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【讨论】用ICP-MS检三氯氢硅中元素含量时,有哪位同仁有比较好的前处理的方法吗?

  • panhuanhuan
    2008/09/11
  • 私聊

ICP-MS

  • 如题!!!
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  • kiwi-kids

    第1楼2008/09/18

    好像一般是在氮气环境下挥干然后用硝酸冲洗容器测定。

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  • 风起云飘舞

    第2楼2008/09/28

    不知道楼主是怎么做前处理,没有个例子也就没有比较,谁也不知道谁的比较好,只要能保证在这样的前处理检测结果没太大的偏离就算是比较合理的前处理吧

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  • panhuanhuan

    第3楼2008/10/07

    我也有听说上海计量院有采用这个方法,不知仁兄对这个方法有更详细的资料吗?

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  • panhuanhuan

    第4楼2008/10/07

    你说的这个方法我听说上海计量院有采用。不知道仁兄是否有更为详细的资料呢?

    zhengxxx 发表:好像一般是在氮气环境下挥干然后用硝酸冲洗容器测定。

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  • yyy_pei

    第5楼2008/10/21

    能否提供一些更详细的介绍

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  • benbensh

    第6楼2008/10/22

    有没有人直接水解处理后分析的?谢谢!

    panhuanhuan 发表:你说的这个方法我听说上海计量院有采用。不知道仁兄是否有更为详细的资料呢?

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  • 风起云飘舞

    第7楼2008/10/25

    应该有,听说过,但是不知道有什么危害?水解反应也剧烈,温度也蛮高的呢,有些元素在那样的情况下会不会损失了。没做过验证试验。条件不足。

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  • benbensh

    第8楼2008/10/29

    直接水解有腐蚀性的Hcl气体生成,而且溶液Si高基体,部分元素受到严重干扰。

    大家能说说用过的方法及分析的结果不?谢谢分享!

    zhckj 发表:应该有,听说过,但是不知道有什么危害?水解反应也剧烈,温度也蛮高的呢,有些元素在那样的情况下会不会损失了。没做过验证试验。条件不足。

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  • nps

    第9楼2008/11/04

    条件很难控制,通常情况下挥发不完全,只用硝酸不行,还要用到HF

    zhengxxx 发表:好像一般是在氮气环境下挥干然后用硝酸冲洗容器测定。

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  • kiwi-kids

    第10楼2008/11/10

    水解后高Si基体,检出限做低不容易

    benbensh 发表:直接水解有腐蚀性的Hcl气体生成,而且溶液Si高基体,部分元素受到严重干扰。

    大家能说说用过的方法及分析的结果不?谢谢分享!

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