电子束光刻胶 PMMA (AR-P 631 ~ 679)

特点：

• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等 

• 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)

• 高分辨率(< 10nm)，高对比度 

•多种分子量：50K、200K、 600K、 950K

• 多种溶剂：苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯

• 多种固含量实现了多种涂胶厚度

• 可定制特殊用PMMA胶

950K PMMA参考涂胶厚度：（其他型号的涂胶厚度，请联系销售人员）

应用实例：

双层PMMA lift-off工艺

PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514