紫外光刻胶 AR-N 4400

特点：

• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等

• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm) 

g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron

• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等

• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直

• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度

• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺

• 可替代SU8胶 

旋涂曲线：

应用实例：

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514