高真空热蒸发镀膜仪

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  • 登弗真空设备(上海)有限公司旗下拥有中国自主高端品牌-登弗真空。公司致力于中国本土实验室真空产品第一品牌, 目前已经研究开发生产出一系列真空产品:完全抗化学腐蚀隔膜真空泵、活塞真空泵、抗腐蚀型螺旋(涡旋)真空泵、旋片真空泵、超高真空分子泵机组(实验室级/带推车)、真空金属辅件(金属法兰、转接头等)。严格质量控制,同等德国的工艺技术。公司提供粗真空、高真空、超高真空方案设计、项目实施搭建、 项目验收、售后维修一条龙服务。 目前服务客户主要为化学、制药、物理、半导体、催化化学、化工、交叉学科的高校科研院所。产品应用在真空烘箱、旋转蒸发仪、离心浓缩仪、冷冻干燥、镀膜PVD、CVD、PLD、MBE、STM、催化BET、香料SAFE提纯等多种场合。作为一家研发技术型公司,生产研发基地分别位于上海金山、浙江杭州、浙江海盐,营销中心位于上海。公司提供产品服务包括在选型初期的专业支持、商务上的良好合作以及全面的售后服务。公司立志成为一家中国的高新科技型企业。
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  • 长沙市啟睿新材料有限公司,地址位于湖南省长沙市岳麓区,是专业销售溅射靶材、蒸发材料、各种高纯金属材料料为主的一家高科技创新企业。溅射靶材主要通过烧结、热等静压、真空熔炼、粉末冶金等方法制备,可根据客户的具体要求定做不同成分、规格的镀膜材料,并为客户提供技术上的服务与支持。公司主营产品:溅射靶材(金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、氧化物靶材、氟化物靶材、硫化物靶材)、蒸发镀膜材料、无机化合物材料、半导体材料、太阳能光伏材料、电子材料、金属粉末、氧化物粉末、贵金属材料、镀膜基片、坩埚等。啟睿新材料坚持“诚信经营,质量第一,服务至上”,争取为客户提供更高纯度、更好价格的产品及更优质的服务。热情欢迎国内外广大客户来电咨询公司产品。
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高真空热蒸发镀膜仪相关的仪器

  • 德国韦氏纳米系统专门为大学,研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征:All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品,并提供产品的售前售后服务,如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣,欢迎前来咨询!
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  • 高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室+进样室-单镀膜室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-单镀膜室+进样室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-多镀膜室+样品传递室+手套箱(组成团簇式结构,样品传递采用真空机械手)设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵(或冷泵)真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量,可根据用户需要进行配置。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件:数量:1~12套(可根据用户要求配装);电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)工作条件(实验室应具备的设备工作条件)供电:4kW,三相五线制~ AC 380V工作环境湿度:10℃~ 40℃工作环境温度:≤50%冷却循环水:0.2m3/h,水温18℃~ 25℃水压:0.15MPa ~ 0.25MPa真空性能极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 小型高真空不锈钢腔体热蒸发镀膜仪CY-EVP180G-HV本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪,蒸发温度从200℃到1700℃,采用钨丝篮作为蒸发源,蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。上盖装有可旋转的样品台,能够有效提高成膜的均匀度。仪器拥有高精度的温度控制系统,采用循环加热方式,能够稳定蒸发金属及有机物。采用不锈钢高真空腔体设计,配高精度分子泵,能够达到高真空要求,较高的真空度能够有效提升蒸发镀膜的效率及质量小型高真空热蒸发镀膜仪用途: 本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。
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高真空热蒸发镀膜仪相关的资讯

  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (PlasmaSystem)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)
  • WELCH实验室真空泵如何确保离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效?
    WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发,在竞争方面,直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家,该客户产品定位高端,在国内市场有较好的口碑,其对配套的旋片真空泵(油泵)要求,无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等,还是在品牌知名度方面,都有非常高的要求,为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率,已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵,且销售了数年时间,但此品牌的旋片泵价格高昂,货期不稳定,售后服务有着很大的提升空间。此时,我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观,真空度高,泵体小巧,运行非常安静,泵体内部做PTFE防腐处理,能够明显提高其使用寿命,完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高,售后服务完善,能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然,对于临阵换将,任何人都会有所犹豫,为打消客户疑虑,我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵,进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单,加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管,一气呵成。开机运行!在寂静的实验室里,CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝,镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化,结果仅仅用了不到3分钟,就达到了镀膜仪恒定工作压力以下,即1-2Pa。同时,由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计,其排气口几乎无油雾排出,非常有利于实验室环境,该公司的测试人员对此结果非常满意。随即,设备配套顺理成章,双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点:  1、泵体运行温度低,能有效减低泵被化学腐蚀风险。  2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层,能够保护泵不被化学物质侵蚀。  3、油箱容量大,能够稀释吸入真空油里的化学物质,降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。  4、低噪音:运行特别安静,不干扰工作。  5、自润滑功能:确保所有运动部件浸润在新鲜的油里,平衡温度,减少油染,延长机械寿命。  6、防倒吸阀:防止在停机时油被倒吸进真空容器  7、气压载阀:减少化学蒸汽被夹带进入泵油;保护泵不被可凝性流体如水,乙酰腈等的影响。  8、cUL和CE认证:具有各国的安全认证,满足官方的3安全标准。  9、满足各种应用的外形尺寸:现代和紧凑的外形设计,满足各种应用场合的要求。  10、双电压电机:IP44 电机,可在115V 和240V之间切换,并可配置各种相应的电源插头,使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用: 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊(Welch)威伊真空设备(上海)有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵,包括真空活塞泵,真空隔膜泵,真空旋片泵,螺旋泵,涡轮分子泵,液体输送泵等,还有各种真空测量仪,真空控制器,真空蒸馏装置,真空浓缩设备,真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰(纽交所代码:IR),以企业家精神和主人翁意识为动力,致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌,在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务,涵盖空气压缩机、泵、鼓风机,以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下,亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识,帮助客户提高生产力并提升效率,与客户建立终身连接。
  • 哈工大郑州研究院2415.00万元采购红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。(9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积 开标时间:2022-12-01 09:00 预算金额:2415.00万元 采购单位:哈工大郑州研究院 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:河南省教育招标服务有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。 (9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516

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