仪器信息网APP
选仪器、听讲座、看资讯

【讨论】替网友发问:选择什么仪器检测光学元件表面金属元素残留

ICP光谱

  • 实验情况简单介绍

    实验目标:测量熔石英材料光学元件表面金属元素残留

    待检元素:
    Ce, Fe, Al, Cu

    元件规格:直径50mm,熔石英材料镜片。


    用氢氟酸和硝酸混合溶液刻蚀,由于期望获得金属元素含量随深度的信息,每刻蚀1um均需测量含量。

    材料一面刻蚀1um材料去除质量:4.35mg

    金属元素在材料中含量数量级:ug/g(在数值上最大几百,随深度递减
    )

    假设最终溶液定容100mL,我的简单估值:

    材料一面刻蚀1um溶液中的金属元素含量数量级范围:1ng/mL~~~0.01ng/mL




    我想请教的问题是:
    1.
    我所调研的ICP-MS方法中这几种元素的检出限大致为0.01ng/mL,在我的实验中我认为应该需要提高待测溶液的金属元素含量浓度(浓缩溶液或者增加材料去除质量),实际检测中所需浓度大致是多少?比检出限高一个数量级(也就是0.1ng/mL)是否够用?

    2.
    硝酸氢氟酸溶液中的杂质可能会对结果造成干扰,杂质浓度需要比待测金属元素浓度低几个数量级?是否还有其他降低干扰的办法?

    3.
    检测过程中对实验室环境洁净度有什么要求?

    我的问题不太专业,请多多包涵。
    +关注 私聊
  • xiaoxun929

    第1楼2011/04/26

    目的是为了测试各个元素随着深度而变化的信息吗?

    那每um的腐蚀深度,你控制的好吗?

    我的建议是:

    用辉光放电光谱仪,他的应用主要是两方面,1,成分分析,2,表面分析。你的应用应该属于后者既表面分析。

    通过离子溅射,纵向剥离基本在1-10nm的精度,基本是逐层分析样品,可以得出各个元素的含量随着深度的变化数据,也可以得出各个层面上每个元素的含量总值。

    damoguyan(damoguyan) 发表:实验情况简单介绍

    实验目标:测量熔石英材料光学元件表面金属元素残留

    待检元素:
    Ce, Fe, Al, Cu

    元件规格:直径50mm,熔石英材料镜片。


    用氢氟酸和硝酸混合溶液刻蚀,由于期望获得金属元素含量随深度的信息,每刻蚀1um均需测量含量。

    材料一面刻蚀1um材料去除质量:4.35mg

    金属元素在材料中含量数量级:ug/g(在数值上最大几百,随深度递减
    )

    假设最终溶液定容100mL,我的简单估值:

    材料一面刻蚀1um溶液中的金属元素含量数量级范围:1ng/mL~~~0.01ng/mL




    我想请教的问题是:
    1.
    我所调研的ICP-MS方法中这几种元素的检出限大致为0.01ng/mL,在我的实验中我认为应该需要提高待测溶液的金属元素含量浓度(浓缩溶液或者增加材料去除质量),实际检测中所需浓度大致是多少?比检出限高一个数量级(也就是0.1ng/mL)是否够用?

    2.
    硝酸氢氟酸溶液中的杂质可能会对结果造成干扰,杂质浓度需要比待测金属元素浓度低几个数量级?是否还有其他降低干扰的办法?

    3.
    检测过程中对实验室环境洁净度有什么要求?

    我的问题不太专业,请多多包涵。

0
    +关注 私聊
  • xiaoxun929

    第2楼2011/04/26


    曾经用辉光分析黄铜镀金,NIP为过渡界面。各元素含量随深度的变化,基本是一目了然了。

0
    +关注 私聊
  • pixies

    第3楼2011/04/26

    的确是想得到随深度的几种金属元素含量信息,但是基底材料是熔石英,可以用辉光分析吗?辉光分析的的精度如何,这个大概在ppm量级。

    xiaoxun929(xiaoxun929) 发表:
    曾经用辉光分析黄铜镀金,NIP为过渡界面。各元素含量随深度的变化,基本是一目了然了。

0
    +关注 私聊
  • pixies

    第4楼2011/04/26

    感谢damoguyan帮我发了个帖!!

0
    +关注 私聊
  • xiaoxun929

    第5楼2011/04/27

    熔石英的成分应该是二氧化硅吧,辉光测试是没有问题的。
    分析的精度,和含量值有关系,含量越高,精度就越好。

    pixies(pixies) 发表:的确是想得到随深度的几种金属元素含量信息,但是基底材料是熔石英,可以用辉光分析吗?辉光分析的的精度如何,这个大概在ppm量级。

0
    +关注 私聊
  • 广结善缘

    第6楼2011/04/27

    实际样品操作肯定有难度

0
    +关注 私聊
  • 光哥

    第7楼2011/05/03

    应助工程师

    对于不能导电的基底,GDMS如何能分析??难道真的要把样品给打碎,镶嵌在In上??

    xiaoxun929(xiaoxun929) 发表:熔石英的成分应该是二氧化硅吧,辉光测试是没有问题的。
    分析的精度,和含量值有关系,含量越高,精度就越好。

0
    +关注 私聊
  • 光哥

    第8楼2011/05/03

    应助工程师

    是不是可以考虑把样品送给IC的晶圆厂,SEMI标准里面有一个就是专门针对硅片表面的金属分析的,可以手工来做,但最好是有专用的机械手来处理,这样分析精度会高很多。

0
    +关注 私聊
  • xiaoxun929

    第9楼2011/05/04

    首先GDS和GDMS是两个不同类型的仪器。

    GDS采用RF光源,可以分析导体和非导体,确实是破坏性的离子溅射,逐层剥蚀样品表面,从而达到分析的目的。

    小光(xsh1234567) 发表:对于不能导电的基底,GDMS如何能分析??难道真的要把样品给打碎,镶嵌在In上??

0
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
举报帖子

执行举报

点赞用户
好友列表
加载中...
正在为您切换请稍后...