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氮化物及氧化物中超薄膜沉积检测方案(原子层沉积)

检测样品 电子元器件产品

检测项目 超薄膜沉积

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方案详情文

★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件 ★IC业中的高精度30器件， 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。 ★可规模化生产的ALO工艺， 几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203. ★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。

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★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件★IC业中的高精度30器件， 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。★可规模化生产的ALO工艺， 几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。

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产品配置单

广州竞赢科学仪器有限公司为您提供《氮化物及氧化物中超薄膜沉积检测方案(原子层沉积)》，该方案主要用于电子元器件产品中超薄膜沉积检测，参考标准《暂无》，《氮化物及氧化物中超薄膜沉积检测方案(原子层沉积)》用到的仪器有原子层沉积系统。

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