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★超薄,纳米尺度介电薄膜与金属/金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件,传感器,光学器件或催化剂关键部件★IC业中的高精度30器件, 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔, ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形,平整,无缺陷,无针孔的薄膜材料。★可规模化生产的ALO工艺, 几种金属/金属性材料与介电材料: Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.★沉积工艺可选:传统热ALO或者等离子增强ALD。
关闭广州竞赢科学仪器有限公司为您提供《氮化物及氧化物中超薄膜沉积检测方案(原子层沉积)》,该方案主要用于电子元器件产品中超薄膜沉积检测,参考标准《暂无》,《氮化物及氧化物中超薄膜沉积检测方案(原子层沉积)》用到的仪器有原子层沉积系统。
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