超高真空多腔体束蒸镀系统

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超高真空多腔体束蒸镀系统相关的厂商

  • 贰零壹捌科技(天津)有限公司是一家专业从事纳米颗粒与纳米薄膜制备设备以及复杂真空系统设计、开发、制造、销售的高科技公司。创始人曾在德国和美国的高水平大学学习与工作,致力于团簇束流沉积技术和质谱、能谱等复杂真空系统的研究和设备开发。因此,公司以纳米团簇束流技术见长,拥有雄厚的复杂真空系统设计、制造及研发能力。开发完成的纳米团簇束流源及质量选择和沉积系统设备达到了国际先进水平,拥有研究型和生产型两个系列。擅长纳米团簇束流沉积技术在工业应用领域的方案设计、技术服务与产品代工,尤其适合于纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程领域提供系统解决方案。公司采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售,引领世界先进技术。公司拥有良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力,致力于向广大的国内外用户提供性能高、稳定性强、安全可靠的产品。公司配备了优秀的科研人员,为用户提供售前、售后工艺服务与工艺技术支持,包括:设备选型实验、设备考察实验、项目预研与立项、合作攻关、工艺指导、工艺培训等。 广泛应用在光学、半导体、离子束、真空设备、真空机械、科研仪器及相关控制软件。镀膜、沉积设备、超高真空设备、复杂系统联动控制、低维材料制备、石墨烯传感器及系统集成:v v沉积设备:化学(催化)、材料、新材料、电极材料(新能源)(磁控溅射(单靶或多靶)、热型、电子束轰击型) v复杂真空系统:超高真空环境下,材料制备、原位表征、材料转移、集成LEED,角分辨激光光电子能谱(磁瓶和动量谱仪型)、高分辨质谱、医用质谱、各类离子与团簇源(离子源包括高电荷态ECR、中等离子态强流ECR离子源、磁控溅射强流团簇源、整发型团簇源)、不同功能光谱、质谱、电子能谱的多功能系统集成。 v抛光:荷能纳米颗粒超光滑表面抛光 v超高真空系统设计、超高真空系统相关联动系统软件、超高真空腔体与部件的加工、离子光学系统的设计 v真空部件加工
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  • 普发真空技术(上海)有限公司普发真空(Pfeiffer Vacuum)作为全球领先的真空技术解决方案的供应商之一。我们不仅拥有全系列的混合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵, 同时还拥有各种旋片泵,多级罗茨泵,罗茨泵,气体检漏仪,真空计,气体质谱仪等产品以及真空管件、腔体、泵组和高度定制化的真空系统。 从普发1958年发明涡轮分子泵至今, 我们在全球分析仪器、科研、真空镀膜、半导体和尖端工业领域,始终代表着创新的解决方案、高品质、稳定可靠的产品和一流的服务。公司自1890年创立至今百余年,现有3000余名员工,20多家分公司遍布全球,并且在德国、法国、罗马尼亚、韩国、美国等地设有生产制造基地。随着中国综合国力的提升,产业结构升级,以及对节能减排,科研和高精尖制造工艺的强烈需求,对真空技术的需求也在不断的提升。作为德国Pfeiffer Vacuum GmbH的全资子公司,普发真空技术上海有限公司Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于2007年正式入驻中国上海,标志着普发真空在中国的业务已经初具规模,以及公司对中国持续增长的信心。公司现坐落于上海市浦东新区世纪公园附近,并且在江苏无锡建有8000 m2的售后服务和组装工厂。普发真空技术上海有限公司主要负责中国大陆、香港、澳门地区的销售及售后服务工作。公司现在全国各地设有常驻区域销售及现场售后服务工程师。普发真空希望凭借百余年的行业经验,高品质的德国工艺和全球领先的解决方案,帮助中国的顶尖企业、科研机构及合作伙伴共同进步,实现双赢。德国总部中国总部 - 上海中国组装维修中心 - 无锡
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  • 鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积(CVD)系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备(科研型、生产型)、超高真空磁控溅射外延设备(10-8Pa)|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备:PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备:热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台:以内置真空机械手的样品传递室为中心(配4~8个进出口),配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
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超高真空多腔体束蒸镀系统相关的仪器

  • 超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System将光学显微镜或光谱仪模组对接于超高真空系统,可以作为超高真空互联系统的检测节点之一,用于材料和器件在不同制备环节之间对外延的薄膜或者转移沉积的二维材料等样品的质量进行快速无损检测。产品特性和核心技术模块化设计,光学部分相对独立。&bull 包含光学显微镜、激光离焦量传感器、自动调焦和共聚焦耦合光路等等在内的全部光学部分全部集成于一个光学模组之中,作为整体置于超高真空腔体之外,透过视窗玻璃聚焦于真空腔内的样品表面。&bull 不污染真空内环境。&bull 超高真空系统烘烤时可以整体取走,并在烘烤完毕之后方便地定位安装。&bull 可根据用户需求,灵活配置激光器、单色仪、探测器和物镜等光学组件。视窗玻璃厚度像差的补偿校正。&bull 拉曼光谱的高收集效率和分辨率。性能参数:注:上述表格中的激光波长、物镜和单色仪等部件可以根据客户需求调整。测试案例:超高真空长工作距离(120 mm)显微测试
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  • 超高真空多腔体镀膜系统——按照客户要求,加工订制;——一对一专业出图设计;——可配套指定真空机组系统;——耐高温、耐腐蚀;——高质量、高精度;加工工艺,采用真空焊接技术拼装焊接;先进的真空捡漏设备,更加保证产品的质量;我公司采用三维建模软件,按照实际比例建立三维模型,根据客户文字、语言草图等需求描述,专业设计出适合客户所需产品方案(在方案定稿之前所有设计不收取任何费用)。为了生产出最匹配客户需求的产品,需要告知我公司以下几个问题点:1、产品在使用过程中是否有温度产生,高温和低温分别是多少摄氏度,是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求,真空领域腔体常用材质为:碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式,抽真空的方式,抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求,腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能:材质:304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围:-190℃~+1200℃密封方式:氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项:1、真空漏率检测:标准检测漏率:1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测:标准检测压力:8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台超高真空多腔体镀膜系统
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  • 产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌:PLASSYS 型号:MEB 550SL3 产地:欧洲 法国 应用:约瑟夫森结(Al, Nb, NbN, NbTiN) 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中,Josephson结的制备最为关键:需要在非常干净的蒸镀腔里进行,而且需要在不同的角度上蒸镀两次,两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能,同时,蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置:可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜,目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结(量子比特和约瑟夫森结)和量子器件,可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料,请咨询我们! 预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW; 样品台: 。可加载4英寸衬底; 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜, 。倾斜精度和重复性优于0.1°(可升级) 真空泵系统: 。干泵 + 低温泵; 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪: 。频率分辨率10-4Hz或更高; 。速率分辨率10-3nm/s; 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀:氧气气路+MFC 氧化腔体: 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电; 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵;真空度10-8 T 全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学
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超高真空多腔体束蒸镀系统相关的资讯

  • 中科院科研装备研制项目“从超高真空到常压的 表面光谱原位表征系统”顺利验收
    p  5月26日,中国科学院新疆理化技术研究所承担的中科院科研装备研制项目“从超高真空到常压的表面光谱原位表征系统”通过了中科院条件保障与财务局组织的专家验收。/pp  项目负责人邱恒山向专家组详细汇报了项目的实施情况和仪器装备最终所达到的性能指标。测试组专家到现场进行了各项性能指标的实际测试,验收组专家审阅了项目的相关验收材料和经费使用情况。经过测试组专家和验收组专家的综合评议,专家组给予高度评价并一致认为该研制装备的各项性能指标均达到预期目标。/pp  该项目将表面谱学的方法引入到了光催化领域的研究中,通过大量的创新性设计,实现真空腔体本底真空度优于3× 10-10 mbar,高压腔内真空度在10-9 mbar到1000 mbar之间可变并可由质谱原位检测 可传样样品则可以实现加热(1000 K)、冷却(100 K)和测温 通过高压腔与真空红外谱仪的密封连接,装备最终可以实现样品在高压腔内不同气体压力、不同温度和不同光照条件下的真空(偏振)红外谱的原位检测。与会专家一致认为该项目的实施有助于开展气固(光)催化反应机理的系统研究,在分子水平上获得反应的微观信息,是对现有研究方法的重要补充和全新发展。/pp  中科院条财局装备办公室主任张红松、新疆理化所副所长崔旺诚出席会议。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201706/insimg/9309c784-241c-4d39-944f-95765aa8d3d7.jpg" title="W020170531466982123675.jpg"//pp style="text-align: center "从超高真空到常压的表面光谱原位表征系统/ppbr//p
  • 微立体光刻3D打印125GHz倍频器的波导腔体
    太赫兹波是指频率在0.1THz~10THz内的电磁波,它的波长介于30~3000μm,在频谱中的位置处于微波和可见光之间,长波段部分与毫米波重合,短波段部分与红外线重合,在电磁波频谱中占据非常特殊的位置,具有很多特殊的性质:宽带性、互补性、瞬态性、相干性、低能性、投射性。相对于毫米波而言,太赫兹波的频率更高、波长更短,因此具有更高的分辨率、更强的方向性和更大的信息容量,同时器件可以更小;相对于光波而言,太赫兹波具有更强的穿透性,适合于云雾、硝烟等极端恶劣环境。太赫兹频率源是太赫兹技术发展的关键,其性能指标影响着整个太赫兹系统的性能,所以太赫兹频率源的获得至关重要。通过倍频的方式获得的信号源具有高频稳定性好、设备的主振动频率低、工作频段宽的优点,是目前获取太赫兹频率源广泛采取的方案。基于GaAs肖特基二极管的太赫兹倍频器因其高效率、低能量消耗和室温下可适用性,已广泛用于外差接收器中局部振荡器(LO)的可靠信号源。太赫兹倍频器具有广泛的实际应用,包括大气遥感、医学成像甚至高速通信。目前,用于封装太赫兹倍频器的波导腔体通常采用计算机数控(CNC)加工制造,该工艺成熟,可实现高精确度、高精密度和良好表面光洁度,能满足电子元件与波导腔体间严格的尺寸公差要求。近年来,3D打印凭借其小批量快速加工的能力,逐渐被用于加工被动微波器件。但是,兼具大的打印幅面以及高公差控制的打印设备较少,因此鲜少有3D打印制备超过100GHz频段的器件报道。3D打印的倍频器更是未见报道。图1. 125GHz倍频器的剖面图:(a)波导腔体的布局 (b)MMIC的特写图2. 微纳3D打印的波导腔体(左)和放置MMIC的波导通道(右)近日,英国伯明翰大学的Talal Skaik和Yi Wang等首次采用面投影微立体光刻(PμSL)3D打印工艺制备太赫兹倍频器的波导腔体。研究团队使用摩方精密科技有限公司(BMF)的nanoArch S140系统3D打印了波导腔体,打印材料为耐高温树脂(HTL),如图2所示,外形尺寸为30.4 mm×25.5 mm×19.1 mm,打印层厚为20μm以及光学精度为10μm。打印后在异丙醇中清洗,并进行30分钟的紫外线固化,最后在60°C下进行30分钟的热固化。制备的波导腔体通过光学系统检测并未发现缺陷,与MMIC(单片微波集成电路)配合的波导通道测量值为609μm,优于设计的630μm;同时超高光学精度打印保证了严格的尺寸公差,确保波导腔体的两部分能精确配合,避免MMIC电路的损坏。图3. 电镀后波导腔体的表面光洁度图4. 装配后的太赫兹倍频器为促进信号的传递以及减小外界干扰,在波导腔体表面镀上4μm厚的铜和0.1μm厚的金,平均表面光洁度约为1.4μm,如图3和图4所示,电磁仿真结果表明该粗糙度对变频损耗的影响可以忽略不计。图5. 3D打印与传统CNC加工的太赫兹倍频器的性能参数对比实验测试发现,3D打印制备的太赫兹倍频器与传统CNC制备的倍频器性能非常接近,相关性能参数如图5所示。3D打印的太赫兹倍频器在输出频率为126GHz下达到33mW的最大输出功率,在80mW~110mW的输入功率下转换效率约为32%,与传统CNC加工的倍频器具有相近的最大输出功率和转换功率。此研究成果以题为“125 GHz Frequency Doubler using a Waveguide Cavity Produced by Stereolithography”发表在会议期刊《IEEE Transactions on Terahertz Science and Technology 》上。
  • 首台国产KAWAI大腔体HTHP压机成功交付
    9月底,洛克泰克车间门口热闹非常,大卡车,叉车,吊车轰隆隆的忙不停。原来是洛克泰克公司生产的一个重达10吨的1000吨大腔体压机,今天要出发去见它的主人啦~ 那这个设备,为啥要举这么高呢? 跟车间负责人沟通后得知,由于仪器本身太重,输运的大卡车车身较高,同时要保护好厂区地面,所以用吊车是最好的办法,可以一次就把设备放到大卡车承重最好的位置。 原来重量级仪器发货有这么多讲究啊! 负责人还告知,这个仪器是专车专送,专门找的用户当地的公司,一路从车间门口由专业的搬家机构直接送到用户的实验室,客户只需要在实验室指挥放置位置即可 看车牌就知道用户来自于咱们的大北京啦!洛克泰克真是想的周到~那么大家想知道这到底是个什么仪器,怎么这么重呢?现在隆重的介绍它啦:Kawai型大腔体压机 产品介绍:大压机采用Kawai型6-8式二级加压高温高压装置,开放式结构多引线测量更方便。利用碳化钨压砧,可在样品上产生 20Gpa高压, 2000°C高温。 技术优势:带自动控制系统对压力进行监测、控制,通过网络与上位机进行通讯。实际压力值由数字压力传感器测量,传输到控制系统 控制系统分段控制程序,每段分别对压力、时间进行设定,产生用户需要的压力曲线,同时将实际压力和设备状态信息传输到计算机。PLC调节伺服电机,调节实际压力,使其趋近设定压力 在自动控制下,只有伺服电机对压力进行调节,高温高压设备噪声极小,非常适合科研实验室使用,设备稳定性高,维护成本极低湖北洛克泰克是中国领先的高温高压全方案提供商,可以提供从设备到附件,及耗材的完整产品线,且提供全系列的定制解决方案。数年来洛克泰克公司专业研发生产活塞圆筒压机、大腔体压机设备,及其相应耗材,积累了深厚的技术经验,填补了国内市场高温高压设备制造的空白,满足了国内相关科研工作者的需求,也打破了国外设备的垄断局面。高温高压(GPa级)设备,广泛应用于地质、物理、材料、化学等学科研究。

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  • 岛津真空腔体

    岛津液相DGU-20A3真空脱气机真空腔体(228-44485)在哪里可以买到,价格?

  • 【求助】如何控制腔体内的温度和湿度

    对于密封不是很严的(非真空腔体)腔体,整体容积1m3内,如何控制里面的温度和湿度,而且还要保证里面的温度和湿度分布均匀,有什么比较好的方法?另外,谁给详细介绍一下改变湿度的溶液法。谢谢了。[em0805]

  • 开机时真空腔体无法吸紧是怎么回事

    今天清洗离子源后,开机时腔体怎么都无法吸紧,真空无法抽上去,会是前级泵哪个地方漏气了吗?还会有其他原因吗?仪器是安捷伦5975来自一群友的问题

超高真空多腔体束蒸镀系统相关的耗材

  • 质谱仪真空腔体
    质谱仪核心部件高真空腔体,材料选用6060-T6,通过五轴一体加工成型,再结合精密的抛光和表面处理工艺,综合公差保证0.01以内,不仅可以保证长期保压状态下的真空度,而且可以满足在设备里长期使用的稳定性。支持不同规格及不同材质的定制。
  • 安捷伦 收集极腔体G1531-20740
    FID维修部件部件号 :G1531-20740收集极腔体
  • 安捷伦 6890气相色谱 19256-60510 PMT 腔体组件
    维修部件部件号 :19256-60510PMT 腔体组件FPD 光电倍增管(PMT) 和固定架组件说明部件号收集极后盖G1535-80520加热器/传感器组件G1535-60610传输管线支架19256-00320固定架/支架G1535-00010硫滤光片,7890 和较新型号的6890* 1000-1437硫滤光片,蓝色,早期型号6890* 19256-80000磷滤光片19256-80010滤光片垫片,仅与火焰光度检测器硫滤光片配合使用(部件号1000-1437) 19256-20910PMT 腔体组件19256-60510双FPD 排放管,前G1535-00030
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