度等。②抽真空阶段:启动真空泵,将腔体内抽成真空状态。③注入气体:选择适当的气体(如氩气、氧气、氮气等)注入腔体,形成等离子体。④等离子照射:在一定的电压和电流条件下,产生等离子体,通过等离子体中的活性粒子与材料表面发生作用,去除表面污染物,并在表面引入亲水基团。⑤结束处理:停止等离子照射,取出材料,完成亲水性处理。我们的优势1.满足8寸以下基片使用2.可处理形状复杂的材料3.低温等离子体,能量低、密度高4.对处理产品无损伤,不改变材料特性5.高效清洗,快速达成需要的表面亲水性 6.无环境污染、无化学品消耗、机台本身不产生污染物

等离子体清洗机相关的方案

等离子体清洗机相关的资料

等离子体清洗机相关的试剂

等离子体清洗机相关的论坛

  • 【讨论】等离子体应用相关仪器

    这些是不是算作等离子体还请高手指正!1、等离子体清洗机/刻蚀/灰化/减薄 通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,或者与样品表面的材料反应生成相应的气体,由真空系统排出反应腔,整个过程在样品表面不产生残留物,固体如: 金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行 处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的 吸附/粘附特性等等。 2、离子溅射:氩气充入已被低真空泵抽真空的样品室里。多次充入氩气,使不需要的气体排出,特别是水蒸汽。这样,样品室内充满了尽可能多的纯的氩气。然后调节样品室内工作压力为0.05-0.1mbar,这样就可以开始溅射了。 开始溅射时,在靶(阴极)加上高压,在靶和样品台(阳极)之间产生了一个高压区。空间内的自由电子在磁场作用下进入旋转轨道,与空间内的氩原子碰撞。每次碰撞把氩原子外层中的一个电子撞出,使中性的氩原子带正电。这个雪崩效应激发了辉光放电。 带正电的氩离子被阴极吸引撞向阴极靶,撞出阴极靶上的金属原子。释放的金属原子之间以及金属原子与真空室内的其它气体分子之间的碰撞使金属原子四处发散,形成雾状。这样金属原子从各个方向撞击样品表面然后均匀地凝聚在样品表面,在即使是非常多裂缝的样品表面也能覆盖一层均匀的、有足够导电性的金属薄膜。 由于金和银原子表面的高度扩散性,它们容易在样品表面形成岛状,这样,除非金属镀层有10nm厚,否则达不到所需导电性。白金能产生最细腻的镀层。 溅射镀层的细腻程度取决于靶材、工作距离、气体压力和溅射电流以及反应持续时间3、磁控溅射:电子枪发射的电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。4、等离子切割机:等离子切割是利用高温等离子电弧的热量使工件切口处的金属  等离子切割机标准图片部份局熔化(和蒸发),并借高速等离子的动量排除熔融金属以形成切口的一种加工方法。等离子切割机配合不同的工作气体可以切割各种氧气切割难以切割的金属,尤其是对于有色金属(不锈钢、铝、铜、钛、镍)切割效果更佳;其主要优点在于切割厚度不大的金属的时候,等离子切割速度快,尤其在切割普通碳素钢薄板时,速度可达氧切割法的5~6倍、切割面光洁、热变形小、几乎没有热影响区。

  • 【资料】等离子清洗机(Plasma Cleaner)常见三种用途

    Harrick等离子清洗机(Plasma Cleaner)常见三种用途 一、金属表面去油污并清洗  金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果:1.1灰化表面有机层  -表面会受到物理轰击和化学处理(氧 下图)   -在真空和瞬时高温状态下,污染物部分蒸发  -污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出  -紫外辐射破坏污染物  因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度,所以污染层不能太厚。指纹也适用。1.2氧化物去除  金属氧化物会与处理气体发生化学反应(下图)   这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合气体。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面,第二步用氢气和氩气的混合气体去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。1.3焊接  通常,印刷线路板(PCB)在焊接前要用化学助焊剂处理。在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除,否则会带来腐蚀等问题。1.4键合  好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱,这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。同时氧化层对键合的质量也是有害的,也需要进行等离子清洗。二、等离子刻蚀物的处理  在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url](例如在使用氟气对硅刻蚀时,下图)。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来(例如半导体行业用铬做覆盖材料)。  等离子方法也用于刻蚀塑料表面,通过氧气可以灰化填充混合物,同时得到分布分析情况。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的,如POM 、PPS和PTFE。等离子处理可以大大地增加粘合润湿面积提高粘合强度。三、刻蚀和灰化处理聚四氟(PTFE)刻蚀  聚四氟(PTFE)在未做处理的情况下不能印刷或粘合。众所周知,使用活跃的钠碱性金属可以增强粘合能力,但是这种方法不容易掌握,同时溶液是有毒的。使用等离子方法不仅仅保护环境,还能达到更好效果。(下图)     等离子结构可以使表面最大化,同时在表面形成一个活性层,这样塑料就能够进行粘合、印刷操作。     聚四氟(PTFE)混合物的刻蚀  PTFE混合物的刻蚀必须十分仔细地进行,以免填充物被过度暴露,从而削弱粘合力。       处理气体可以是氧气、氢气和氩气。可以应用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS和PP等。四、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗  塑料、玻璃、陶瓷与聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一样是没有极性的,因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时,玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洗。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面,不会产生有毒烟气,中空和带缝隙的样品也可以处理。   不需要用化学溶剂进行预处理   所有的塑料都能应用   具有环保意义   占用很小工作空间   成本低廉  等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证,处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理(大于15分钟),材料表面不但被活化还会被刻蚀,刻蚀表面具有极小的表面接触角和最大润湿能力。五、等离子涂镀聚合      在涂镀中两种气体同时进入反应舱,气体在等离子环境下会聚合。这种应用比活化和清洗的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成,应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。涂镀层非常薄,通常为几个微米,此时表面的疏水性非常好。常用的有3种情况   防水涂镀—环己物   类似PTFE材质的涂镀---含氟处理气体   亲水涂镀---乙烯醋酸 MYCRO(迈可诺)供稿

等离子体清洗机相关的耗材

  • 微波等离子体清洗器配件
    微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机,采用微波能量生产等离子体,在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时,微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体,这种等离子流经污染表面与之发生反应,污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同,这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能,具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品,可以获得更高的气压,更高的功率和更高的温度,当然,您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高,安全而易于使用,而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾,不排放有毒有害的溶解物或气体,不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器,这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长,第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’,第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度,这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置:1.水循环浴;2.双气真空流动控制器:可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件,它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出,两个流量(0-5SCFM)计,两个压力计(0-60帕),一个真空压力计(0-30’’Hg)和一个开关;3.离子阱:该离子阱用于保护易损伤材料,如:激光二极管发光面,光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子,从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。
  • 等离子体表面清洗器配件
    等离子体表面清洗器是等离子体表面处理前对样品表面清洗、活化和净化的专用表面活化仪器和表面清洗仪器,非常适合对温度敏感材料的表面处理,如塑料。等离子体表面清洗器适合难以接触的样品表面清洁处理,如狭窄的裂缝,毛细血管或狭小孔洞。等离子体表面清洗器特点由氩供电。减少或氧化气体的混合物可以达到百分百。只要简单操作其电极头,就可以转换该装置处理分子气体,如空气或氮气。作为高新技术,广泛用于科学研究和工业应用,是材料表面处理中不可缺少的工具。等离子体表面清洗器特征 紧凑便携, 操作简单 等离子表面清洗器应用广泛 激活 精洗 去污 ?处理 温度敏感材料 复杂的几何图形 很难接触的位置 精确和逐点操作 由惰性气体和分子气体提供能源 轻松加工一体化等离子表面清洗器产品概述 描述 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 180mm,?20mm(1.50m 电缆接头) 手持装置重量 170克 手持装置保护类型 IP30 基本单元尺寸 105x 180 x 330mm(高x宽x深)基本单元重量 4kg 基本单元保护类型 IP40 电源 110-230 VAC,50 / 60Hz 功耗<50W 在230V,50赫Hz 运输和储存条件 温度-40°C - 70°C REL。湿度10% - 100% 工作条件温度15°C - 40°C相对湿度15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa 资源 加工气体 氩* *根据要求,提供其他气体和混合物 气流 3-8升/分钟 *内置流指示器与安全关闭 引入压力2-3bar 绝对 气体温度 60°C 交付内容 kinpen® 基本单元包括手持装置 电极头(预装)线
  • 微波等离子体源
    微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器,可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气,氦气,确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用,广泛的操作范围内的气体流量和微波功率,以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能,成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术,广泛用于科学研究和工业应用,是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛,主要用于那些质量,生产力,环境的可持续性,精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析(如有机汞,铅,锡化合物) 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm(1.50米电缆接头) 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm (高x宽x深) 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗<200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求,提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W(可选)气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线
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