jhsu9999
第9楼2011/10/25
这里的“喷”泛指真空沉积镀膜。常用的真空沉积镀膜方式分两大类:离子溅射方式和热蒸发方式。按照真空度高低,可分普通真空(仅机械真空泵抽真空)镀膜仪和高真空(机械泵+涡轮分子泵或早期的扩散泵)镀膜仪。在电镜制样行业,喷金仪指的是普通真空的离子溅射镀膜仪,可镀金、铂、钯、银等贵金属导电膜;喷碳仪指的是普通真空的热蒸发镀碳仪,可用碳丝或碳绳镀制碳导电膜,用于EDS样品。喷金仪可加配喷碳附件、喷碳仪可加配溅射附件,以便在同一台仪器实现喷金喷碳两种功能。楼主提及的镀膜仪属于普通真空的离子溅射镀膜仪,如果没有配置喷碳附件的话,是不能实现喷碳功能的。石墨碳靶仅用在带有涡轮泵的高真空离子溅射镀膜仪上才能以“离子溅射”方式镀制碳膜,且镀膜速度很慢;普通真空镀膜仪上只能以“热蒸发”方式用碳丝或碳绳(而不是碳靶)镀制碳导电膜。另外,即使买的是高真空镀膜仪,通常也不用碳靶以“溅射”方式镀膜,而用碳棒以“热蒸发”方式实现镀制TEM载网上的碳支持膜及复形膜等比EDS样品要求更高的碳膜(当然也能镀EDS样品)。以上内容,供您参考。如有疑问,请发送邮件jhsu9999*foxmail.com探讨(请将*换成@)