ICP光谱
xiaoxun929
第1楼2011/04/26
目的是为了测试各个元素随着深度而变化的信息吗?那每um的腐蚀深度,你控制的好吗?我的建议是:用辉光放电光谱仪,他的应用主要是两方面,1,成分分析,2,表面分析。你的应用应该属于后者既表面分析。通过离子溅射,纵向剥离基本在1-10nm的精度,基本是逐层分析样品,可以得出各个元素的含量随着深度的变化数据,也可以得出各个层面上每个元素的含量总值。
第2楼2011/04/26
曾经用辉光分析黄铜镀金,NIP为过渡界面。各元素含量随深度的变化,基本是一目了然了。
pixies
第3楼2011/04/26
的确是想得到随深度的几种金属元素含量信息,但是基底材料是熔石英,可以用辉光分析吗?辉光分析的的精度如何,这个大概在ppm量级。
第4楼2011/04/26
感谢damoguyan帮我发了个帖!!
第5楼2011/04/27
熔石英的成分应该是二氧化硅吧,辉光测试是没有问题的。分析的精度,和含量值有关系,含量越高,精度就越好。
广结善缘
第6楼2011/04/27
实际样品操作肯定有难度
光哥
第7楼2011/05/03
对于不能导电的基底,GDMS如何能分析??难道真的要把样品给打碎,镶嵌在In上??
第8楼2011/05/03
是不是可以考虑把样品送给IC的晶圆厂,SEMI标准里面有一个就是专门针对硅片表面的金属分析的,可以手工来做,但最好是有专用的机械手来处理,这样分析精度会高很多。
第9楼2011/05/04
首先GDS和GDMS是两个不同类型的仪器。GDS采用RF光源,可以分析导体和非导体,确实是破坏性的离子溅射,逐层剥蚀样品表面,从而达到分析的目的。
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