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在si片上镀一层纳米碳膜,碳膜表面光洁如镜面,采用椭偏仪测量薄膜的厚度,测量时选择基底材料为si,将k设为0(透明薄膜,不知是否准确或透明薄膜如何定义?),根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921),采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量,测量得到的结果还行,基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确?1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜?2.采用同一n值测量厚度是否合适?希望高手指点,谢谢!
摘要: 借助于不同的色散公式, 运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线, 来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的T i O 2和反应磁控溅射的S i3 N 4,以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的I T O薄膜进行了测试, 结果表明测得的光学常数和厚度, 与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便, 而且不需要输人任何初始值, 具有全局优化的能力, 对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度, 这在光学薄膜、 微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值。
我现在需要测量ITO薄膜的厚度,透明的薄膜,大概200纳米左右。用椭偏仪行不行?是不是还需要薄膜的折射率?希望各位大侠指导一下[em61] [em09]