冲洗水中总有机碳检测方案(TOC分析仪)

智能文字提取功能测试中

SUe2水务技术与方案应用文献 清洁验证的在线 TOC 方法：应用FPAT 原理，增强自动化程度、真正质量控制且减少成本 Sievers* 500 RL在线TOC分析仪用于在线清洁验证 由于复杂性提高及成本限制，越来越多的药品生产商为其系统和工艺配备自动化。例如，如果由于设备配置、产品或清洗剂的应用，需要复杂的清洗程序，则要求相对耐用的自动系统，以确保全部去除潜在的污染。就地清洗 (Clean-in-place， CIP) 和离线清洗 (Clean-out-place， COP) 系统比手动清洗，显示出更高的可靠性和一致性，并为减少人为错误提供保证。 虽然 CIP 系统自动化将导致资金成本的提高，但运行成本可显著下降。除了日常系统功能，诸如为玻璃清洗机上样或从控制点启动系统运行， CIP 系统可应用到工艺流程中的某些点，除去手动操作行为的风险。 本应用文献提供通用的指导，如何使用 Sievers500 RL 在线 TOC分析仪，监控经过自动 CIP 工艺的注射用水(WFI)或纯化水(PW)步骤。 自动 CIP 工艺概述 制药工艺设备、管道、接头、玻璃器皿和备件的所有自动清洗顺序遵循的工艺流程，从漂洗步骤抽取样品，并按照经验证的分析方法进行分析。该步骤通常包括 TOC、电导率和 pH。如果它们也需要通过公司的正规验证过程的话，则其他试验，如细菌内毒素或微生物限度，也会需要。在漂洗步骤之后，应对设备进行有记录的目视观察以确保设备是清洁的。从低成本且可靠的工艺设备清洗，到提高产品质量， CIP 技术对于生产设备具有显著的优势。CIP系统可包括当前循环和再循环步骤，以便减少运行和废水成本'。 纯化水预漂洗和排放 纯化水预漂洗和排放是生物或活性制药成分(API)生产设备自动清洗工艺的第一步骤。第一步骤主要 去除设备表面上存在的大量污染物或痕量物质。当与设备表面接触之后，通常将漂洗溶液送到排放口，而不是再循环，以防止 CIP系统的污染。鉴于此阶段的目的是去除设备表面的大量残留和痕量物质，在这个阶段，取样测定 TOC、pH 或电导率，没有价值。 纯化水清洗剂的清洗和排放 这个步骤，使用酸性或碱性清洗剂清洗工艺设备。此清洗步骤用于去除此前纯化水(PW)预漂洗时没有清除的物质。此步骤可能在工艺设备表面和相关管道留下的痕量的清洗剂残留。在 带有ioS 的 工艺过程的这一点， 500 RL 在线 TOC分析仪 如果存在清洗剂，电 导率将急剧上升。然后通过停止 CIP 装置的供应，并让待清洗设备达到合适的操作规格，再次冲洗，然后排放。此步骤再循环，也并不少见。 纯化水后漂洗和排放 清洗剂清洗之后，使用PW 来漂洗设备表面，去除清洗剂的痕量残留以及潜在的残留产品或物质。漂洗溶液通常送到排水口，而不进行再循环，以防止 CIP 系统的污染。PW 漂洗液冲洗系统和设备之后，TOC和电导率水平应较低。还是很少在本步骤之后测量 TOC、PH或电导率，因为预计 PW或 WFI 仍然含有残留的清洗剂和其他残留产品。 注射用水漂洗、再循环、测量和排放 末段的WFI 漂洗，包括泵送 WFI 到 CIP 漂洗罐及相关管道，然后到达设备末端。如果可行，该溶液通常进行再循环以监控电导率和 TOC 水平。此工序的WFI 步骤彻底漂洗用于生产环节的相关管道和设备。 此步骤很适合监控 TOC 和电导率，二者都可以通过 Sievers 500 RL 在线 TOC 分析仪进行测量。痕量的清洗剂残留将通过该分析仪的 TOC 和电导率测量进行指示。 为了释放设备用于以后的工艺过程，必须符合所有的验证运行参数，而且 TOC 和电导率结果必须在公司规定的容许值或合格标准[即 TOC< 1 ppm(mg/L)， 电导率<10 ps/cm]之下。 PAT 应用：用于清洁验证?的在线 TOC 分析为减少与清洁验证相关的停机时间，应用过程分析技术 (Process Analytical Technology， PAT)，各公司将 Sievers 500 RL 在线 TOC 分析仪放置在 CIP回流管道，监控清洗过程的步骤，以确保系统的清洁，并且实时放行设备。如何应用 Sievers 500 RL 在线 TOC分析仪获得高质量水平及成本节约? 与其他清洁或冲洗周期相比，通常 WFI 漂洗循环很快速，只持续很短的时间，取决于某些运行参数。同时，某些末段的漂洗循环连续地排放，直到达到一定水平的电导率或体积，因此急剧增大 WFI 水生产和废水处理的成本。这些局限促使各公司在验证的时段内对其末段 WFI 漂洗进行再循环，使得 TOC分析仪可进行取样，并向 PLC/SCADA 系统反馈数据。大多数CIP 系统配有 CIP供液和回流泵，只需要较小水量在整个系统提供正吸，从而为再循环和准备进行的适当分析(例如 TOC、电导率、流量、pH、温度)提供机会。 自动化是在线 TOC 分析的另一要素。在制药行业有众所周知的案例，在其中可自定义 PLC 或 SCADA 控制命令，可从几分钟到几个小时在任一位置保持再循环。有时药品制造厂商利用自动化水平连续地再循环，并在获得一定水平的电导率、pH 或流量后进行保持，以便让仪器进行适当的取样。。一旦样品分析后，即可确认再循环步骤，及完成以后的步骤。 更高的自动化已经内置在 Sievers 500 RL 的设计中，并让仪器与 PLC 或 SCADA 系统进行通讯。当WFI回流到 CIP 平台进行 TOC 和电导率测量时， TOC 分析仪开始分析。 图1.安装于在线清洗验证工艺过程中的Sievers 500 RL 在线 TOC分析仪 Sievers 500 RL 分析仪置于待机模式，直到WFI步骤，这时以监控水的状态。在监测过程中，TOC 分析仪继续与 PLC或 SCADA 系统通讯，提供实时结果。在这一点上， TOC 和电导率分析在整个漂洗步骤中一直进行，直到系统排水前的适当时间。一旦进行测量而且TOC、电导率、流量或时间参数符合漂洗循环的要求， PLC 或 SCADA 系统然后指示TOC分析仪返回待机模式。当符合验证的合格标准后，设备可释放，并在设备的使用记录中正确记载。 现在设备已经清洗并且核准使用，去除了样品污染的机会以及由于“等待实验室结果"状态造成的设备停机。 鼓励对清洗过程、清洗剂和合格限值了解，以确保不会出现由再循环步骤导致的产品或清洗剂残留。 并非所有的在线 TOC 分析仪均相同 虽然清洁验证从实验室 TOC 分析转到在线 TOC 分析的概念不是革命性的，但直到不久前，实际用于实施该变化的可用 TOC 方法都特别难于实施而且很少成功。 即使某些 TOC 分析仪指示可直接测量TOC 并通过了系统适用性，但这些声明与当前的实验室 TOC 方法并没有关联性。此外，直接电导率或差示直接电导率 TOC 方法，当溶液电导率高时(如含氢氧化钠、清洗剂、氯仿等)，容易受到干扰。由于专利的Sievers 膜电导技术， Sievers 500 RL 的在线 TOC方法与清洁验证中当前使用的实验室方法一样好用、可靠和准确。 ( 参考资料 ) ( 1 就地清洗(CIP) 指南， A Gu i de to C lean In P lace (C I P ). 。由 A & B Process Systems 提供的白皮书。 www.abprocess.com。 ) 2在 Sievers 清洁验证支持包中提供在线 TOC 清洁验证文件。关于此工艺的更多信息可访问 www.sieversinstruments.com一行业一制药一清洁验证。 3FDA， 工业 PAT指南创创新制药开发、制造和质量保证的正架， Guidance for Industry PAT-AFramework for Innovative PharmaceuticalDevelopment， Manufacturing， and QualityAssurance 4LeBlanc， Destin. 单独使用漂洗样品的更多内容：清洁验证技术，清洗备忘录(2006年4月)，More onUsing Rinse Sampling Alone： Cleaning ValidationTechnologies， Cleaning Memo. (2006， April)。 ( 5 Godec， Richard.在线 TOC 性能的科学比较(2006年 1 月) ， S cience-Based On-Li n e T OC PerformanceComparison. (2006， January)。 ) ( *苏伊士的商标，在 一 个或多个国家注册。 ) ( (本资料源于 SUEZ) ) 由于复杂性提高及成本限制，越来越多的药品生产商为其系统和工艺配备自动化。例如，如果由于设备配置、产品或清洗剂的应用，需要复杂的清洗程序，则要求相对耐用的自动系统，以确保全部去除潜在的污染。 就地清洗（Clean-in-place，CIP）和离线清洗（Clean-out-place，COP）系统比手动清洗，显示出更高的可靠性和一致性，并为减少人为错误提供保证。 虽然 CIP 系统自动化将导致资金成本的提高，但运行成本可显著下降。除了日常系统功能，诸如为玻璃清洗机上样或从控制点启动系统运行，CIP 系统可应用到工艺流程中的某些点，除去手动操作行为的风险