镀膜仪

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镀膜仪相关的厂商

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  • 吉林省一博商贸有限公司是一家集研发、销售、服务为一体的技术型企业,从事激光器、光学平台、位移台、光源、太阳光模拟器、太阳能光谱响应测试系统、光学镀膜产品及光电检测仪器研发,并提供系统的方案设计。激光器系列产品紫外、蓝紫光、蓝光、绿光、黄光、红光到红外各种功率,形成的多种半导体及全固态激光器的连续、脉冲系列产品。光学镀膜产品涵盖紫外、可见及红外滤光片。我公司另有自主研发的半导体激光器综合参数测试仪、激光器光谱测试仪、激光光束分析仪、激光功率计等光电测试仪器。
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  • 公司20年来一直专注于真空镀膜设备、真空冶金设备(真空炉)研发、制造及镀膜工艺的改进创新,集膜层研究、真空镀膜设备、真空冶金设备研发、制造、销售、服务于一体的综合性高科技公司。 负责人24h直线:13600179826(请联系我★★★★★)座机:0755-84050018传真:0755-84293642网站:www.huichyj.icoc.cc 公司担任中国真空学会理事单位、中国真空学会咨询工作委员会单位、深圳真空学会理事单位、真空学报编委单位、<真空>杂志编委单位等社会职务,中国真空学会咨询工作委员会设在我公司。 公司与北京有色金属研究总院、东北大学等科研机构进行长期密切的技术合作。 公司拥有一支高效、精良的技术力量队伍,开发能力强大,采用CAD三维立体设计系统进行产品开发,使产品的研发工作快速、高效、品质优良。以膜层研究指导镀膜设备的开发,使产品技术性能上始终保持着领先地位。 公司镀膜设备研发中心具备各种类型装饰膜层及功能膜层应用领域的研发能力,研究中心拥有膜层应用领域专用实验设备及各种膜层技术性能参数检测设备, 公司建立了一套完善的膜层技术性能参数检测企业标准,是国内真空镀膜行业首家具有自己膜层检测标准的企业。是国内首家工艺全包的真空镀膜设备制造基地,并对外承接各种类型膜层技术性能参数检测业务。 公司服务方式为交钥匙工程:包括膜层研究、设备研发设计、制造、安装、调试、试生产、人员培训。公司拥有完善的售后服务网络及经验丰富的售后服务人员,全方位为客户解决真空设备及工艺的各种疑难问题。 公司拥有独立完善的研发体系及生产制造体系,从膜层及镀膜设备研发、方案设计、零件制造到设备的总装、调试,全部由公司自行完成。生产的每一个环节均受到公司质量管理系统的全面监控。 公司主要产品: * 电阻蒸发真空镀膜设备系列 * 电子束蒸发真空镀膜设备系列 * 磁控溅射真空镀膜设备系列 * 多弧离子真空镀膜设备系列 * 多功能真空镀膜设备系列 * 各种类型膜层技术性能参数检测 * 真空熔炼炉系列 *卷绕式连续镀膜设备 * 真空热处理炉系列 * 真空钎焊炉系列 * 真空蒸馏炉系列 * 真空镀膜材料及真空配件 * 真空排污系统 *真空烧结炉系列
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镀膜仪相关的仪器

  • 产品简介: GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转,使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元,一个钨舟,一个钨丝篮;钨舟中可以放粉末状的薄膜材料,钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面,TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点,触屏操作,实现全图形化界面,易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备,真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地2、工作台:落地式,占地面积2m2以上3、通风装置:需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构,将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计,体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构,可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源,适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源,并具有恒流输出功能,对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪,在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘,便于用户分析控制(选配)。 6、本机将所有功能设计成标准化模块,根据用户不同的需求对相应模块进行组合,以达到优化的镀膜环境,并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面,触屏操作,实现全图形化界面,易用易懂。技术参数 1、电源:AC220V 1500W 2、蒸发电源功率:1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离:44mm 4、样品台:?120mm(可旋转) 5、膜厚测量精度:0.1?或0.01?(可选配高精度型) 6、外接真空机组:扩散泵机组(可选配国产110机组或进口机组)(不建议使用扩散泵) 7、极限真空度:3.0×10-3torr(扩散泵)、3.0×10-4torr(分子泵)(不建议使用扩散泵) 8、工作真空度:5.0×10-3torr 9、真空接口:KF40 10、使用环境:温度35℃,湿度75%(相对湿度)不结露,海拔1500m产品规格 尺寸:440mm×240mm×260mm(不包括真空机组);重量:约47kg(不包括真空泵)
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  • 多功能镀膜仪 400-860-5168转6180
    GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件,即可实现磁控溅射各种金属膜,也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存,工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可,无需更换组件,操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件,即可实现磁控溅射各种金属膜,也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存,工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可,无需更换组件,操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板,在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件,防止蒸发源收到污染,反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换,每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作
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  • 产品简介: GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟,每个加热舟都可独立进行蒸镀,加热舟上方有一个可旋转挡板,当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住,以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极,在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化,进而损坏电极。该机采用金属腔室,具有极高的真空度,真空度可达到5.0×10-7torr,样品台可对样品进行加热,加热温度为室温-500℃,是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地3、工作台:落地式,占地面积2m2以上。4、通风装置:需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器,操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀(直接与前级机械泵相连,提高效率)、1个CF150闸板阀(直接与分子泵相连)、1个KF16法兰(安装电阻规)、6个CF35法兰(1个安装电离规,1个安装2芯电极,1个安装膜厚仪)3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极,可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪,膜厚测量分辨率(铝)为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入:单相AC220V,50Hz/60Hz,功率2.16KW(不含真空泵)2、蒸发输出:电压AC 0-8V连续可调,极限蒸发电流200A,极限蒸发功率1.6KW3、真空腔:?300mm(内径)×400mm,不锈钢,内壁经电抛光处理4、观察窗:?100mm,采用密封圈密封5、真空泵:高抽速涡轮分子泵,抽速600L/s6、真空度:8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率:6.7×10-8PaL/S9、样品台:φ12010、蒸发舟与样品台间距:150-210mm11、冷却水需量:15L/min产品规格尺寸:900mm×1100mm×1800mm;重量:230kg
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镀膜仪相关的资讯

  • 总投资5.48亿元!光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目竣工
    近日,光驰半导体技术(上海)有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。宝山高新区消息显示,原子层镀膜与刻蚀设备项目位于宝山高新区07-17地块,总投资5.48亿元,占地面积50亩,总建筑面积6.44万㎡,其中一期建筑面积约3.8万㎡,涵盖标准厂房、研发办公楼等。项目主要致力新型电子元器件及设备制造,利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合,实现电子专用设备制造产业化、规模化。光驰半导体技术(上海)有限公司,作为光驰科技(上海)有限公司全资子公司。光驰科技自2000年入驻宝山高新区南部园区。2022年,光驰科技将传统光学与半导体技术融合,于北部园区投资设立光驰半导体,进一步提升制造空间与产能,开辟光学元器件向半导体集成光学转变的新市场。项目预计达产后年产能将达到高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机。2023年4月10日,光驰半导体技术(上海)有限公司半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目一期正式封顶。
  • 光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目落地上海宝山,计划今年8月开工
    近日,光驰半导体技术(上海)有限公司(以下简称 “光驰半导体”)成功摘得宝山高新技术产业园区的BSPO-1801单元07-17标准地33357.6平方米(合计50亩)工业用地,并与上海市宝山区规划和自然资源局签订土地使用权出让合同,光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目在园区实质落地。图片来源:上海宝山据上海宝山消息,光驰半导体项目未来将以半导体前沿ALD(原子层镀膜)技术与刻蚀技术为依据,以持续技术创新和市场开拓为导向,在半导体制造与器件领域实现技术的应用与扩大销售。项目计划2022年8月开工,预计2023年10月竣工。光驰半导体是光驰科技(上海)有限公司的全资子公司,据该公司官网信息,光驰科技(上海)有限公司是株式会社光驰(OPTORUN CO.,LTD)投资成立,以高精度镀膜机的设计与制造为基础的外资独资型企业,生产用于光通信设备、导光系统中制备各种光学部件的增透膜;各类型滤光片的高精度镀膜设备;工艺的研究和开发;相关设备的维修及售后服务。
  • 新品推荐---日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7
    东方德菲公司作为日本株式会社SDI的中国指定代理商,特为研究溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料的各高校和研究院所实验室推荐我公司新代理的设备---日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7,此款设备是日本原装、实验室专用、高端台式浸渍提拉镀膜仪,是日本最热销的超低速浸渍镀膜(浸涂)的浸渍提拉镀膜仪,速度可変范围1nm/sec到60mm/sec。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7的主要特点:1. 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位:1nm)进行浸渍镀膜。2. 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。3. 采用触控面板操作,可控16级变速程序、可控变速范围(变速单位:lnm/sec)、往复运转、存储8个运转模式。4. 日语、英语显示可以一键式切换。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7的技术参数:行程:150mm(最大800mm) 最小速度(Min):1nm/s 最大速度(Max):60mm/s 操作方法:触控面板 画面文字:英语/日语 处理速度指定级数:16级 停止位置指定个数:16个 停止时间指定数量:16个 连续运行模式:有 手动运行模式:有 运转模式存储数量:8个运转模式电机功能(当前速度):有电机功能(当前位置):有电机功能(运行剩余时间):有重复运行:有标准夹具:聚丙烯(PP)材质电源:AC100V、250VA最大搬运重量:1kg最大处理尺寸(mm): 150mm(H)直线运行模式:无备注:※连续运行模式是指:改变速度时,停止时间为“Osec”。※手动运行模式是指:以设定的一个速度上升/下降运行(上升速度和下降速度分开设定)

镀膜仪相关的方案

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镀膜仪相关的论坛

  • 国产镀膜仪

    哪位大神能推荐一些比较好的国产镀膜仪啊??急求·~~

  • 【原创】选择镀膜仪器

    不同的扫描电镜对镀膜仪器的要求是不是有选择?选择镀的导电膜材料是不是也有所区别?求教!!!

  • 【讨论】镀膜产品峰位

    曾经遇到这样一件事情,一个镀膜的硅片(好像是硅片,记不太清了),放在红外上测试其峰位,比如说是在900波数,再过一个月在测试时发现同一个峰位发生了移动,大约在1000波数,记得当时去学校找一位教授,教授说这个很正常,原因是比如基体等,有没有版友是做镀膜相关的?给详细的解释解释。谢谢

镀膜仪相关的耗材

  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 镀膜产品
    我公司向广大用户提供OPTOLITA公司生产的品牌为EKSMA的镀膜产品,可提供多种形式的镀膜,包括高反、高透、激光线、波带、多层镀膜等。质量好,精度高。特别适用于研究应用。
  • 无镀膜光学基底
    镀膜光学基底镀膜光学基底通过降低光楔,最大限度减少发射光束的角度偏差和对准误差。 表面质量高,波前失真小,适用于消色差束采样等。圆形基板的楔形10 arc sec,矩形或矩形基板的楔形 arc min低楔形选项:30±5arc min镀膜光学基底大楔形选项:1°或3。镜片材料:FS和BK-7。传播波前误差:λ/10@633nm,表面质量10-5。通光孔径大于85%,光楔30±5arc min。基底、尺寸和镀膜均支持定制。
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