Rpa与Rpq的工作原理？

应助达人

请问你的仪器是什么型号，哪个厂家的，安捷伦的没有这两个参数啊

应该是PE的仪器

PE ICPMS 主推用“反应模式”消除多原子干扰，会用到 O2 NH3 CH4 这类强反应气体，但消除现有干扰的同时，又会引入新的干扰。因此通过反应池内的四极杆RPa和RPq电压控制中间产物发生副反应。

Rpa=高质量截取 (high-mass cut, removes ions above a certain mass) ，通常设为零

Rpq=低质量截取 (low-mass cut, removes ions below a certain mass)，根据待测元素，RPq从0.25到0.70。

新手短时间内可能对RPq 难以上手，可以参考PE的应用文献。

我只知道标准模式用Rpq=0.25，碰撞模式Rpq=0.45。其他的也不清楚，进来学习学习。

一般情况是这样，但是这两个数据是可以调的，这就需要你做一些条件实验进行比较了，看设定什么值可以达到你满意的结果！

一般情况下，这两个参数的设置与定量结果的关系不大吧？

参数设置不同只会是影响灵敏度，待测元素信号强度会有变化，定量结果不会因为参数设置不同而改变。

PE ICPMS 主推用“反应模式”消除多原子干扰，会用到 O2 NH3 CH4 这类强反应气体，但消除现有干扰的同时，又会引入新的干扰。因此通过反应池内的四极杆RPa和RPq电压控制中间产物发生副反应。

Rpa=高质量截取 (high-mass cut, removes ions above a certain mass) ，通常设为零

Rpq=低质量截取 (low-mass cut, removes ions below a certain mass)，根据待测元素，RPq从0.25到0.70。

新手短时间内可能对RPq 难以上手，可以参考PE的应用文献。

请timstoICPMS解释一下这两个参数的意义和作用。

你第一句话讲对了，但第二句话有待商榷。

你用的std标液不含基体，但待测样品是有基体——样品的主量元素就是基体。在反应池中 PRa和PRq 控制反应程度，std与sample反应程度有差别，sample中的多原子干扰消除不彻底，进而会影响定量结果。

很高兴看到您的解释，我在回复问题的时候，其实心里也带着一些疑问，因为我不确定复杂基质测试时参数设置对结果的影响，相关的实验做的不多，没有数据支持。

还要请教一下，参数如何设置可以改善基质干扰？有没有规律可循？