电镀溶液中过氧化氢的测定 应用资料 在样品中加入纯水和硫酸(1+1)后，用0.02mol/L高锰酸钾滴定溶液至终点，测量电镀溶液中的过氧化氢含量。终点是滴定曲线上的最大拐点。过氧化氢浓度由高锰酸钾滴定溶液的滴定体积计算得出。

电位滴定法测定过氧化氢(双氧水)的含量 使用日本京都电子公司(KEM)-自动电位滴定仪(AT-510)，测定过氧化氢(双氧水)含量的应用资料。

Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够在单次色谱分析中使用多种调谐条件，从而可对每种分析物采用最佳采集设置。这使得 GC-ICP-MS/MS 在测定羰基镍和羰基铁时可实现出色的检测限，羰基镍和羰基铁是一氧化碳中最难分析的两种典型污染物。获得的检测限为 70–80 ppt，与 GC-ECD 检测相当，并且远低于各行业目前所要求的检测限。此外，ICP-MS/MS 的多元素分析能力可确保其他金属羰基化合物也可采用此方法实现成功测量，包括Co2(CO)8、Cr(CO)6、Mo(CO)6 和 Fe2(CO)9。 通过标准 ICP 雾化室的第二进样口将气相色谱连接至 ICP-MS/MS，以便能够同时吸取标准溶液。由于羰基化合物通常缺少气体标样，因此此方法对于羰基物化合物的定量测定至关重要。同时吸取标准溶液还可提供充足的氧气，防止一氧化碳在炬管或锥上形成碳积聚，从而无需再额外添加氧气。

H2O2溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析 H2O2溶液中的有机物含量极为困难。此外，H2O2溶液中的有机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被完全氧化。要想对H2O2溶液进行准确而稳健的总有机碳分析，就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。 Sievers InnovOx ES实验室型分析仪能够准确地、精确地测量30％的浓缩H2O2溶液中的各种TOC浓度。在整个测量过程中，分析仪器表现出很好的稳定性，并且耐受H2O2基体，在规定的维护周期内没有发生降解。