飞纳台式场发射扫描电镜

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飞纳台式场发射扫描电镜相关的厂商

  • 欧波同集团成立于2003年,是一家材料分析数字化解决方案服务商。旗下拥有科学仪器、智慧实验室、第三方检测、技术服务等业务板块。欧波同坚持“让实验更简单”的发展主线,充分掌握计算机视觉和图像识别技术,实现AI技术和工业分析技术的跨界融合,帮助中国企业在世界级竞争中取得成功。为世界材料分析贡献中国力量!SEM扫描电子显微镜、双束聚焦离子束显微镜、赛默飞扫描电镜、场发射扫描电镜、聚焦离子束电镜、赛默飞双束电镜、台式扫描电镜、FEI扫描电镜、FIB扫描电镜、FIB双束电镜、TEM透射电镜、球差电镜、工业三维扫描仪、氩离子抛光测试及制样设备中国区授权代理商,旗下拥有国际贸易、行业解决方案研发、第三方技术服务、融资租赁等业务板块。
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  • 复纳科学仪器(上海)有限公司,2012 年创立于上海,为高校,企业和研究所提供台式扫描电镜,及与台式扫描电镜相关的技术支持和测试服务。复纳科学仪器(上海)有限公司成立以来,一直专注显微技术,致力于实现扫描电镜平民化。飞纳电镜——复纳科学仪器(上海)有限公司为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训,在上海、北京、广州、成都设立了测试中心和售后服务中心,目前飞纳电镜在中国已经拥有超过 2000 名用户。2017 年起,复纳科技与荷兰 Sioux 集团(ASML 光刻机研发供应商)合作开发基于分析仪器的数字化应用解决方案;2018 年,复纳科技引入并组建以 VSParticle 纳米粒子发生器、ForgeNano 原子层沉积系统(美国)为主要产品的纳米部门。复纳又陆续引进海外优质高科技设备:Technoorg Linda 离子研磨仪、DENSsolutions 原位透射样品杆、NEOSCAN 台式显微 CT 到中国,旨在提高分析结果准确性,提升仪器使用效率,节省人力成本。
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  • 400-860-5168转0805
    北京博远微纳科技有限公司(Vision Precision Instruments)又名北京意力博通技术发展有限公司 创立于2002年,是中国区第一家专注于研发、生产、销售溅射仪及扫描电镜的高新技术企业。公司集溅射仪,镀膜仪,扫描电镜,维护改造四位一体,拥有一支专业的工程师团队,并将溅射仪、镀膜仪系列产品的质量和性能提高到国际一流的水准。秉着为客户创造价值为核心理念,把客户的需求作为我们研发的起点。在过去的10多年间,博远微纳单在中国区已销售、服务超过1000位商业客户,累积销售近千台溅射仪、镀膜仪和扫描电镜等配套服务。 自主开发或合作开发的产品有: 1、小型离子溅射仪(喷金仪) 2、热蒸发镀膜机 3、扫描电子显微镜图像系统改造 4、扫描电声显微镜 5、溅射蒸碳仪 主要提供以下服务: 生产研发溅射仪,蒸碳仪。 维修或改造所有类型任何品牌的扫描电子显微镜(SEM)、数字图像和Si(Li)探测器。提供国产化能谱仪及改造X射线能谱仪等。
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飞纳台式场发射扫描电镜相关的仪器

  • 日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面,向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司(以下简称:日立高新)8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000",搭载了全新的用户界面和"EM Wizard",无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升,以及用户群体的不断扩大,使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且,由于观察对象的样品的不断多样化,对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求,通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升,对于用户来说,再也不用去讨论该用什么条件进行观察,只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外,使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件,按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说,它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来;对使用经验丰富的客户来说,开放了丰富的可设置选项,会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度,更使视野再现性得到大大提高。并且,为了能适应各种分析的需求,最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等,都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis",9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014",9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*:肖特基式场发射电子显微镜:高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV(*1)、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式(*2)放大倍率底片倍率:10~600000倍、显示倍率:18~1000000倍5轴马达台X:0~100mm、Y:0~50mm、Z:3~65mm、T:-20~90°、R:360° *1:减速模式是选配项 *2:低真空模式是选配项 2014年,日立高新技术公司(以下简称:日立高新) 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。
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  • Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统,实现灰色区域解析,让您不再忧心显微镜性能,更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能,即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上,进一步优化了超高分辨成像能力,并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign(智能对中)技术,不再需要用户手动进行调整操作,而且,FLASH(闪调)自动执行精细调节工作,只需移动鼠标几次,就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外,Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM,长工作距离不再意味着低分辨成像,有了Apreo 2 SEM,任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能,适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料; 极佳的灵活性非常灵活的处理范围,样品类型广泛,包括绝缘体、敏感材料和磁性样品,收集最重要的数据; SmartAlign技术使用SmartAlign(智能对中)技术,实现光学系统自动调整,减少维护时间; 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH(闪调)技术; 实时定量EDS元素信息触手可及,利用ColorSEM技术,提供实时元素面分布成像定量分析,结果获取更加快速、简便; 长工作距离唯一在长工作距离(10 mm)具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率: 型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm 0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V 1.2nm0.8nm加速电压范围:200 V ~ 30 kV 着陆电压范围:200 eV ~ 30 keV探针电流范围:1 pA ~ 50 nA,连续可调(可选配400 nA)最大水平视场宽度:10 mm WD时为3 mm(相当于最低放大倍率29倍)X-Ray工作距离:10 mm,EDS检出角35°样品室:从左至右为 340 mm 宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3 个(其中2个处于180° 对角位置)样品台:五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o (连续旋转)多用途SEM样品安装载物台,可同时放置 18 个标准样品座(φ12 mm)最大样品尺寸,直径122 mm,可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度,到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统:样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3(选配)样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器(选配)可伸缩透镜下背散射探测器(选配)控制系统: 操作系统:Windows 10图像显示:24寸LCD显示器,最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI,可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能
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  • Quattro-环境扫描场发射电镜Quattro SEM为具有独特环境真空功能的极灵活、多功能高分辨率扫描电镜,可以将成像和分析全面性能与环境模式(ESEM)相结合,使得样品研究得以在自然状态下进行。Quattro的场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示,使得单次扫描即可获得样品信息,从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统极具灵活性,可以容纳最广泛的样品类型,无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下,均可获得可靠的分析结果。Quattro独特的硬件有用户向导支持,不仅可以指导操作者,还可以直接进行交换,轻松缩短结果获取时间。金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料陶瓷、复合材料、塑料薄膜/涂层地质样品断面、矿物软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料颗粒、多孔材料、纤维水合/脱水/湿润/接触角分析结晶/相变氧化/催化材料生成拉伸(伴随加热或冷却)产品参数发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率:型号Quattro CQuattro S高真空30 kV(STEM)0.8 nm30 kV(SE)1.0 nm1 kV(SE)3.0 nm高真空下减速模式1 kV(BD+BSED)3.0 nm1 kV(BD+ICD)2.1 nm200 V(BD+ICD)3.1 nm低真空30 kV(SE)1.3 nm3 kV(SE)3.0 nm30 kV(BSE)2.5 nm环境扫描模式30 kV(SE)1.3 nm 放大倍率:6 ~ 2,500,000×加速电压范围:200 V ~ 30 kV 着陆电压:20 eV~30 keV,电子束减速可选探针电流范围:1 pA ~ 200 nA,连续可调X-Ray工作距离:10 mm,EDS检出角35°样品室:从左至右为340 mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置),通用9针电气接口样品台和样品:型号Quattro CQuattro S类型优中心测角台,5轴电动X Y轴55×55 mm110×110 mm重复精度3.0 μm(0°倾斜时)电动Z轴65 mm旋转N×360°,连续倾斜-15°/+90°最大样品高度与优中心点(10 mm)间隔85 mm最大样品重量0°倾斜时,最大为5 kg最大样品尺寸可沿X、Y轴完全旋转时的直径为122 mm探测器系统: 同步检测多达四种信号,包括 样品室高真空二次电子探测器ETD 低真空二次电子探测器LVD气体SED(GSED,用于环境扫描模式)样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度) 样品导航彩色光学相机Nav-Cam™ 珀尔帖台集成式STEM,用于观察湿薄样品- WetSTEM™ 控制系统: 操作系统:64位GUI(Windows 7)、键盘、光学鼠标 图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200定制化的图像用户界面,可同时激活多达四个视图导航蒙太奇 软件支持Undo和Redo功能可选Joystick操纵杆 可选多功能控制板
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飞纳台式场发射扫描电镜相关的资讯

  • Webinar 回放|Phenom Pharos G2 台式场发射扫描电镜
    科研工作者或工艺开发人员如果想发现新的应用,开发新材料或创造更高质量的产品,提高产品性能,往往需要在极高放大倍数下,观察材料清晰的微观形貌。然而光学显微镜和传统钨灯丝扫描电镜无法提供高分辨率的成像,这时,就需要应用场发射扫描电镜(FEG - SEM)。 场发射灯丝可以提供稳定、高亮度电子束,因此纳米颗粒的形貌、薄膜中的极微小的缺陷、绝缘材料或对高能量电子束敏感的材料,只有通过使用场发射扫描电镜才能得到良好的表征效果。 铜钾晶体 众所周知,落地式场发射扫描电镜体积大,通常需要一个专门的房间以及磁场、震动屏蔽设备,同时操作也较为复杂。因此,许多拥有落地式场发射电镜的单位会限制设备使用,只允许受过高阶培训的人员操作。许多研究小组、部门或公司会将场发射扫描电镜的测试需求外包给第三方实验室或测试中心,以避免在 FEG-SEM 的管理和使用中出现问题。 现在,这种顾虑已经消失了。Phenom Pharos G2 是全球唯一的台式场发射扫描电镜。它非常容易安装和操作,可以使研究小组、部门或公司拥有自己的 FEG-SEM,不再依赖外部测试服务。 Phenom Pharos G2 对占地面积要求较小,只需一张承重 150kg 的桌子,不仅节省空间,同时也不需要配备其他附加设备。 光学显微镜具备可变焦、明暗场成像功能,在整个 SEM拍摄过程中辅助我们导航和定位需要观察的特征位置。一键式进入 SEM,全自动送样,抽真空,开高压,自动对焦,全程仅需 30 秒,即可快速得到高清图像,轻松获得所需要的放大倍数。 Phenom Pharos G2 台式场发射扫描电镜作为一款高效且易于使用的桌面式扫描电镜,为各种材料提供高分辨率成像,也可以对各类电子束敏感样品进行成像,将研究领域扩大到药物、聚合物和有机材料等。 与其他扫描电镜相比,场发射电镜在低加速电压下仍具有较好性能,无需对样品进行特殊处理,就可直接对绝缘材料和电子束敏感材料进行成像,同时不会损坏样品,不会掩盖纳米级特征。 Phenom Pharos G2 的电子束能量范围大,利用低电压能够对电子束敏感的样品成像。例如,用于水净化的沸石,常用药片或胶囊的药物粉末,以及以尼龙、聚酯、氨纶和芳纶为原料的聚合物纤维。对于这些样品,如果使用高能量的电子束进行成像,样品会受到明显损伤,所以需要使用低能量电子束进行成像。 沸石 聚合物纤维 药物粉末 Webinar 回放 Phenom 台式扫描电镜重新定义了速度、简易性和优异性能的完美统一。所有 Phenom 台式扫描电镜都支持选配 X 射线能谱仪(EDS),且元素分析与扫描电镜有机结合到一起,形成统一、用户友好的软件操作界面,任何操作者都能在几分钟内获得 SEM 图像和元素分析结果。简单、易操作的飞纳电镜是材料科学者的理想选择,不同研究背景的人员都能获得想要的测试结果。
  • 国产扫描电镜再添里程碑!泽攸科技发布台式场发射扫描电镜:引领复杂工况下高分辨形貌解析
    在全球科技竞争日益激烈的今天,中国科技企业正在以令人瞩目的速度崛起。近日,高端精密仪器公司泽攸科技再次向世界展示了中国的创新实力,推出了完全自主研发的尖端产品:ZEM Ultra场发射台式扫描电镜,标志着国产精密仪器在高端科研设备领域的重大突破。ZEM Ultra场发射台式扫描电镜是泽攸科技的王牌产品之一,其卓越性能堪比实验室级设备,却以台式机的便携性赢得市场青睐。作为国产首家场发射台式扫描电镜,它配备了高亮度肖特基场发射电子源,能够轻松获取2纳米分辨率的图像。ZEM Ultra对安装环境的要求相对较低,不挑楼层,对环境震动、磁场强度、温度湿度等没有特别要求。它可以在普通的实验室环境中运行,无需特殊的实验室改造,甚至放在产线旁或移动车厢内。ZEM Ultra的体积通常只有传统落地式扫描电镜的20%左右,占地面积小,对实验室空间要求较低,只需一张实验台即可安装,并且操作方便,学习简单,非专业人士也可快速上手。便捷性高,流水线亦可直接工作ZEM Ultra场发射台扫部分应用据悉,去年6月泽攸科技成为首家被Nature系列期刊全文报道的中国科学仪器公司,引起广泛关注。作为一家专注于原位TEM/SEM解决方案和台式SEM的公司,泽攸科技已经成功将其产品推向国内外市场,并取得了不错的成绩。泽攸科技也陆续推出了台阶仪、PECVD、低温探针台、扫描隧道显微镜等产品。随着这款创新产品的面世,泽攸科技不仅提升了国内科学仪器的自主研发水平,更向世界展示了中国在高端精密仪器领域的创新能力。我们有理由相信,在不久的将来,“中国制造”将在更多的高科技领域成为品质和创新的代名词。
  • 飞纳台式扫描电镜多次应邀在公安刑侦系统内演示
    近日飞纳台式扫描电镜多次应邀在公安刑侦系统内做枪击残留物及火药成分分析演示,取得了良好的效果。下图为一种枪击残留物颗粒,利用飞纳台式扫描电镜既可以观察形貌图像,又可以检测成分:下图为另一个的枪击残留物颗粒的形貌及 EDS 分析效果:通过比对这两个枪击残留物颗粒形态及成分数据可以发现这两个枪击残留物颗粒成分大致相同,应该是来自于同一种子弹的底火生成。飞纳台式扫描电镜进行枪击残留物(GSR)分析的特点:1、台式扫描电镜中唯一可以做枪击残留物分析的科学仪器2、一次可以放置 36 个样品,测样效率高,数据量大准确性更高3、枪击残留物(GSR)检测软件为通用软件,兼容性强,技术成熟4、配合飞纳台式扫描电镜大样品室卓越版 Phenom XL 可以实现全自动分析5、稳定的 CeB6 灯丝,不会在实验过程中发生烧断6、极强的通用性,飞纳台式电镜 XL 本身可以作为扫描电镜使用7、该产品完全符合国际通用标准:ASTM E1588 - 168高准确性:与 FEI 大电镜(配 GSR)识别率重叠 90% 以上飞纳台式扫描电镜的枪击残留物分析将有助于刑侦行业提高检测效率,促进司法公正,构建和谐社会。知识小贴士枪击残留物分析在甄别一个犯罪中是否使用了枪械的过程中发挥着重要的作用。枪击残留物分析技术是基于扫描电子显微镜的使用,它用来扫描样品来发现可疑的枪击残留物颗粒。如果一个可疑的枪击残留颗粒被发现,就可以利用能谱仪来确定颗粒的成分。最常见的搜索标准是铅,锑,和钡的存在。然而,无铅底火(如含有钛、锌)的检测也常被要求。在子弹的发射过程中会产生枪击残留物,这些枪击残留物是如何产生的?这些就要从子弹的构造来看,一般子弹由弹头、药筒、装药、底火四部分组成。如下图所示:手枪击针击发底火后,底火摩擦产生火星开始快速燃烧进而点燃装药,装药开始燃烧,弹壳内压增大,当压力上升到 250~500kg / 平方厘米时,弹头脱离弹壳,挤入线膛,开始起动。弹头在高温、高压气体作用下,迅速向前运动。弹头发射出去的同时,底火燃烧的颗粒会向各个方向扩散开去,落在持枪人的手上,衣服甚至头发上,也可以落在枪击现场附近的人身上。一般子弹的底火中含有原发性爆炸化合物三硝基间苯二酚铅,氧化剂硝酸钡及还原剂锑硫化物,因此枪击残留物颗粒的化学成分是非常有特征性的,一般含有铅,钡和锑等元素,而且不同的子弹所使用的底火都是不同的,甚至相同厂家生产的不同批次的底火也是有区别的,可以通过鉴别枪击残留物的成分来追溯到犯罪嫌疑人所使用的子弹来源进而有助于案件的侦破。

飞纳台式场发射扫描电镜相关的方案

飞纳台式场发射扫描电镜相关的资料

飞纳台式场发射扫描电镜相关的论坛

飞纳台式场发射扫描电镜相关的耗材

  • 扫描电镜专用场发射电子源9215736
    场发射电子源921 5736 ,这个型号的场发射灯丝,适用于原厂H机型。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种,扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点:1、有较高的放大倍数,20-30万倍之间连续可调;2、有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;3、试样制备简单,目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪(EDS)装置,这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 扫描电镜专用场发射电子源9213915
    场发射电子源9213915/9217251,这两个灯丝的外形一样,适用的扫描电镜型号不同,需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种,扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点:1、有较高的放大倍数,20-30万倍之间连续可调;2、有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;3、试样制备简单,目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪(EDS)装置,这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 扫描电镜X射线源
    这款扫描电镜X射线源专门用于电子显微镜设计的X射线源,非常适合扫描电镜的XRF光谱分析,是理想的XRF射线源和X射线荧光光谱仪X射线源。 扫描电镜X射线源具有紧凑的设计和滑动安装功能,允许与样品非常接近。 取向在样品表面的小到大的激发区域产生高“通量”(x射线)。 扫描电镜X射线源?XSEMTM提供500μ至25mm的激发区域。 集成的高压电源最大功率为10瓦(35千伏和0.1毫安,取决于阳极材料)。 紧密耦合提供与传统“台式”或“独立”单元相当的XRF分析结果。扫描电镜X射线源?X SEMTM设计使其不影响电子显微镜的正常工作,包括在同一样品上使用电子束,同时同时收集所有元素。不需要特殊的冷却。 电子束(来自扫描电子显微镜)产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用扫描电镜X射线源?XSEMTM可以轻松识别,量化,甚至生成痕量X射线图,以查看样品中微量元素的元素分布。 应用: 艺术与考古 石油EDXRF 化学 药物应用 涂料和薄膜 塑料,聚合物和橡胶 化妆品 电镀和电镀浴 环境 木材处理应用 食品应用 其他应用 取证 金属和矿石 矿产和矿产品 ?X 规格 阳极类型 端窗传输 目标材料 Ag,Mo&W 加速电压 10-35kV 光束电流 0-100μA 阳极点尺寸 500μm 准直器尺寸 200μm,500μm,1000μm(其他可选) 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 传导冷却,不需要风扇 控制/安全 可变控制kV /μA,X射线开/关按钮,kV /μA显示。 连接到SEM,键控上电开关,集成高压电源,HV-On灯,警示灯
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