高精度台式薄膜厚度仪

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高精度台式薄膜厚度仪相关的厂商

  • 400-860-5168转4574
    镇江超纳仪器有限公司隶属于杭州长川科技股份有限公司(股票代码300604)是一家高科技企业,座落在镇江市科技新城。公司研发的产品精密光学量测设备广泛应用于先进制造业中的纳米、微米级结构表面微观特征的精密测量,包括关键尺寸、套刻精度、表面轮廓、台阶高、表面缺陷、微观形貌、表面粗糙度、薄膜厚度等等。覆盖的行业包括了先进制造业的各个领域:集成电路制程工艺、封装工艺、微电子机械系统制造(MEMS)、PCB基板和多层板制造、太阳能光伏电池片工艺。公司拥有的白光干涉测量技术的产品获得“江苏省首台(套)重大装备”认定。
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  • 深圳市凤鸣亮科技有限公司是一家从事新技术及新产品研发的高科技民营企业。近几年来,公司组建精密测控技术中心,成功地开发出LTG-3系列非接触线激光在线测厚仪、LT-2000系列激光位移传感器,等光学测量产品,解决了在人造生物材料(如角膜材料)的在线非接触测量问题,汽车动力磷酸铁锂电池和锂离子电池生产过程中的电池极片测厚,透明/半透明薄膜、布料,铜箔、铝箔,冷(热)轧钢板,镀锌钢板,防水卷材、板材等厚度的动态在线测量问题。解决了在注塑、橡胶、轧钢、玻璃、纸张陶瓷、石材、机械加工等诸多领域的生产加工过程中对被测物进行快速、高精度动态在线测量和控制的难题,其中,LTG-300测量精度可达+/-0.001mm。13652311601(谢)LTG-150型激光测厚仪测量精度可达+/-0.002mm,LTG-650,测量精度可达+/-0.001mm,还可根据用户需求研制特殊量程的几何量测量传感器,和激光测厚仪。激光非接触在线测厚系统对人与环境无污染,公司以“科技为本,服务无限”为宗旨;以“今天的质量,明天的市场”为动力,全力服务客户,不断创新。所推出的系列产品填补了国内相关行业的空白,其综合性能已达到国内一流水平。我们的目标是利用我们的光电检测产品提高现代制造业的技术含量,在短期内成为光电检测控制及相关产品的主要生产及服务供应商之一,并努力把光电检测技术及产品拓展到更广的领域。联系人:谢生 13652311601;QQ954424712;http://www.szfmlkj.com
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  • 400-860-5168转5104
    江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制 化服务的知名品牌供应商。 公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。 公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。
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高精度台式薄膜厚度仪相关的仪器

  • 台式薄膜厚度仪 薄膜厚度检测仪 高精度薄片厚度测定仪采用机械接触式测量方式,严格符合标准要求,有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。台式薄膜厚度仪 薄膜厚度检测仪 高精度薄片厚度测定仪技术特征:严格按照标准设计的接触面积和测量压力,同时支持各种非标定制测试过程中测量头自动升降,有效避免了人为因素造成的系统误差支持自动和手动两种测量模式,方便用户自由选择实时显示测量结果的最大值、最小值、平均值以及标准偏差等分析数据,方便用户进行判断配置标准量块用于系统标定,保证测试的精度和数据一致性系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能,方便快捷地获取测试结果系统由微电脑控制,搭配液晶显示器、菜单式界面和PVC操作面板,方便用户进行试验操作和数据查看标准的RS232接口,便于系统与电脑的外部连接和数据传输支持LystemTM实验室数据共享系统,统一管理试验结果和试验报告执行标准:ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817台式薄膜厚度仪 薄膜厚度检测仪 高精度薄片厚度测定仪技术指标:负荷量程:0~2mm(常规);0~6mm;12mm(可选)分辨率:0.1μm测量速度:10 次/min(可调)测量压力:17.5±1KPa(薄膜);50±1KPa(纸张)接触面积:50mm2(薄膜);200mm2(纸张)注:薄膜、纸张任选一种;非标可定制电源:220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz外形尺寸:461mm(L)×334mm(W)×357mm(H)净重:32kg仪器配置:标准配置:主机、标准量块一件选购件:专业软件、通信电缆、测量头、配重砝码、微型打印机
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  • 中图仪器NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪,其采用LVDC电容传感器,主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量,具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。典型应用NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时(测量1μm台阶高度,1δ)尺寸(L×W×H)mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W使用环境相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动:6.35μm/s(1-100Hz)音频噪音:≤80dB空气层流:≤0.508 m/s(向下流动)恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 中图仪器高精度薄膜厚度台阶仪采用线性可变差动电容传感器LVDC,具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率。同时集成超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3)应力测量:可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1)单区域测量模式:完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度,即可开始测量。2)多区域测量模式:完成Focus后,根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式,一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3)3D测量模式:完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置,一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。 3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机,在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径,在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能采用了磁吸式测针,当需要执行换针操作时,可现场快速更换扫描测针,并根据软件中的标定模块进行快速标定,确保换针后的精度和重复性,减少维护烦恼。磁吸针实物外观图(330μm量程)中图仪器高精度薄膜厚度台阶仪应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。典型应用 NS系列中图仪器高精度薄膜厚度台阶仪利用光学干涉原理,通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度,具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度,包括金属、陶瓷、塑料等。如针对测量ITO导电薄膜的应用场景,NS200台阶仪提供如下便捷功能:1)结合了360°旋转台的全电动载物台,能够快速定位到测量标志位;2)对于批量样件,提供自定义多区域测量功能,实现一键多点位测量;3)提供SPC统计分析功能,直观分析测量数值变化趋势;部分技术指标型号NS200样品观察500万像素彩色摄像机 正视视野:2.2×1.7mm探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸200mm(8吋)台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时(测量1μm台阶高度,1δ)尺寸(L×W×H)mm630×610×500重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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高精度台式薄膜厚度仪相关的资讯

  • Filmetrics在台湾和慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室
    加利福尼亚州圣地亚哥--(美国商业资讯)--Filmetrics 宣布在台湾台南和德国慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室。该实验室不仅为亚洲和欧洲提供薄膜厚度支持中心,而且都并网到 Filmetrics 全球支持网来及时为我们的客户提供网络上和电话上的支持。新增设的两个实验室完成了我们的二十四小时全世界支持网来实现实时视频,远程诊断,以及在线“动手”服务。 这在实时支持薄膜厚度测量用户上标志着一个重要进展。   新的实验室将会支持所有的F20应用,包括半导体,太阳能,显示器,以及生物医学工业。Filmetrics 总裁查斯特博士说,“从现在起我们欧洲和亚洲的客户可以享有我们在美国的客户所享有的高水平的支持。并且,我们新的24小时支持网就好像Filmetrics应用工程师每天任何时候都坐在他们旁边。“   Filmetrics仪器用白色光照射薄膜,再根据测量光谱反射来确定薄膜厚度。波长范围可在220到1700纳米之间选择。Filmetrics软件分析收集到的光谱数据,从而确定厚度,光学常数,和其他用户选择的参数。   公司网站 http://cn.filmetrics.com   Filmetrics公司介绍   凭借多年薄膜厚度测量的经验和遍布全球的技术支持中心,Filmetrics提供了简单易用的仪器和无可比拟的支持。总部位于加利福尼亚州圣地亚哥,Filmetrics拥有全系列薄膜厚度测量系统,并不断开发更有效的薄膜测量新产品和技术。Filmetrics成立于1995年,并迅速奠定了台式薄膜测量行业的领导地位。   联系方式:   查斯特博士, Filmetrics, Inc., +1-858-573-9300   电邮:chalmers@filmetrics.com
  • 操作薄膜厚度测量仪时,有哪些步骤是容易被忽视的
    在精密制造与材料科学的广阔领域中,薄膜厚度测量仪作为一种关键的检测工具,其准确性与操作规范性直接影响到产品质量与科研结果的可靠性。然而,在实际操作过程中,一些看似微不足道的步骤往往容易被忽视,这些被忽视的细节正是影响测量精度与效率的关键因素。本文将从几个关键方面出发,探讨操作薄膜厚度测量仪时容易被忽视的步骤。一、前期准备:环境检查与设备校准的疏忽1.1 环境条件未充分评估在进行薄膜厚度测量之前,对测量环境的温湿度、振动源及电磁干扰等因素的评估往往被轻视。这些环境因素的变化可能直接导致测量结果的偏差。因此,应确保测量环境符合仪器说明书的要求,如温度控制在一定范围内,避免强磁场干扰等。1.2 设备校准的忽视校准是确保测量准确性的基础。但很多时候,操作者可能因为时间紧迫或认为仪器“看起来很准”而跳过校准步骤。实际上,即使是最精密的仪器,在使用一段时间后也会因磨损、老化等原因产生偏差。因此,定期按照厂家提供的校准程序进行校准,是保障测量精度的必要环节。二、操作过程中的细节遗漏2.1 样品处理不当薄膜样品的表面状态(如清洁度、平整度)对测量结果有直接影响。若样品表面存在油污、灰尘或凹凸不平,会导致测量探头与样品接触不良,从而影响测量精度。因此,在测量前应对样品进行彻底清洁和平整处理。2.2 测量位置的随机性为确保测量结果的代表性,应在薄膜的不同位置进行多次测量并取平均值。然而,实际操作中,操作者可能仅选择一两个看似“典型”的位置进行测量,这样的做法无疑增加了结果的偶然误差。正确的做法是在薄膜上均匀分布多个测量点,并进行统计分析。2.3 参数设置不合理薄膜厚度测量仪通常具有多种测量模式和参数设置选项,如测量速度、测量范围、灵敏度等。这些参数的设置应根据薄膜的材质、厚度及测量要求进行调整。若参数设置不当,不仅会影响测量精度,还可能损坏仪器或样品。因此,在测量前,应仔细阅读仪器说明书,合理设置各项参数。三、后期处理与数据分析的疏忽3.1 数据记录的不完整在测量过程中,详细记录每一次测量的数据、环境条件及仪器状态是至关重要的。但实际操作中,操作者可能因疏忽而遗漏某些关键信息,导致后续数据分析时无法追溯或验证。因此,应建立规范的数据记录制度,确保信息的完整性和可追溯性。3.2 数据分析的片面性数据分析不仅仅是计算平均值或标准差那么简单。它还需要结合测量目的、样品特性及实验条件等多方面因素进行综合考量。然而,在实际操作中,操作者可能仅关注测量结果是否达标,而忽视了数据背后的深层含义和潜在规律。因此,在数据分析阶段,应采用多种方法(如统计分析、图形表示等)对数据进行全面剖析,以揭示其内在规律和趋势。结语操作薄膜厚度测量仪时,每一个步骤都至关重要,任何细节的忽视都可能对测量结果产生不可忽视的影响。因此,操作者应时刻保持严谨的态度和细致的观察力,严格按照操作规程进行操作,确保测量结果的准确性和可靠性。同时,随着科技的进步和测量技术的不断发展,我们也应不断学习新知识、掌握新技能,以更好地应对日益复杂的测量任务和挑战。
  • 高光谱成像技术在薄膜厚度检测中的应用
    研究背景在薄膜和涂层行业中,厚度是非常重要的质量参数,厚度和均匀性指标严重影响着薄膜的性能。目前,薄膜厚度检测常用的是X射线技术和光谱学技术,在线应用时,通常是将单点式光谱仪安装在横向扫描平台上,得到的是一个“之”字形的检测轨迹(如下图左),因此只能检测薄膜部分区域的厚度。SPECIM FX系列行扫描(推扫式成像)高光谱相机可以克服上述缺点。在每条线扫描数据中,光谱数据能覆盖薄膜的整个宽度(如上图右),并且有很高的空间分辨率。 实验过程 为了验证高光谱成像技术在膜厚度测量上的应用,芬兰Specim 公司使用高光谱相机SPECIM FX17(935nm-1700nm))测量了4 种薄膜样品的厚度,薄膜样品的标称厚度为17 μm,20 μm,20 μm和23 μm. 使用镜面几何的方法,并仔细检查干涉图形,根据相长干涉之间的光谱位置及距离,可以推导出薄膜的厚度值。通过镜面反射的方式测量得到的光谱干涉图,可以转化为厚度图使用 Matlab 将光谱干涉图转换为厚度热图,通过SPECIM FX17相机采集的光谱数据,计算的平均厚度为18.4 μm、20.05 μm、21.7 μm 和 23.9 μm,标准偏差分别为0.12 μm、0.076 μm、0.34 μm和0.183 μm。当测量薄膜时,没有拉伸薄膜,因此测量值略高于标称值。此外,在过程中同时检测到了薄膜上的缺陷,如下图所示,两个缺陷可能是外部压力造成的压痕。结论SPECIM FX17高光谱相机每秒可采集多达数千条线图像,同时可以对薄膜进行100%全覆盖在线检测,显著提高了台式检测系统的检测速度,提高质量的一致性并减少浪费。与单点式光谱仪相比,高光谱成像将显著提高薄膜效率和涂层质量控制系统,同时也无X射线辐射风险。 理论上,SPECIM FX10可以测量1.5 μm到30 μm的厚度,而SPECIM FX17则适用于4 μm 到90 μm的厚度。如需了解更多详情,请参考:工业高光谱相机-SPECIM FX:https://www.instrument.com.cn/netshow/C265811.htm

高精度台式薄膜厚度仪相关的方案

高精度台式薄膜厚度仪相关的资料

高精度台式薄膜厚度仪相关的试剂

高精度台式薄膜厚度仪相关的论坛

  • 【讨论】椭偏仪测量薄膜厚度

    在si片上镀一层纳米碳膜,碳膜表面光洁如镜面,采用椭偏仪测量薄膜的厚度,测量时选择基底材料为si,将k设为0(透明薄膜,不知是否准确或透明薄膜如何定义?),根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921),采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量,测量得到的结果还行,基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确?1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜?2.采用同一n值测量厚度是否合适?希望高手指点,谢谢!

  • 【原创】测量薄膜厚度和光学常数的方法

    摘要: 借助于不同的色散公式, 运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线, 来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的T i O 2和反应磁控溅射的S i3 N 4,以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的I T O薄膜进行了测试, 结果表明测得的光学常数和厚度, 与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便, 而且不需要输人任何初始值, 具有全局优化的能力, 对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度, 这在光学薄膜、 微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值。

  • 【求助】测量薄膜厚度

    我现在需要测量ITO薄膜的厚度,透明的薄膜,大概200纳米左右。用椭偏仪行不行?是不是还需要薄膜的折射率?希望各位大侠指导一下[em61] [em09]

高精度台式薄膜厚度仪相关的耗材

  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
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