硅基板上镀各10nm左右的Ti/Au/Al,而后溅射二氧化钛。测红外。硅基板表面有400nm的SiO2。 其中a为300℃annealing后的样品,b为未处理的样品。 图中的几个峰都是二氧化钛的峰吗?归属是什么?伸缩振动? 未处理的920cm-1的峰是二氧化钛的峰吗? 只在分子筛文献里看到了类似位置的峰,归为Ti四面体的伸缩振动,其他文献中均未看到。由于二氧化钛直接和Al接触,可能是Al-O-Ti或是Al-O-Al的峰吗? 能找到的详细讨论二氧化钛薄膜的红外谱图的文献很少。很是迷惘。 希望各位高人给予指点。 |