光刻装置和器件制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 19:03:03
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简介:

光刻装置包括第一可移动元件(例如浸入供液系统),其在操作中与第二可移动元件(例如衬底台)的表面接触。另外,该光刻装置包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器(例如衬底台控制器)。由例如第一和第二可移动元件相对于彼此的移动所引起的干扰力,由于毛细管力的缘故扰乱了第一和第二可移动元件的位置。为了至少部分地纠正由于这种干扰力的第二可移动元件的位置,该光刻装置包括用于将干扰力前馈信号提供给第二元件控制器的前馈控制路径,该前馈控制路径包括用于根据第一可移动元件的位置量来估计干扰力的干扰力估计器。

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