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ICP-OES 测试硅元素不稳定,

  • Ins_74bec16d
    2023/02/14
  • 私聊

ICP光谱

  • 使用PE550设备进行硅元素测试,结果值与标准值相差很大。
    使用HF,HNO3溶样,进样系统耐HF。但每次就是进行测试空白时,硅的每秒计数值不稳定,开始很高,多测几次,又变低了,不像金属元素,总是很稳,从而造成硅元素差异很大。
    测试方法要求使用上述溶液,溶液。
    该问题应如何解决,求大神帮助,谢谢!
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  • Whening

    第1楼2023/02/15

    本底值太高,可能进样系统残留,建议清洗或更换进样系统。

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  • Ins_74bec16d

    第2楼2023/02/15

    新买的设备,都没进行几次分析。
    每次都这样,要洗好久才能下来,但是一分析,又上去了,又要洗好久。而且有时候就不好往下洗

    Whening(Insp_42556327) 发表:本底值太高,可能进样系统残留,建议清洗或更换进样系统。

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  • deer

    第3楼2023/02/16

    要用耐氢氟酸的进样系统,玻璃进样系统含硅

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  • Ins_74bec16d

    第4楼2023/02/16

    我们用的就是耐氢氟酸进样系统,测出来就是图中那个数据

    deer(lujun710711) 发表:要用耐氢氟酸的进样系统,玻璃进样系统含硅

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  • Ins_8d9f1bb1

    第5楼2023/02/16

    检察进样系统是不是耐hf 的,检察溶液粘度,在样品之后加洗针

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  • 好想带你去蹦极啊

    第6楼2023/02/18

    长时间冲洗可能会好一点,氢氟酸用的什么级别的?

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  • Ins_74bec16d

    第7楼2023/02/24

    试剂纯的,

    好想带你去蹦极啊(v3037698) 发表:长时间冲洗可能会好一点,氢氟酸用的什么级别的?

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  • 自信且不回家

    第8楼2023/03/03

    注意一下前处理的过程,测硅加氢氟酸不能超过60度消解。用氢氟酸消解含硅的样品的时候,60度的时候氢氟酸和硅会生产四氟化硅气体跑掉。

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  • m3315872

    第9楼2023/04/02

    炬管呢?用的是什么炬管?

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  • JOE HUI

    第10楼2023/04/15

    应助达人

    PE 550应该配的中心管是陶瓷的

    m3315872(m3315872) 发表:炬管呢?用的是什么炬管?

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