多功能等离子体处理系统

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多功能等离子体处理系统相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 400-860-5168转4180
    上海续波光电技术有限公司是一家专业从事高性能薄膜沉积及处理设备、光电材料及软件、金刚石合成及应用、激光等离子体仿真和诊断等产品及服务进口的技术贸易服务型公司。公司至今已与法国、德国、英国、瑞士、意大利、美国、加拿大、日本、俄罗斯等国家的多家企业建立了战略合作关系,并服务于国内从事微电子、半导体、光学、纳米技术等领域的研究所和大学。公司从事领域及产品主要包括:加速器质谱仪:第三代14C加速器质谱仪系统(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系统AGE3、气动压样装置PSP、铁制分配器FED、管密封装置TSE、气体电离探测器GID、气体接口系统GIS、碳酸盐处理系统CHS2、同位素比质谱仪IRMS。薄膜制备及处理:磁控溅射仪(magnetron sputtering system)、电子束蒸镀设备(E-beam Evaporation system)、离子束溅射沉积(IBS system)、化学束外延镀膜(CBE/GSMBE)、分子束外延设备(MBE)、离子减薄仪(Ion Milling)、超高真空多功能镀膜设备、高精密光学镀膜设备(Optical Coating system)、刻蚀机(RIE, RIEB)、超导约瑟夫森结制备(Josephson Junction, Qubits)、DLC类金刚石镀膜设备。金刚石制备及应用:纳米晶金刚石制备设备、热丝化学气相沉积(HFCVD)、CVD单晶金刚石合成设备、CVD光学级金刚石窗口合成、微波等离子化学气相沉积(MPCVD)、工具级金刚石涂层制备(tool coating)、金刚石单晶/多晶掺杂(single crystal diamond and doping)、CVD金刚石单晶及其应用、高温高压金刚石单晶(HPHT diamond)、金刚石抛光设备(diamond polishing)、激光切割设备(laser cutting)、钻石净度及切工评定仪器;高能密度物理:辐射流体力学模拟、原子光谱分析软件、多维碰撞辐射软件、三维热辐射CAD软件、状态方程和不透明度、原子物理数据库;微波干涉仪、金刚石靶丸、超高功率输出窗口;激光等离子体气体/固体靶、粒子加速器源、激光等离子体加速器及应用(无损测试)激光器与设计:固体激光器设计软件(Solid-state Laser)、光纤激光器设计软件(Fiber laser)、半导体激光器设计软件(Semiconductor laser)、激光镜面镀膜设备(Lasers coating system)、高功率激光输出窗口(High power output window)、高功率激光热沉片(Heat Sink)、高功率钻石激光器(Diamond Laser)、金刚石窗口镀增透膜(AR coating service);磁场分布测量:微霍尔阵列磁场相机(1D/3D)、大面积磁场分布测量解决方案、永磁转子表磁测量解决方案,多功能表磁测试平台
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  • 极科是一家从事科研、生产领域的专业供应商。极科设计、制造并提供全套集成解决方案,产品和服务涉及光电子、半导体、材料科学、生物、医学等领域。极科公司音译GIK (Goals In Kudos),寓意追求极致,赢得科学领域客户的赞誉!极科与每一位追求极致的科研人员共创美好未来!极科业务范围:X射线和γ射线探测器,半导体晶圆片处理仪,匀胶旋涂仪,高通量微波消解仪,生物显微镜,离心机,蒸汽消毒柜,视频光学接触角测量仪,等离子清洗机,等离子体表面处理仪,等离子蚀刻系统,等离子光刻胶去胶系统,低温等离子体灭菌系统,等离子表面活化处理系统,色谱仪,光谱仪,医疗辅助设备,医疗器械涂层,
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多功能等离子体处理系统相关的仪器

  • FOR SURFACE MODIFICATION - CLEANING - ACTIVATION - ETCHING - DEPOSITION表面改性(亲水性和赤水性),等离子清洁,等离子活化,刻蚀以及反应离子刻蚀,等离子沉积等应用 GlowResearch是美国著名的真空系统解决方案供应商,其旗下的OptiGlow和AutoGlow全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年,随着研发提升及软硬件更新,现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外,其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套,遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室,著名包括莱斯大学,麻省理工学院,哈佛大学,尤利希中心,法国生物化学与生物分子研究中心,法国应用光学研究所,德国生物技术研究所,德国航空航天研究所,德国马普所,英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术,它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业,需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中,除了射频等离子体的强烈的化学作用外,其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物(如金属氧化物和其它无机物沉淀)以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托,3个气体流量质量控制器,150mm基底尺寸,13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到300W,全自动协调校准,压力可读,氮气清洗,CE认证标识。电容耦合的,只需按一个按钮便可全自动操作整个处理流程。使用在等离子清洁,键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜,去除有机物,光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计,最低可在10W功率运行。 AutoGlow 200—可以处理200mm基底(8寸晶圆),和反应离子刻蚀RIE(可选ICP电感耦合等离子体源)和等离子体处理。3个气体流量质量控制器–氧气,氩气或氟化气体(CF4或SF6), 13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到600W,全自动协调校准,,压力可读,氮气清洗,CE认证标识,高品质铝样品室。使用在等离子清洁,键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜,去除有机物,光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计,最低可在10W功率运行。具有观察窗用来监控OES发射光谱和处理终点检测。 Rice University has an AutoGlow in the Halas Research Lab. The system is used for removal of polymer resists for applications in plasmonics and nanophotonics and prepare samples for surface-enhanced molecular spectroscopy. Harvard University’s AutoGlow system in the Gordon McKay lab. The system is used for organic removal, surface modification and serves the needs of several researchers working on DNA research and human genome sequencing. Pictured is the AutoGlow at the Microsystems Technology Lab at MIT. This AutoGlow is used for Photoresist removal, cleaning and surface modification. This lab does research in MEMS, BioMEMS, Nanotechnology and Photonics. 全自动控制系统可以使用户轻松进行操作处理样品, 一旦系统检测真空达到预设真空值后, 便自动开启并控制气体流量进入, 这个过程不需要任何其他操作因素. 系统也可配置两路或三路气源和同时使用不同比例的混合气源(比例可以任意调整)然后通过一个额外的阀门来自动调整任意比例两种不同混合气源.系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等. 可适用多种工艺气体, 如氩气Ar, 氧气, 空气及氟化合物如CF4或SF6, 通过两个气体质量流量控制气体以及特殊阀门控制任意气体混合比例. 除了结构紧凑和集成度高外, 出色的射频激发等离子体配合出色的工艺控制, 失效保护系统和数据采集系统使其很容易使用在实验室和生产环境中。 湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4. 功能一:Plasma Cleaning等离子清洗: 应用于: - 金属表面超精细清洗 - 塑料与弹性体表面处理 - 一般玻璃表面陶瓷表面处理和清洗 - 去除样品表面氧化物和碳污染物 功能二:Plasma Surface Activation等离子表面活化功能三:Plasma Coating 等离子镀膜功能四:Plasma Surface Etching 等离子表面刻蚀-POM、PTFE、PEP、PFA -PTFE部件 -构建硅基结构 -光刻胶灰化
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  • PlasmaDyne Pro 1000s Treating System 大气等离子体处理系统 采用大气等离子技术处理各种表面,如塑料,橡胶,玻璃,金属,纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构,重新构造表面的化学性质,从而在基材与粘合剂,涂料,层压材料,涂料和油墨之间形成强大的粘合,提高表面能量。PlasmaDyne Pro 1000s采用大气等离子技术处理各种表面,如塑料,橡胶,玻璃,金属,纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构,重新构造表面的化学性质,从而在基材与粘合剂,涂料,层压材料,涂料和油墨之间形成强大的粘合,提高表面能量。处理头内的高压电流通过加压将等离子体施加到基底上,针对各种应用调整功率及处理水平,固定处理头的宽度为10-12 mm。 可定制一个或多个固定或旋转头,可作为独立单元或合并到其他生产线中运行,先进的控制系统确保均匀的可重复性的表面处理工作。功能和特点:1.可调节的功率水平高达600W(以达到理想的处理水平 - 提高功率,提高抗性基板的表面能力,或降低精密基板的功率)。2.一个或多个固定处理头的标准独立单元包括紧凑,耐用的焊接和粉末涂层钢柜和控制系统,前门控制面板,侧面远程连接器,高压变压器,和处理头的空气供应系统。3.彩色触摸显示屏,用于监控所有系统参数,包括故障排除和提供故障日志并下载功能。4.结构紧凑,经济实惠。5.工作场所安全,不产生臭氧。6.紧凑的设计可轻松集成到新的或现有的生产线中。7.配备活动配件,可提供3/8“至1/2”的处理带或5/8“,1 1/2”,2的扩展宽度,带有旋转/宽喷嘴选项。8.独立的供气系统使用直流,低压的自动鼓风机,以避免其他系统产生的压缩空气污染。9.低/高等离子处理水平报警,以确保一致的质量结果。如果处理过程中受到损害,系统将停止运行。10.完全可定制,可满足您独特的表面处理应用,最多可配置20个处理头。PlasmaDyne易于使用,操作具有成本效益,可靠且安全。易于集成和操作 - 可轻松集成到机械臂或往复机上,更直观,提高生产率。减少停机时间和维护 - 最小元件和先进的组件相结合,意味着更平稳的操作和更长的系统寿命。专为快速更换应用而设计 - 轻松编程和调整配置可大限度地减少停机时间。环保 - 无需使用有毒的底漆和溶剂,减少VOC排放。便于使用紫外线技术。节省成本的耐用性和灵活性 - 这意味着对导电,半导电和非导电区域进行低维护和均匀处理。PlasmaDyne专为快速更换和产品定位而设计,可大限度地减少停机时间,同时提供一致的处理。 PlasmaDyne的旋转头可处理更广泛的区域,大气等离子体可为您的应用提供表面功能。有多种旋转头可供选择。 PlasmaDyne的固定头在机械臂的帮助下可处理狭窄的凹槽
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  • PlasmaProTM NGP80 – 下一代等离子体处理系统为等离子体刻蚀和沉积集合了开放式进样工具。多重处理技术:PlasmaPro NGP80在同一个平台上提供了通用的等离子体刻蚀和沉积技术解决方案,并且带有便利的开放式进样装置。系统集合了微足印(smallfootprint)技术,可方便地进行定位及使用,且不会对工艺质量产生不良影响。该设备是研发或小规模量产的理想工具,可处理从小块样品到直径200mm的晶片。开放式进样设计使晶片可以快速进片及退片,适合研究、原型开发及小量生产。PlasmaPro NGP80的优势:关键组建方便装卸有利于维护兼容Semi S2/S8安全标准新一代的总线控制系统可以极大地提升数据的检索、传送、重复匹配能力新的增强用户界面利用前端软件的错误及工具诊断功能实现快速的错误诊断自动的清洗功能可以清除管道内的有毒物质并对管道进行冲洗,通过前端软件实现安全且完全的自锁清洗控制工艺技术配置选项:PlasmaPro NGP80 RIEPlasmaPro NGP80 PECVDPlasmaPro NGP80 RIE/PE 牛津仪器具有广泛、可用的生长工艺。 有了在生长工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持, 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供生长工艺解决方案的经验为我们提供了世界上最强大的生长工艺库和工艺能力。以下是一些可供选择的关键工艺--请与我们联系,讨论您的需要,我们的专业销售和应用的工作人员将很高兴地帮助您选择合适的生长工艺和工具,以满足您的要求。请点击产品名,查看产品详细信息,谢谢Compound Semiconductors外延生长AlGaN&mdash 外延氮化铝镓外延生长InN&mdash 氮化铟外延材料外延生长InxGa1-xN&mdash 外延氮化铟镓 Nanotubes生长碳纳米管Nanowires生长Si纳米线&mdash 生长硅纳米线生长ZnO纳米线&mdash 生长氧化锌纳米线
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多功能等离子体处理系统相关的资讯

  • 德国美天旎发布全自动多功能细胞处理系统CliniMACS Prodigy system 新品
    美天旎全自动多功能细胞处理系统CliniMACS Prodigy® ,是在美天旎磁珠分选MACS® 技术和CliniMACS® Plus系统基础上开发出的一款集合细胞分选、细胞离心、清洗和细胞培养等多种功能于一体的全自动细胞处理系统。自动化、标准化、规模化、集成化的GMP级细胞制备平台CliniMACS Prodigy® 仪器将复杂的细胞治疗实验室整合在一个平台中,通过标准化程序自动控制的方法,配合密闭的无菌管道完成各种复杂的细胞操作,有效避免了人工操作过程中可能出现的失误和污染风险,极大地提高实验效率,保证GMP级细胞制备的可重复性。因此,利用这个稳定而又灵活的平台,可以方便地将基础研究转化到创新性的细胞治疗应用中。美天旎全自动多功能细胞处理系统CliniMACS Prodigy® 应用:移植工程——CD34造血干细胞富集移植工程——TCRαβ+T / CD19+B细胞去除细胞治疗——CD14单核细胞分选及MoDC诱导生成细胞治疗——T细胞转导(TCR-T / CAR-T)细胞治疗——细胞因子捕获系统(CCS-IFN-γ 富集)细胞治疗——CAR-NK细胞制备干细胞制备——间充质干细胞分离与扩增干细胞制备——多能干细胞制备干细胞制备——多巴胺前体细胞分化干细胞制备——心肌细胞分化创新点:美天旎全自动多功能细胞处理系统CliniMACS Prodigy® ,是一款集合细胞分选、细胞离心、清洗和细胞培养等多种功能于一体的全自动细胞处理系统,将复杂的细胞治疗实验室整合在一个平台中,通过标准化程序自动控制的方法,配合密闭的无菌管道完成各种复杂的细胞操作,有效避免了人工操作过程中可能出现的失误和污染风险,极大地提高实验效率,保证GMP级细胞制备的可重复性。因此,利用这个稳定而又灵活的平台,可以方便地将基础研究转化到创新性的细胞治疗应用中。 全自动多功能细胞处理系统CliniMACS Prodigy system
  • 细胞分泌物的实时纳米等离子体成像 ——新的纳米等离子体成像系统允许对单细胞分泌物进行时空监测
    • Inara Aguiar来自生物纳米光子系统实验室(BIOS)、EPFL和日内瓦大学的研究人员开发了一种光学成像方法,可以在空间和时间上提供细胞分泌物的四维视图。通过将单个细胞放入纳米结构镀金芯片的微孔中,并在芯片表面诱导一种称为等离子体共振的现象,他们可以在分泌物产生时绘制分泌物的图谱。这项研究发表在《自然生物医学工程》(Nature Biomedical Engineering )杂志上,详细介绍了细胞的功能和交流方式,有助于药物开发和基础研究。芯片上的单个单元。(图片来源:BIOS EPFL)细胞分泌物(即蛋白质、抗体和神经递质)在免疫反应、代谢和细胞之间的交流中起着至关重要的作用。了解细胞分泌物的过程对开发疾病治疗至关重要;然而,现有的方法只能量化分泌物,而不能提供其产生机制的任何细节。BIOS负责人Hatice Altug表示:“我们工作的一个关键方面是,它使我们能够以高通量的方式单独筛选细胞。对许多细胞平均反应的集体测量并不能反映它们的异质性……在生物学中,从免疫反应到癌症细胞,一切都是异质性的。这就是为什么癌症如此难以治疗。”筛选细胞分泌物该方法包括一个1cm2的纳米等离子体芯片,由数百万个小孔和数百个用于单个细胞的腔室组成;该芯片由覆盖有薄聚合物网的纳米结构金基底组成。用细胞培养基填充腔室以在测量过程中保持细胞存活。Saeid Ansaryan说:“我们仪器的美妙之处在于,分布在整个表面的纳米孔将每个点都转化为传感元件。这使我们能够观察释放蛋白质的空间模式,而不考虑细胞的位置。”使用这种新方法,可以评估两个重要的细胞过程,细胞分裂和死亡。此外,还对分泌精细抗体的人类供体B细胞进行了研究。研究小组可以看到两种形式的细胞死亡过程中的细胞分泌,细胞凋亡和坏死。在后者中,内容以不对称的方式释放,产生了图像指纹——这是科学家首次能够在单细胞水平上捕捉到细胞特征。由于测量是在营养丰富的细胞培养基中进行的,因此与其他成像技术一样,它不需要有毒的荧光标记,并且所研究的细胞可以很容易地回收。根据作者的说法,“该系统的多功能性和性能及其与粘附细胞和非粘附细胞的兼容性表明,它可以为全面了解单细胞分泌行为铺平道路,应用范围从基础研究到药物发现和个性化细胞治疗。”原始出版物:Ansaryan, S., Liu, YC., Li, X., et al.: High-throughput spatiotemporal monitoring of single-cell secretions via plasmonic microwell arrays. Nat. Biomed. Eng. (2023) DOI: 10.1038/s41551-023-01017-1作者简介Inara AguiarInara是一位拥有无机化学博士学位的科学编辑和作家。在获得计算化学博士后后,她开始在化学、工程、生物工程和生物化学领域担任科学编辑。她一直在几家科学出版商担任技术作家/编辑,最近加入威利分析科学公司,担任自由职业内容创作者。本文来源:Real-time nanoplasmonic imaging of cell secretions——New nanoplasmonic imaging system allows spatiotemporal monitoring of single-cell secretions。Microscopy Light Microscopy ,13 April 2023供稿:符 斌,北京中实国金国际实验室能力验证研究有限公司
  • 等离子体“彩虹”芯片级智能光谱仪,可实现“光谱+偏振”双功能传感
    近年来,研究人员和业内主要厂商已将研发重心转向微型化、便携式且低成本的光谱仪系统,使之可以在日常生活中实现现场、实时和原位光谱分析的许多新兴应用。然而,受到过度简化的光学设计和紧凑型架构的机械限制,微型光谱仪系统的实际光谱识别性能通常远低于台式光谱仪系统。如今,克服这些限制的一种策略便是在光子方法学中引入深度学习(DL)进行数据处理。据麦姆斯咨询报道,近日,美国纽约州立大学布法罗分校(University at Buffalo,the State University of New York)与沙特阿卜杜拉国王科技大学(King Abdullah University of Science & Technology)的联合科研团队在Nature Communications期刊上发表了以“Imaging-based intelligent spectrometer on a plasmonic rainbow chip”为主题的论文。该论文第一作者为Dylan Tua,通讯作者为甘巧强(Qiaoqiang Gan)教授。在这项研究工作中,研究人员开发了一种紧凑型等离子体“彩虹(rainbow)”芯片,能够实现快速、准确的双功能传感,其性能可在特定条件下超越传统的便携式光谱仪。其中的分光纳米结构由一维或二维的梯度金属光栅构成。该紧凑型等离子体光谱仪利用普通相机拍摄的单幅图像,即可精确地获得照明光源光谱的光谱信息和偏振信息。在经过适当训练的深度学习算法的辅助下,研究人员仅用单幅图像就能表征葡萄糖溶液在可见光光谱范围内的双峰和三峰窄带照明下的旋光色散(ORD)特性。该微型光谱仪具有与智能手机和芯片实验室(lab-on-a-chip)系统集成的潜力,为原位分析应用提供新的可能。研究人员利用彩虹捕获效应(rainbow trapping effect)来开发片上光谱仪系统。图1展示了该研究工作所提出的片上光谱仪和一维彩虹芯片的设计原理。如图1a所示,该光谱仪利用等离子体啁啾光栅实现分光功能。这种表面光栅几何形状的逐渐变化,导致了局部等离子体共振的空间调谐(即为光捕获“彩虹”存储)。如图1b所示,研究人员采用聚焦离子束铣削技术,在300 nm的银(Ag)薄膜上制备了啁啾光栅。当白光垂直入射时,通过简单的反射显微镜系统(如图1c),就可以观察到明显的“彩虹”色图像,如图1d的顶部所示,该现象源于光栅引发的等离子体共振。图1 片上光谱仪的等离子体啁啾光栅根据这些空间模式图像,可以建立共振模式与入射波长一一对应的关系,这是片上光谱仪的基础。因此,研究人员探讨了该光谱仪对任意光谱特征的空间分辨能力。通过深度学习辅助的数据处理和重建方法,研究人员利用这种分光功能可以构建用于光学集成的智能化、微型化光谱仪平台。具体而言,研究人员提出了基于深度学习的智能彩虹等离子体光谱仪概念,并构建了带有等离子体啁啾光栅的光谱仪示例,如图2所示。该光谱仪利用深度神经网络预测了所测量的共振模式图像中的未知入射光光谱,而无需使用传统的线性响应函数模型。实验中的光谱仪架构如图2a所示。智能光谱仪主要由三部分构成:空间模式、预训练神经网络以及对应的波长。图2 基于深度学习的数据重建光谱分辨率是评价传统光谱仪性能的重要参数之一。因此,研究人员对该光谱仪的分辨率做了详细测试,测试结果如图3所示。图3 智能等离子体光谱仪的分辨率以上初步测试数据表明,智能彩虹芯片光谱仪具有实现高分辨率光谱分析的潜力,其性能可与传统台式光谱仪相媲美。随后,研究人员将一维光栅扩展到二维,以利用紧凑型智能等离子体光谱仪实现偏振光谱的测定,其性能超越了传统的光学光谱仪系统。同时,研究人员展示了等离子体彩虹芯片光谱仪可以引入简化、紧凑且智能的光谱偏振系统,具有准确且快速的光谱分析能力。图4a为具有梯度几何参数的二维光栅。图4 用于测定偏振光谱的二维啁啾光栅接着,研究人员利用该二维偏振光谱仪芯片对旋光色散进行了简单而智能的表征。图5a为传统的旋光色散系统测量由物质引起的旋光度随入射波长的函数变化。最后,研究人员展示了将二维光栅作为光谱偏振系统,并介绍了用于葡萄糖传感应用的示例。图5 更简单、准确且智能的光谱偏振分析综上所述,本研究中提出了一种集成了片上彩虹捕获效应与紧凑型光学成像系统的智能芯片级光谱仪。研究结果表明,该等离子体芯片可以在可见光光谱(470 nm - 740 nm)范围内区分不同的照明峰值。该芯片充分利用其波长敏感结构,能够根据照明光谱峰值显示不同的等离子体共振模式。随后将芯片扩展到二维结构,共振模式的复杂性增加,从而在入射光偏振方面提供更多信息。通过使用片上共振模式的空间和强度分布图像来训练深度学习算法,研究人员在同一系统内分别实现了光谱分析和偏振分析。随后,研究人员利用一种将旋光引入透射光的手性物质(即葡萄糖),证明了所提出光谱仪在旋光色散传感方面的可行性,旋光色散是一种有助于手性物质检测和定量的偏振特异性特征。深度学习模型的分析表明,该算法能够基于等离子体芯片的共振模式准确预测葡萄糖引入的旋光。即使在分析多峰照明下的共振模式时,这种性能也得到了保留。这种由深度学习支持的基于图像的光谱仪能够通过利用纳米光子平台的单幅图像同时进行光谱分析和偏振分析。因此,该光谱仪标志着在单一紧凑型且轻量化设计中实现了高性能的光谱偏振分析,为深度光学和光子学在医疗保健监测、食品安全传感、环境污染检测、药物滥用传感以及法医分析等领域的应用赋能。这项研究获得了沙特阿卜杜拉国王科技大学物理科学与工程部的科研基金(BAS/1/1415-01-01)和NTGC-AI项目(REI/1/5232-01-01)的资助和支持。

多功能等离子体处理系统相关的方案

  • 多功能集成色谱-电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法 快速测定饮用水中砷形态
    为准确快速测定饮用水中砷形态,采用多功能集成色谱(prepFAST IC)与电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)联用,ICX-As35 阴离子色谱柱为分析柱,通过仪器注射器推动改变 1 mmol/L 碳酸铵(pH=9.7)和100 mmol/L 碳酸铵(pH=9.2)洗脱液的混合比,进行浓度梯度洗脱,在 105 s 内快速分析出甜菜碱(AsB)、亚砷酸盐[As(Ⅲ)]、二甲基砷(DMA)、砷胆碱(AsC)、一甲基砷(MMA)和砷酸盐[As(V)]六种 As 的形态,建立饮用水中六种砷(As)形态的多功能集成色谱串联 ICP-MS 分析方法。。在 0~100 μg/L 六种 As 的形态线性关系良好,相关系数均大于 0.999,检出限为 0.02~0.03 μg/L。方法采用加标回收进行准确性评估,纯水和末梢水低、中、高浓度样本的加标回收率为 89.2%~103%,不同浓度砷形态的相对标准偏差(RSD)均优于2.0%。方法灵敏度高、准确可靠、分析效率高,适用于生活饮用水中砷形态的快速测定,提供了工作效率。
  • 低温等离子体技术在固体废弃物处理中的应用
    低温等离子体技术是集物理学 、化学 、生物学和环境化学于一体的全新技术 。本文叙述了低温等离子体的研究进展及其作用机理 , 探讨了该技术在固体废弃物处理中的应用现状 。同时 , 对低温等离子体反应器的结构特征 、 技术参数 、 工作机理以及处理工艺进行了综述 。作者在文中初步描述了研究低温等离子体技术的思路和想法 , 并展望了低温等离子体技术的发展前景 。
  • 等离子体处理技术在汽车领域的部分应用
    等离子体表面处理技术可以有效解决因表面粘合、喷漆、印刷等问题而带来的工艺难题。如今,等离子技术处理广泛应用在汽车工业,可以满足汽车外观、操作舒适性、可靠性、寿命等方面的要求。 等离子体表面处理可以改善聚合材料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷等的亲水性能,改变难粘材料的分子,使其在不损伤表面的情况下具有更好的粘附性能。

多功能等离子体处理系统相关的资料

多功能等离子体处理系统相关的试剂

多功能等离子体处理系统相关的论坛

  • 等离子体废气处理设备的放电等离子体处理

    目前,我国对废气处理的重视程度越来越高,越来越多的企业投资于等离子废气处理设备。   等离子废气处理设备工业尾气的放电等离子体处理因其自身的特点受到企业的青睐。   下面介绍了一种等离子体废气处理设备的放电等离子体处理方法。   等离子废气处理设备   等离子废气处理设备的放电等离子体处理方法是通过高压放电获得非热平衡等离子体;   产生大量的由电子产生的O、OH、N基活性粒子,破坏C-H、C-C等化学键,引起置换反应。   尾气分子中H、Cl、F等的作用,然后产生CO_2和H_2,即工业废气经排放处理以后不再对人的健康有害。   等离子废气处理设备是目前处理有害气体的有效方法之一。   世界对协同催化剂和反应器进行了大量的研究工作。   在等离子体中添加催化剂,可以提高污染物的去除效率,大大降低能耗和副产物。   世界上对这种协同催化剂的研究主要集中在金属氧化物和二氧化钛催化体系。   利用等离子体和催化反应的协同作用,提高有机废气的净化率,使能耗降低是成功的。

  • 双通道表面等离子体共振系统应用方向

    [b][url=http://www.f-lab.cn/biosensors/2spr.html]双通道表面等离子体共振系统2SPR[/url][/b]用于制药,药物发现,抗体筛选、蛋白的结构与功能、基因表达调控、生物学和系统生物学。双通道表面等离子体共振系统可为科学研究人员提供重要的分子相互作用的全面表征,这些相互作用包括蛋白质、蛋白质肽、蛋白质核酸和蛋白质小分子。除了生物分子相互作用的研究,xantec SPR传感器还可以用来量化非生物系统,甚至在有机溶剂中的后续芯片表面的固相化学反应过程中的吸附和解吸过程。 [img=双通道表面等离子体共振系统]http://www.f-lab.cn/Upload/SPRSYS.jpg[/img]双通道表面等离子体共振系统:[url]http://www.f-lab.cn/biosensors/2spr.html[/url]

  • 【讨论】等离子体应用相关仪器

    这些是不是算作等离子体还请高手指正!1、等离子体清洗机/刻蚀/灰化/减薄 通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,或者与样品表面的材料反应生成相应的气体,由真空系统排出反应腔,整个过程在样品表面不产生残留物,固体如: 金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行 处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的 吸附/粘附特性等等。 2、离子溅射:氩气充入已被低真空泵抽真空的样品室里。多次充入氩气,使不需要的气体排出,特别是水蒸汽。这样,样品室内充满了尽可能多的纯的氩气。然后调节样品室内工作压力为0.05-0.1mbar,这样就可以开始溅射了。 开始溅射时,在靶(阴极)加上高压,在靶和样品台(阳极)之间产生了一个高压区。空间内的自由电子在磁场作用下进入旋转轨道,与空间内的氩原子碰撞。每次碰撞把氩原子外层中的一个电子撞出,使中性的氩原子带正电。这个雪崩效应激发了辉光放电。 带正电的氩离子被阴极吸引撞向阴极靶,撞出阴极靶上的金属原子。释放的金属原子之间以及金属原子与真空室内的其它气体分子之间的碰撞使金属原子四处发散,形成雾状。这样金属原子从各个方向撞击样品表面然后均匀地凝聚在样品表面,在即使是非常多裂缝的样品表面也能覆盖一层均匀的、有足够导电性的金属薄膜。 由于金和银原子表面的高度扩散性,它们容易在样品表面形成岛状,这样,除非金属镀层有10nm厚,否则达不到所需导电性。白金能产生最细腻的镀层。 溅射镀层的细腻程度取决于靶材、工作距离、气体压力和溅射电流以及反应持续时间3、磁控溅射:电子枪发射的电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。4、等离子切割机:等离子切割是利用高温等离子电弧的热量使工件切口处的金属  等离子切割机标准图片部份局熔化(和蒸发),并借高速等离子的动量排除熔融金属以形成切口的一种加工方法。等离子切割机配合不同的工作气体可以切割各种氧气切割难以切割的金属,尤其是对于有色金属(不锈钢、铝、铜、钛、镍)切割效果更佳;其主要优点在于切割厚度不大的金属的时候,等离子切割速度快,尤其在切割普通碳素钢薄板时,速度可达氧切割法的5~6倍、切割面光洁、热变形小、几乎没有热影响区。

多功能等离子体处理系统相关的耗材

  • 微波等离子体源
    微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器,可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气,氦气,确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用,广泛的操作范围内的气体流量和微波功率,以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能,成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术,广泛用于科学研究和工业应用,是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛,主要用于那些质量,生产力,环境的可持续性,精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析(如有机汞,铅,锡化合物) 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm(1.50米电缆接头) 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm (高x宽x深) 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗<200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求,提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W(可选)气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线
  • 激光诱导等离子体光谱仪配件
    激光诱导等离子体光谱仪配件是一款欧洲进口的高度安全的激光诱导等离子体光谱仪,采用高度模块化设计,专业为样品分析而研发,是实验室科研和现场检测的理想工具。广泛用于材料分析,元素检测,工业检测,安全检测,反恐和国防等领域。孚光精仪还有更多激光仪可供选择,欢迎前来咨询。激光诱导击穿光谱仪配件特点安全型模块化设计具有世界上最为安全的配置,这套仪器对操作人员的危害几乎为零。特别对于样品室使用防激光辐射的高档光学窗口玻璃,不仅可以让您观看样品的测量,同时又保证您的安全。具有高度的使用灵活性,您可以手持着它进行测量,也可以放置到样品室上测量。中国最大的进口精密光学器件和科学仪器供应商!激光诱导等离子体光谱仪配件特色* 高度模块化和多功能设计,适合实验室和现场多种应用;* 高效率的等离子体采集光学,可配备6通道或8通道光谱采集系统;* 具有多种激光器选项,50mJ@1064nm, 355nm, 266nm, 100mJ@1064nm,355nm,266nm, 还有更多激光器供选择 * 可配备样品室(具有I级激光安全标准)或不配备样品室直接测量(IV级激光安全) * 激光头和样品方室可以多向安装工作;* 具有其他清洗功能(与外界气源连接,可供氩,氮,氦,空气等气体);* 可安装高达8个光谱仪模块覆盖185-1000nm * 激光器电源小型化,非常方便拆卸,搬运;* 软件两年免费升级。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商,产品技术和性能保持全球领先,拥有包括光谱仪,激光诱导等离子体光谱仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类,世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系,确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库,可在下单后12小时内从国外直接空运发货,我们位于天津保税区的进口公司众邦企业(天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于激光诱导等离子体光谱仪参数,光谱仪价格等诸多信息,孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来,了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取!
  • 微波等离子体清洗器配件
    微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机,采用微波能量生产等离子体,在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时,微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体,这种等离子流经污染表面与之发生反应,污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同,这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能,具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品,可以获得更高的气压,更高的功率和更高的温度,当然,您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高,安全而易于使用,而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾,不排放有毒有害的溶解物或气体,不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器,这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长,第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’,第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度,这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置:1.水循环浴;2.双气真空流动控制器:可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件,它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出,两个流量(0-5SCFM)计,两个压力计(0-60帕),一个真空压力计(0-30’’Hg)和一个开关;3.离子阱:该离子阱用于保护易损伤材料,如:激光二极管发光面,光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子,从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。
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