电子能谱分析介绍：在电子能谱分析中常用离子刻蚀样品

我补充一点:在离子刻蚀可能改变表面化学性质(经常发生还原反应的效果),以及产生择优溅射效应,以至不能正确反映表面初始状态和组分.

所以在选择离子刻蚀的时候,你要考虑到你样品的性质,一定要刻蚀尽量速度要快.

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我补充一点:在离子刻蚀可能改变表面化学性质(经常发生还原反应的效果),以及产生以至不能正确反映表面初始状态和组分.

斑竹,这是我从一本书上看到的.离子刻蚀可能改变表面化学性质这句话我能理解,在做实验的时候我也观察到了.但是我不明白什么叫择优溅射效应?
您能给予解释吗?谢谢.

可能是有些原子刻蚀掉的多，有些较少

所言即是。刻蚀时间尽量短些。而且选择离子的能量要小。

靶中每种原子的溅射产额不同，有些离子容易被溅射，所以样品经过刻蚀后，样品表面的原子（元素）组分发生了变化。

对。那么所测组分就偏移了原样品的真实组分。

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我补充一点:在离子刻蚀可能改变表面化学性质(经常发生还原反应的效果),以及产生择优溅射效应,以至不能正确反映表面初始状态和组分.

所以在选择离子刻蚀的时候,你要考虑到你样品的性质,一定要刻蚀尽量速度要快.[/quote]
所言即是。刻蚀时间尽量短些。而且选择离子的能量要小。[/quote]

一般来说能量和刻蚀时间选择多少啊?

所言即是。刻蚀时间尽量短些。而且选择离子的能量要小。[/quote]

一般来说能量和刻蚀时间选择多少啊?[/quote]
一般刻蚀约10nm. 条件：2keV/100uAcm^(-2)/1min.