高纯三氯氢硅中痕量砷的测定方法

楼主其实可以留着参加第五届原创大赛。嘿嘿！

加标回收：四份高纯TCS样品的As总量，与加入的As标准物质总量，这两者的比值大约是多少？

本来想和三氯氢硅水解一文一起参加第四届原创大赛呢，可惜发了水解以后就比较忙，闲下来的时候第四届时间已经过了。我想反正是分享，索性就拿出来发了。

比值嘛，还是要看情况了。一般的原则是标准物元素含量与待测物相近，加入标液量不超过样品的1%。你可以参考一下。
timstoICPMS， 如果是真心问问题的话，语气可以美化一点点吗？要不感觉是领导再问员工哦！

你也可以尝试一下一倍至两倍的加标量，看一下数据分析分析。

我上个回帖，应该没冒犯您吧？看来以后在技术论坛回帖要走淘宝体了：“亲，请问加标回收：四份高纯TCS样品的As总量，与加入的As标准物质总量，这两者的比值大约是多少？”

这两者之比 控制在0.5到2之间—— 我是知道的。因为见识过太多的freshman，100ng 待测物 加1000ng标物 做回收……所以想确认一下你的加标回收实验的可靠性。

应助达人

Plasma: Normal RF: 1600W。

这个功率好象是到了7700的上限了吧，为什么要用到这么高呢。你们的样品基体并不复杂，高纯硅挥发后就基本上没什么东西了；另一方面功率高更有利于Cl的电离。所以这个人觉得没有必要用这么高的功率。

Agilent RF实际上限是2400W，但开放给用户的RF上限只有1600W。
Agilent 工厂推荐 Sample Depth=8mm，RF Power=1550W，Carrier gas + Makeup gas= 1.1-1.2 L/min。楼主基本上是按照工厂参数来做的。

应助达人

学习中，膜拜中！

timstoICPMS(timstoICPMS)
Thanks, 抱歉让你误会了。BBS确实容易让人误会对方。