ICP-MS的锥口效应形成过程

今天看资料，突然看到锥口效应是ICP-MS分析中不可能被完全消除的干扰，想知道ICP-MS分析锥口效应的形成过程，谢谢各位大侠的指点

应助达人

咱没有听过锥口效应。不知道是指锥孔越用越大还是指随着腐蚀锥变薄（特别是Pt截取锥）引起两个锥孔之间的间距变大，从而导致气流场变化引起的效应呢？

他说的应该是 Interface 接口。等离子体焰与采样锥的效应。

是的，请问是如何形成的呢

应助达人

我也等timstoICPMS给我们普及知识。

你把看到的资料 码字贴出来。你看不懂的地方，我可以解释。

知道了，谢谢你的热心帮助。
现在将它贴上来：

这段话很浅显，就是说：锥口会有盐沉积，那么实际进入锥孔的物质就会逐渐减少，即灵敏度漂移。

实践中，我的的做法：
先做 blank-standards 工作曲线，测10个样品（约20分钟）——锥孔沉积从无到有，这期间灵敏度漂移很快。
然后重做 blank-standards 工作曲线，再测20个样品（约40分钟），此时锥口沉积达到平衡状态，condition the cone 完成
继续重复 blank-standards 工作曲线，再测20个样品（约40分钟）

要做那么多次标准曲线啊！我是在样品中间加个标准曲线的中间点观察一下浓度变化。